一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板及其制備方法
【專利摘要】本發明提供一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板及其制備方法，涉及顯示技術領域，可保證取向層的均勻性，且可減小液晶顯示器的厚度、降低生產成本。該彩膜基板的制備方法包括：在襯底上依次形成黑矩陣和彩色濾光層；形成黑矩陣包括：采用第一漸變透過率掩模板形成側面為楔形面的黑矩陣；其中，第一漸變透過率掩模板的透過率漸變部分與待形成的黑矩陣的側面對應；形成彩色濾光層包括：采用第二漸變透過率掩模板、第三漸變透過率掩模板和第四漸變透過率掩模板依次形成第一基色濾光圖案、第二基色濾光圖案和第三基色濾光圖案，其中，漸變透過率掩模板的透過率漸變部分與待形成基色濾光圖案的與黑矩陣搭接的部分對應。
【專利說明】
一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板及其制備方法
技術領域
[0001]本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板及其制備方法。
【背景技術】
[0002]液晶顯示器(Liquid Crystal Display，簡稱LCD)具有機身輕薄、耗電低、無福射、使用壽命長等優點。
[0003]液晶顯示器包括陣列基板和彩膜基板。其中，彩膜基板包括用于避免漏光和混光的BM(black matrix，黑矩陣)和彩色濾光層，彩色濾光層包括第一基色濾光圖案例如紅色濾光圖案、第二基色濾光圖案例如綠色濾光圖案、第三基色濾光圖案例如藍色濾光圖案。
[0004]現有技術中的彩膜基板，如圖1所示，BM02形成在襯底01上，彩色濾光層03通過構圖工藝形成在BM02上，而彩色濾光層03的第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32以及第三基色濾光圖案33與BM02接觸的位置處都會產生凸起，本領域技術人員稱之為角段差。由于角段差的存在會影響取向層04涂布的均勻性，而取向層04涂布不均勻會造成液晶分子取向混亂，導致顯示異常。
[0005]為了解決上述問題，本領域技術人員提出在彩色濾光層03上增加一層0C(0verCoating，涂覆保護)層50來抹平角段差。其中，BM02的遮光能力與其厚度成正比，目前批量生產的彩膜基板中，BM02的厚度為1.2um，其厚度無法進一步減小。而OC層50的厚度需要達至IJl.5um才能抹平角段差，這樣一來，增加了液晶顯示器的厚度，提高了生產成本。
【發明內容】
[0006]本發明的實施例提供一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板及其制備方法，可保證取向層的均勻性，且可減小液晶顯示器的厚度、降低生產成本。
[0007]為達到上述目的，本發明的實施例采用如下技術方案:
[0008]第一方面，提供一種彩膜基板的制備方法，包括在襯底上依次形成黑矩陣和彩色濾光層，所述彩色濾光層包括第一基色濾光圖案、第二基色濾光圖案和第三基色濾光圖案；形成所述黑矩陣包括:采用第一漸變透過率掩模板形成側面為楔形面的黑矩陣;其中，所述第一漸變透過率掩模板的透過率漸變部分與待形成的所述黑矩陣的側面對應;形成所述彩色濾光層包括:采用第二漸變透過率掩模板形成所述第一基色濾光圖案，其中，所述第二漸變透過率掩模板的透過率漸變部分與待形成所述第一基色濾光圖案的與所述黑矩陣搭接的部分對應;采用第三漸變透過率掩模板形成所述第二基色濾光圖案，其中，所述第三漸變透過率掩模板的透過率漸變部分與待形成所述第二基色濾光圖案的與所述黑矩陣搭接的部分對應;采用第四漸變透過率掩模板形成所述第三基色濾光圖案，其中，所述第四漸變透過率掩模板的透過率漸變部分與待形成所述第三基色濾光圖案的與所述黑矩陣搭接的部分對應。
[0009]優選的，形成所述黑矩陣，具體包括:在襯底上形成黑矩陣薄膜;將第一漸變透過率掩模板置于所述黑矩陣薄膜一側;其中，所述第一漸變透過率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透過率漸變部分;使所述完全透光部分和所述透過率漸變部分對應待形成的所述黑矩陣，使所述完全不透光部分對應其他區域;其中，所述完全透光部分與待形成黑矩陣的上表面在所述襯底上的投影完全對應，所述透過率漸變部分與待形成黑矩陣的側面在所述襯底上的投影完全對應;以所述透過率漸變部分與所述完全透光部分接觸的一側為參考，所述透過率漸變部分的透過率逐漸降低;對所述黑矩陣薄膜進行曝光，顯影后形成所述黑矩陣。
[0010]進一步優選的，以任意所述透過率漸變部分與所述完全透光部分接觸的一側為參考，所述透過率漸變部分的透過率變化規律一致。
