一種基板曝邊設備的制作方法

本發明涉及顯示技術領域，具體涉及一種基板曝邊設備。

背景技術：

光刻工藝是現代顯示器生產的核心工藝之一，其主要包括涂布、曝光和顯影等制程。曝邊制程是曝光之后、顯影之前的輔助制程，主要目的是對位于基板邊緣區域的厚度異常的光阻進行充分曝光，以便在顯影制程中能夠將曝邊部分的光阻全部溶解掉，從而有利于蝕刻制程中將邊緣的膜全部去除，避免后續制程和工藝上的不良。

現有技術中，曝邊設備的承載臺采用支撐柱設計，在基板的周向邊緣處同樣設置有用于支撐的支撐柱，如圖1、圖2所示。在基板11的非邊緣區域112設置有用于支撐基板11的支撐柱12和用于固定基板11的真空吸盤13。在曝邊制程中，基板11的周向邊緣區域111的光阻113膜厚很厚，為了保證在曝邊制程中基板11的穩定性和曝邊品質，沿基板11的周向邊緣區域111同樣設置有支撐柱12。為了確保后續制程中能夠將位于周向邊緣區域111內的光阻113去除，需要采用較強的曝光能量。然而，過強的曝邊光線14能夠穿過光阻113和基板11，直接抵達位于基板11下方的支撐柱12。支撐柱12表面會有反射光15反射回基板11，從而造成基板缺陷，如圖3所示。此缺陷的形狀與支撐柱和基板接觸的表面形狀大體相當。為了防止該缺陷的產生，無論是挪動支撐柱的位置或減小支撐柱和基板接觸的表面大小都會帶來支撐不穩的風險。

技術實現要素：

針對現有技術中的不足，本發明提出了一種基板曝邊設備。

本發明提出的基板曝邊設備，包括用于承載基板的承載臺，所述承載臺包括外圍的固定裝置、設置在所述固定裝置上用于承載基板的透明支撐部和被所述透明支撐部包圍的中間支撐部，在基板的曝邊制程中，所述透明支撐部能夠使曝邊光線穿過而不會形成反射光。

曝邊光線穿過透明支撐部、不形成反射光，就避免了反射光對基板的損傷，避免了由此產生的缺陷。本發明中的透明支撐部能夠完全替代現有技術中的用于支撐基板周向邊緣的支撐柱，也就不需要為了防止缺陷的產生而另外更換與基板接觸面積較小的支撐柱，進一步節省了機臺升級的成本。

作為對透明支撐部的改進，所述透明支撐部的材料為玻璃。玻璃不僅具有良好的透光性，而且還具有很高的強度，保證了支撐的性能。

作為對透明支撐部的改進，所述透明支撐部包括在基板法線方向上與基板重合的支撐區域和將所述支撐區域固定在所述固定裝置上的固定區域，所述支撐區域的朝向基板的一側與基板緊密貼合。支撐區域的朝向基板的一側與基板緊密貼合使得支撐板與基板結合為一體，因此，曝邊的光線在穿過基板的同時也穿過了透明支撐部，不會再產生反射光線。

作為對透明支撐部的支撐區域的改進，所述支撐區域在基板的法線方向上的厚度均勻。厚度均勻的支撐區域，就限定了在支撐區域的背離基板的一側不存在凸點，因此，當光線由靠近基板的一側進入支撐區域并射入到背離基板的一側時就不會產生由于凸點導致的散射，避免了光線反射回基板造成缺陷。

作為對透明支撐部的固定區域的改進，所述固定區域在基板的法線方向上的厚度自所述支撐區域向所述固定裝置方向逐漸增加。這樣的固定區域具有更高的強度，能夠更好地對支撐區域進行支撐，以便更好地支撐基板。

作為對固定裝置的進一步改進，所述固定裝置包括固定臺和設置在所述固定臺與所述透明支撐部之間的高度調節機構，通過所述高度調節機構能夠調節所述透明支撐部在沿基板法線方向上的高度。當基板被放置在機臺上時，由位于基板的非邊緣區域的中間支撐部和邊緣區域的透明支撐部共同支撐，同時要保證基板的平整度。但由于中間支撐部和透明支撐部屬于不同的組裝過程，所以中間支撐部的支撐高度和透明支撐部的支撐高度之間會存在一定誤差，為了防止此誤差影響基板的平整度，可以通過該高度調節機構調整透明支撐部相對于中間支撐部的高度，從而使得透明支撐部的支撐高度與中間支撐部的支撐高度相匹配，保證基板的平整度。

作為對中間支撐部的進一步改進，所述中間支撐部包括支撐柱，進一步包括真空吸盤。支撐柱用于對基板的中間區域形成支撐，真空吸盤協助固定基板。

作為對承載臺的進一步改進，在所述承載臺的一側上設置有供機械手將基板放置在承載臺上的空缺區域。

本發明提出的曝邊設備，在基板的邊緣區域支撐基板的透明支撐部透明，從而使得曝光光線穿過而不會形成反射光，避免了反射光對基板的損傷和由此產生的缺陷。尤其當透明支撐部的材料為玻璃時，不僅具有良好的透光性，而且還具有很高的強度，保證了支撐裝置的性能。

