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用于周期性光刻圖形尺寸監控的方法

文檔序號:2711622閱讀:288來源:國知局
用于周期性光刻圖形尺寸監控的方法
【專利摘要】本發明公開了一種用于周期性光刻圖形尺寸監控的方法,包括如下步驟:S1:調整自動光學檢測設備的灰階參數,對曝光顯影后的晶圓的膠柱進行灰度測試,通過將膠柱表面反射回來的光進行灰階運算得到灰度值;S2:對所述的膠柱進行尺寸測量得到尺寸值;S3:建立灰度值與尺寸值間的對應關系;S4:逐片進行掃描曝光顯影后的晶圓;S5:將膠柱的灰度值實時通過對應關系輸出為尺寸值。由于采用了以上技術方案,使得在藍寶石圖形化襯底領域可以將黃光蝕刻步驟后的檢測步驟得以簡化,提高了生產效率,降低了生產成本。
【專利說明】用于周期性光刻圖形尺寸監控的方法
【技術領域】
[0001]本發明屬于半導體光電芯片制造領域。
【背景技術】
[0002]在藍寶石圖形化襯底領域,生產廠家通常會通過3D顯徼鏡或者人工目檢的方式來對生產出的曝光顯影后的藍寶石襯底進行膠柱尺寸方面的分選。但是,3D顯徼鏡的單片掃描時間過長,不能滿足大批量的連續生產;而人工目檢又容易因為人的個體差異而引起分選標準不一的情況。

