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一種用于無掩模掃描光刻的大面積曝光方法與流程

文檔序號：11152937閱讀：來源：國知局

導航： X技術> 最新專利>攝影電影;光學設備的制造及其處理,應用技術>一種用于無掩模掃描光刻的大面積曝光方法與制造工藝

技術總結
一種用于無掩模掃描光刻的大面積曝光方法，用于提高大面積光刻尤其是批量光刻中的圖像預處理速度。本發明采用N組（每組m個）數字微鏡DMD，在曝光圖像的預處理階段，只生成圖像中相似的N塊區域中的一份曝光幀數據；相應地把N組數字微鏡DMD調整到N塊區域的相應的起點，然后它們保持相對位置不變，連續掃描曝光同一份曝光幀數據。本發明可以大幅度提高圖像預處理速度，減少生成的曝光幀數據的冗余，從而提高無掩模掃描光刻系統的整體效率。

技術研發人員：楊剛;武洋;吳晨楓;石峰
受保護的技術使用者：西安電子科技大學
文檔號碼：201710103930
技術研發日：2017.02.24
技術公布日：2017.05.10

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