[0011 ]基于上述，優選的，形成所述第一基色濾光圖案，包括:在形成有所述黑矩陣的襯底上形成第一基色濾光薄膜;將第二漸變透過率掩模板置于所述黑矩陣一側，所述第二漸變透過率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透過率漸變部分;使所述完全透光部分和所述透過率漸變部分對應待形成的所述第一基色濾光圖案，使所述完全不透光部分對應其他區域;其中，所述完全透光部分對應待形成第一基色濾光圖案不與所述黑矩陣接觸的部分，所述透過率漸變部分對應待形成第一基色濾光圖案與所述黑矩陣接觸的部分；以所述透過率漸變部分與所述完全透光部分接觸的一側為參考，所述透過率漸變部分的透過率逐漸降低；對所述第一基色濾光薄膜進行曝光，顯影后形成所述第一基色濾光圖案。
[0012]優選的，形成所述第二基色濾光圖案，包括:在形成有所述黑矩陣的襯底上形成第二基色濾光薄膜;將第三漸變透過率掩模板置于所述黑矩陣一側，所述第三漸變透過率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透過率漸變部分;使所述完全透光部分和所述透過率漸變部分對應待形成的所述第二基色濾光圖案，使所述完全不透光部分對應其他區域;其中，所述完全透光部分對應待形成第二基色濾光圖案不與所述黑矩陣接觸的部分，所述透過率漸變部分對應待形成第二基色濾光圖案與所述黑矩陣接觸的部分；以所述透過率漸變部分與所述完全透光部分接觸的一側為參考，所述透過率漸變部分的透過率逐漸降低;對所述第二基色濾光薄膜進行曝光，顯影后形成所述第二基色濾光圖案。
[0013]進一步優選的，形成所述第三基色濾光圖案，包括:在形成有所述黑矩陣的襯底上形成第三基色濾光薄膜;將第四漸變透過率掩模板置于所述黑矩陣一側，所述第四漸變透過率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透過率漸變部分;使所述完全透光部分和所述透過率漸變部分對應待形成的所述第三基色濾光圖案，使所述完全不透光部分對應其他區域;其中，所述完全透光部分對應待形成第三基色濾光圖案不與所述黑矩陣接觸的部分，所述透過率漸變部分對應待形成第三基色濾光圖案與所述黑矩陣接觸的部分；以所述透過率漸變部分與所述完全透光部分接觸的一側為參考，所述透過率漸變部分的透過率逐漸降低;對所述第三基色濾光薄膜進行曝光，顯影后形成所述第三基色濾光圖案。
[0014]優選的，所述方法還包括在彩色濾光層上方形成OC層，所述OC層的厚度為0.5土0.16um0
[0015]第二方面，提供一種顯示面板的制備方法，所述顯示面板包括彩膜基板，所述彩膜基板通過上述第一方面所述的方法制備得到。
[0016]第三方面，提供一種彩膜基板，包括:襯底、設置在所述襯底上的黑矩陣、以及設置在所述黑矩陣上方的彩色濾光層，所述彩色濾光層包括第一基色濾光圖案、第二基色濾光圖案和第三基色濾光圖案;所述黑矩陣的側面為楔形面，且所述黑矩陣的靠近所述襯底的下表面的面積大于上表面的面積;所述第一基色濾光圖案、所述第二基色濾光圖案和所述第三基色濾光圖案的上表面平坦。
[0017]優選的，所述黑矩陣的相對側面的傾斜角度相同。
[0018]基于上述，優選的，還包括設置在所述彩色濾光層上方形成OC層，所述OC層的厚度為 0.5±0.16um0
[0019]第四方面，提供一種顯示面板，包括彩膜基板，所述彩膜基板為上述第三方面所述的彩膜基板。
[0020]本發明實施例提供一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板及其制備方法，通過采用漸變透過率掩模板將黑矩陣的側面形成為楔形形狀，并通過漸變透過率掩模板使彩色濾光層的第一基色濾光圖案、第二基色濾光圖案和第三基色濾光圖案分別與黑矩陣搭接處的厚度由各自邊緣向中間部分逐漸遞增，使任意搭接位置處，黑矩陣的厚度與相應位置處濾光圖案厚度疊加后的總厚度，與濾光圖案的不與黑矩陣搭接處的厚度一致，可使第一基色濾光圖案、第二基色濾光圖案和第三基色濾光圖案的上表面平坦。基于此，相對現有技術，可無需采用厚度較厚的OC層來保證取向層涂布的均勻性，進而可減小液晶顯示器的厚度，降低生產成本。
【附圖說明】
[0021]為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0022]圖1為現有技術提供的一種彩膜基板的結構示意圖；
[0023]圖2為本發明實施例提供的一種彩膜基板的結構示意圖一；
[0024]圖3(a)為本發明實施例提供的一種制備黑矩陣的過程示意圖一；
[0025]圖3(b)為本發明實施例提供的一種制備黑矩陣的過程示意圖二；