【發明內容】

[0003]本發明旨在提供一種方法來解決大批量藍寶石圖形化襯底生產中黃光膠柱的監控問題。
[0004]為了達到上述目的,本發明提供的一種用于周期性光刻圖形尺寸監控的方法,包括如下步驟:
[0005]S1:調整自動光學檢測設備的灰階參數,對曝光顯影后的晶圓的膠柱進行灰度測試,通過將膠柱表面反射回來的光進行灰階運算得到灰度值;
[0006]S2:對所述的膠柱進行尺寸測量得到尺寸值;
[0007]S3:建立灰度值與尺寸值間的對應關系;
[0008]S4:逐片進行掃描曝光顯影后的晶圓;
[0009]S5:將膠柱的灰度值實時通過對應關系輸出為尺寸值。
[0010]本發明通過使用具有灰度測試的設備來進行黃光膠柱的監控工作。一般地,AOI設備通常用于處理晶圓生產中的表面缺陷檢測,但是利用AOI設備的灰度功能,卻可以很好地進行黃光膠柱尺寸的監控。根據灰度成像原理可知,設備是將不同表面反射回來的光進行了灰階運算,從而得到了灰度值。而不同尺寸的膠柱,其表面反射情況就不同,從而會得到不同的灰度值。因此,我們可以通過監控灰度值,而間接了解黃光膠柱的尺寸,從而為監控提供了便利。
[0011]作為進一步的改進,所述的步驟S1、S2中隨機選取多個膠柱進行灰度值與尺寸值的測量以減小測量的誤差。
[0012]作為進一步的改進,所述的步驟S1、S2中針對同一膠柱多次測量后取平均值以減小測量的誤差。
[0013]作為進一步的改進,所述的步驟SI中調整自動光學檢測設備的灰階參數以使不同尺寸的膠柱在灰階范圍內均勻分布。
[0014]作為進一步的改進,所述的步驟S2中,通過3D光學顯微鏡或S E M設備對晶圓進行尺寸測量。
[0015]作為進一步的改進,所述的步驟S5包括設定尺寸值的閾值的步驟,當檢測到超出閾值范圍的尺寸值時,輸出提示信號并記錄位置信息。[0016]由于采用了以上技術方案,使得在藍寶石圖形化襯底領域可以將黃光蝕刻步驟后的檢測步驟得以簡化,提高了生產效率,降低了生產成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1為根據本發明的用于周期性光刻圖形尺寸監控的方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0018]下面結合附圖對本發明的較佳實施例進行詳細闡述,以使本發明的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解,從而對本發明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。
[0019]參見附圖1所示,為根據本發明的用于周期性光刻圖形尺寸監控的方法的流程圖。該方法包括如下步驟:
[0020]S1:調整自動光學檢測設備的灰階參數,對曝光顯影后的晶圓的膠柱進行灰度測試,通過將膠柱表面反射回來的光進行灰階運算得到灰度值;
[0021]S2:通過3D光學顯微鏡或S E M設備對膠柱進行尺寸測量得到尺寸值;
[0022]S3:建立灰度值與尺寸值間的對應關系;
[0023]S4:逐片進行掃描曝光顯影后的晶圓;
[0024]S5:將膠柱的灰度值實時通過對應關系輸出為尺寸值。
[0025]為了盡可能的減小測量過程所帶來的誤差,步驟S1、S2中隨機選取多個膠柱進行灰度值與尺寸值的測量以減小測量的誤差,例如可以是位置間隔較遠的隨機選取的膠柱;另外,步驟S1、S2中針對同一膠柱多次測量后取平均值以減小測量的誤差。
[0026]需要說明的是,在步驟SI中調整自動光學檢測設備的灰階參數以使不同尺寸的膠柱在灰階范圍內均勻分布,AOI設備通常用于處理晶圓生產中的表面缺陷檢測,但是利用AOI設備的灰度功能,卻可以很好地進行黃光膠柱尺寸的監控。根據灰度成像原理可知,設備是將不同表面反射回來的光進行了灰階運算,從而得到了灰度值。而不同尺寸的膠柱,其表面反射情況就不同,從而會得到不同的灰度值。因此,我們可以通過監控灰度值,而間接了解黃光膠柱的尺寸,從而為監控提供了便利。
[0027]作為進一步的改進,在步驟S5包括設定尺寸值的閾值的步驟,當檢測到超出閾值范圍的尺寸值時,輸出提示信號并記錄位置信息,使得在藍寶石圖形化襯底領域可以將黃光蝕刻步驟后的檢測步驟得以簡化,提高了生產效率,降低了生產成本。
[0028]以上實施方式只為說明本發明的技術構思及特點,其目的在于讓熟悉此項技術的人了解本發明的內容并加以實施,并不能以此限制本發明的保護范圍,凡根據本發明精神實質所做的等效變化或修飾,都應涵蓋在本發明的保護范圍內。
【權利要求】
1.一種用于周期性光刻圖形尺寸監控的方法,其特征在于,包括如下步驟: S1:調整自動光學檢測設備的灰階參數,對曝光顯影后的晶圓的膠柱進行灰度測試,通過將膠柱表面反射回來的光進行灰階運算得到灰度值; 52:對所述的膠柱進行尺寸測量得到尺寸值; 53:建立灰度值與尺寸值間的對應關系; 54:逐片進行掃描曝光顯影后的晶圓; 55:將膠柱的灰度值實時通過對應關系輸出為尺寸值。
2.根據權利要求1所述的用于周期性光刻圖形尺寸監控的方法,其特征在于:所述的步驟S1、S2中隨機選取多個膠柱進行灰度值與尺寸值的測量。
3.根據權利要求1所述的用于周期性光刻圖形尺寸監控的方法,其特征在于:所述的步驟S1、S2.中針對同一膠柱多次測量后取平均值。
4.根據權利要求1所述的用于周期性光刻圖形尺寸監控的方法,其特征在于:所述的步驟SI中調整自動光學檢測設備的灰階參數以使不同尺寸的膠柱在灰階范圍內均勻分布。
5.根據權利要求1所述的用于周期性光刻圖形尺寸監控的方法,其特征在于:所述的步驟S2中,通過3D光學顯微鏡或SEM設備對晶圓進行尺寸測量。
6.根據權利要求1所述的用于周期性光刻圖形尺寸監控的方法,其特征在于:所述的步驟S5包括設定尺寸值的閾值的步驟,當檢測到超出閾值范圍的尺寸值時,輸出提示信號并記錄位置信息。
【文檔編號】G03F7/20GK103852976SQ201410126862
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2014年4月1日 優先權日:2014年4月1日
【發明者】陳起偉, 魏臻, 孫智江, 施榮華 申請人:海迪科(蘇州)光電科技有限公司
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