本發明涉及液晶顯示器薄膜晶體管（tft）行業電子化學品技術領域，具體涉及一種tft行業銅制程用高回收率環保型剝離液。
背景技術：
在液晶面板等制造過程中，需要通過多次圖形掩膜照射曝光及蝕刻等工序在硅晶圓或玻璃基片形成多層精密的微電路，形成微電路之后，進一步使用專用的剝離液將涂覆在微電路保護區域上作為掩膜的光刻膠除去。剝離過程是將剝離液噴淋到刻蝕后的產品表面，剝離液會將未被紫外線照射的感光光阻溶解掉，留下被保護的部分，從而形成線路。
光刻膠在剝離去除的過程中，產生大量有機廢液，回收處理這種廢液的比例對環境及成本有較大影響，對剝離液成分進行改進從而達到高回收率是本領域技術人員需要思考的技術課題。
技術實現要素：
本發明所要解決的技術問題是針對上述現有技術提供一種tft行業銅制程用剝離液，在滿足有效剝離銅制程工藝中光刻膠的前提下，通過選擇低沸點溶劑，使得使用后的廢液有著較高的回收率。
本發明解決上述問題所采用的技術方案為：一種tft行業銅制程用剝離液，包括如下質量百分比的成分
醇醚40～50%，
低沸點有機溶劑30～45%，
緩蝕劑1～5%，
非離子型表面活性劑1～5%，
余量為純水。
優選地，所述醇醚為二乙二醇單丁醚、丙二醇單丁醚、二丙二醇單丁醚、二乙二醇單甲醚、乙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二丙二醇單乙醚中的一種或幾種。
優選地，低沸點有機溶劑為酰胺類或內酰胺類低沸點有機溶劑中的一種或幾種。
優選地，低沸點有機溶劑為n-甲基甲酰胺、n,n-二甲基甲酰胺、n,n-二甲基乙酰胺、n,n-二乙基乙酰胺、n-甲基-2-吡咯烷酮、n-乙基-2-吡咯烷酮、n-丙基-2-吡咯烷酮中的一種或幾種。
優選地，緩蝕劑為膦羧酸（pbtca）、巰基苯并噻唑、苯并三唑中的一種或幾種。保護金屬層，不致于被腐蝕。
優選地，非離子型表面活性劑為烷基酚聚氧乙烯醚。
優選地，烷基酚聚氧乙烯醚為辛基酚聚氧乙烯醚和壬基酚聚氧乙烯醚中的一種。
與現有技術相比，本發明的優點在于：該剝離液剝離速度適中，在1000倍顯微鏡下，剝離后的晶圓表面無光刻膠殘留；10000倍顯微鏡下，對銅金屬層幾乎沒有腐蝕。與現有技術中銅制程用剝離液相比，該剝離液在常溫下非常穩定，剝離速度快，使用成本低，壽命長。采用低沸點的有機溶劑后能夠顯著提高剝離液中有效成分的回收。
具體實施方式
以下結合實施例對本發明作進一步詳細描述。
實施例1
剝離液成分與重量百分比分別為：
醇醚50%
低沸點有機溶劑30%
緩蝕劑5%
非離子型表面活性劑5%
余量為純水。
其中，醇醚為二乙二醇單丁醚、丙二醇單丁醚、二丙二醇單丁醚、二乙二醇單甲醚、乙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二丙二醇單乙醚的一種或幾種，優選二乙二醇單丁醚。其中，低沸點有機溶劑為酰胺類或內酰胺類低沸點有機溶劑中的一種或幾種，優選n-甲基甲酰胺作為低沸點有機溶劑。其中，緩蝕劑為膦羧酸（pbtca）、巰基苯并噻唑、苯并三唑的一種或幾種，優選苯并三唑作為緩蝕劑。其中，非離子型表面活性劑為烷基酚聚氧乙烯醚，優選壬基酚聚氧乙烯醚作為表面活性劑。
實施例2
剝離液成分與重量百分比分別為：
醇醚40%
低沸點有機溶劑45%
緩蝕劑1%
非離子型表面活性劑1%
余量為純水。
其中，醇醚為二乙二醇單丁醚、丙二醇單丁醚、二丙二醇單丁醚、二乙二醇單甲醚、乙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二丙二醇單乙醚中的一種或幾種，優選二乙二醇單丁醚和丙二醇單甲醚中的混合溶液。其中，低沸點有機溶劑為酰胺類或內酰胺類低沸點有機溶劑中的一種或幾種，優選n-甲基甲酰胺與n-丙基-2-吡咯烷酮混合溶劑作為低沸點有機溶劑。其中，緩蝕劑為膦羧酸（pbtca）、巰基苯并噻唑、苯并三唑中的一種或幾種，優選苯并三唑與巰基苯并噻唑兩者的混合物作為緩蝕劑。其中，非離子型表面活性劑為烷基酚聚氧乙烯醚，優選壬基酚聚氧乙烯醚作為表面活性劑。
實施例3
剝離液成分與重量百分比分別為：
醇醚45%
低沸點有機溶劑40%
緩蝕劑3%
非離子型表面活性劑2%
余量為純水。
其中，醇醚為二乙二醇單丁醚、丙二醇單丁醚、二丙二醇單丁醚、二乙二醇單甲醚、乙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二丙二醇單乙醚的一種或幾種，優選丙二醇單甲醚。其中，低沸點有機溶劑為酰胺類或內酰胺類低沸點有機溶劑中的一種或幾種，優選n-甲基甲酰胺作為低沸點有機溶劑。其中，緩蝕劑為膦羧酸（pbtca）、巰基苯并噻唑、苯并三唑的一種或幾種，優選苯并三唑與膦羧酸（pbtca）兩者的混合物作為緩蝕劑。其中，非離子型表面活性劑為烷基酚聚氧乙烯醚，優選辛基酚聚氧乙烯醚作為表面活性劑。
上述各實施例的剝離液成本低，穩定，在有效清除膠的同時亦不會對銅金屬造成腐蝕。
除上述實施例外，本發明還包括有其他實施方式，凡采用等同變換或者等效替換方式形成的技術方案，均應落入本發明權利要求的保護范圍之內。