附圖說明

在下文中將基于實施例并參考附圖來對本發明進行更詳細的描述。其中：

圖1為現有技術中曝邊設備的俯視結構示意圖；

圖2為圖1的左視示意圖；

圖3為現有技術中曝邊光線產生反射光的示意圖；

圖4為本發明提出的曝邊設備的俯視結構示意圖；

圖5為圖4中的a-a剖視示意圖；

圖6為高度調節機構的結構示意圖。

在附圖中，相同的部件使用相同的附圖標記。附圖并未按照實際的比例。

具體實施方式

以下將結合附圖對本發明的內容作出詳細的說明，下文中的“上”“下”“左”“右”均為相對于圖示方向，不應理解為對本發明的限制。

如圖4所示，為本發明的曝邊設備的俯視示意圖。曝邊設備包括用于承載基板的承載臺，承載臺包括外圍的固定裝置30、設置在固定裝置30上用于承載基板21的透明支撐部31和被透明支撐部31包圍的中間支撐部212，中間支撐部212包括用于支撐基板21中間區域的支撐柱22和用于進一步固定基板21的真空吸盤23。透明支撐部31能夠使曝邊光線穿過而不會形成反射光，從而也就不會有反射光反射回基板21形成缺陷。

優選地，透明支撐部31的材料為玻璃。選用玻璃作為透明支撐部31，不僅保證了其具有良好的透光性，而且玻璃的高強度保證了支撐的性能。

如圖5為承載臺與基板21的配合結構示意圖。為了保證透明支撐部31的性能，透明支撐部31包括在基板21法線方向上與基板21重合的支撐區域33和將支撐區域33固定在固定裝置30上的固定區域34。曝邊光線24穿過基板21后，通過支撐區域33的朝向基板21一側的第一邊線331進入透明支撐部31中。為了防止曝邊光線24在第一邊線331上產生反射，第一邊線331與基板21的底部緊密貼合，這樣，支撐區域33就與基板21合為一體，從而曝邊光線24就能直接進入透明支撐部31而不會在第一邊線331上產生反射。曝邊光線24在透明支撐部31內部傳輸，經過支撐區域33的背離基板21一側的第二邊線332射出，為了防止在射出第二邊線332時產生反射光線，支撐區域33在基板21的法線方向上的厚度均勻。厚度均勻的支撐區域33，就限定了在支撐區域33的背離基板21一側的第二邊線332上不存在凸點，因此，當光線射到第二邊線332時，就不會產生由于凸點導致的散射，避免了光線反射回基板21造成缺陷。

為了保證固定區域34對支撐區域33的支撐性能，優選地，固定區域34在基板21的法線方向上的厚度自支撐區域33向固定裝置30方向逐漸增加。這種結構的固定區域34增大了其與固定臺32的接觸面積，使得其對支撐區域33具有良好的支撐性能。

在一個優選的實施例中，固定裝置30包括固定臺32和設置在固定臺32與透明支撐部31之間的高度調節機構40。優選地，高度調節機構40與透明支撐部31固定在一起。結合圖6，在高度調節機構40上設置有沿基板法線方向延伸的長孔401，在固定臺32上設置有與長孔401相匹配的螺紋孔403，通過螺釘402將高度調節機構40固定在固定臺32上，從而固定透明支撐部31。當需要調節透明支撐部31在沿基板法線方向上的高度時，松開螺釘402，調節支撐板31至適宜高度，然后緊固螺釘402，從而完成透明支撐部31的高度調節。

當然，在其他的實施例中，高度調節機構可以選擇自動式的高度調節機構，根據需要自動調節透明支撐部的高度，避免人為誤差。

當基板被放置在機臺上時，由位于基板的非邊緣區域的中間支撐部和邊緣區域的透明支撐部共同支撐，同時要保證基板的平整度。但由于中間支撐部和透明支撐部屬于不同的組裝過程，所以透明支撐部的支撐高度和中間支撐部的支撐高度之間會存在一定誤差，通過高度調節機構能夠調整透明支撐部相對于中間支撐部的高度，從而能夠彌補組裝誤差，使得透明支撐部的支撐高度與中間支撐部的支撐高度相匹配，保證基板的平整度。

在將基板放置在承載臺上時，機械手需要夾持基板的邊緣，如圖4所示，在承載臺的一側上設置有供機械手將基板放置在承載臺上的空缺區域50。從而機械手不會與支撐裝置干涉，保證了工序的順利進行。

最后說明的是，以上實施例僅用于說明本發明的技術方案而非限制，盡管參照較佳實施例對本發明進行了詳細說明，本領域的普通技術人員應當理解，可以對本發明的技術方案進行修改或者等同替換。尤其是，只要不存在結構上的沖突，各實施例中的特征均可相互結合起來，所形成的組合式特征仍屬于本發明的范圍內。只要不脫離本發明技術方案的宗旨和范圍，其均應涵蓋在本發明的權利要求范圍當中。