[0026]圖4(a)為本發明實施例提供的一種制備第一基色濾光圖案的過程示意圖一；
[0027]圖4(b)為本發明實施例提供的一種制備第一基色濾光圖案的過程示意圖二；
[0028]圖5(a)為本發明實施例提供的一種制備第二基色濾光圖案的過程示意圖一；
[0029]圖5(b)為本發明實施例提供的一種制備第二基色濾光圖案的過程示意圖二；
[0030]圖6(a)為本發明實施例提供的一種制備第三基色濾光圖案的過程示意圖一；
[0031]圖6(b)為本發明實施例提供的一種制備第三基色濾光圖案的過程示意圖二；
[0032]圖7為本發明實施例提供的一種制備黑矩陣的流程示意圖；
[0033]圖8為本發明實施例提供的一種制備第一基色濾光層的流程示意圖；
[0034]圖9為本發明實施例提供的一種制備第二基色濾光層的流程示意圖；
[0035]圖10為本發明實施例提供的一種制備第三基色濾光層的流程示意圖；
[0036]圖11為本發明實施例提供的一種彩膜基板的結構示意圖二。
[0037]附圖標記:
[0038]01-襯底;02-黑矩陣；21-黑矩陣薄膜;02a-黑矩陣的側面;02b-黑矩陣的上表面；03-彩色濾光層;04-取向層;10-第一漸變透過率掩模板;1a-透過率漸變部分；1b-完全透光部分；1d-完全不透光部分;20-第二漸變透過率掩模板;30-第三漸變透過率掩模板;31-第一基色濾光圖案；32-第二基色濾光圖案；33-第三基色濾光圖案;40-第四漸變透過率掩模板;50-0C層。
【具體實施方式】
[0039]下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。
[0040]本發明實施例提供一種彩膜基板的制備方法，如圖2所示，包括在襯底01上依次形成黑矩陣02和彩色濾光層03，彩色濾光層03包括第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33。
[0041]具體的，如圖3(a)_3(b)所示，形成黑矩陣02包括:采用第一漸變透過率掩模板10形成側面為楔形面的黑矩陣02;其中，第一漸變透過率掩模板10的透過率漸變部分1a與待形成的黑矩陣的側面02a對應。
[0042]形成彩色濾光層包括:如圖4(a)_4(b)所示，采用第二漸變透過率掩模板20形成第一基色濾光圖案31，其中，第二漸變透過率掩模板30的透過率漸變部分1a與待形成第一基色濾光圖案31的與黑矩陣02搭接的部分對應;如圖5(a)-5(b)所示，采用第三漸變透過率掩模板30形成第二基色濾光圖案32，其中，第三漸變透過率掩模板30的透過率漸變部分1a與待形成第二基色濾光圖案32的與黑矩陣02搭接的部分對應;如圖6(a)-6(b)所示，采用第四漸變透過率掩模板40形成第三基色濾光圖案33，其中，第四漸變透過率掩模板40的透過率漸變部分1a與待形成第三基色濾光圖案33的與黑矩陣02搭接的部分對應。
[0043]需要說明的是，第一，第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33的顏色各不相同，只要三者的顏色為三基色即可。
[0044]其中，第一基色、第二基色和第三基色可以互為紅色、藍色和綠色，例如，第一基色為紅色、第二基色為黃色、第三基色為紅色，當然也可以是其他組合。或者，第一基色、第二基色和第三基色也可以互為青色、品紅和黃色，例如，第一基色為青色、第二基色為品紅、第三基色為黃色，當然也可以是其他組合。
[0045]第二，本領域技術人員應該明白，通過漸變透過率掩模板刻蝕出的側面為楔形面的黑矩陣02，其靠近襯底01的下表面的面積應大于上表面的面積。
[0046]第三，為使彩色濾光層03的上表面保持平坦，通過漸變透過率掩模板刻蝕出的第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33在與黑矩陣02搭接處的厚度，由各自邊緣向中間部分逐漸遞增，使任意搭接位置處，黑矩陣02的厚度與相應位置處濾光圖案厚度疊加后的總厚度，與濾光圖案的不與黑矩陣02搭接處的厚度一致。
[0047]本發明實施例提供的彩膜基板的制備方法，通過采用漸變透過率掩模板將黑矩陣02的側面形成為楔形形狀，并通過漸變透過率掩模板使彩色濾光層03的第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33分別與黑矩陣02搭接處的厚度由各自邊緣向中間部分逐漸遞增，使任意搭接位置處，黑矩陣02的厚度與相應位置處濾光圖案厚度疊加后的總厚度，與濾光圖案的不與黑矩陣02搭接處的厚度一致，可使第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33的上表面平坦。基于此，相對現有技術，可無需采用厚度較厚的OC層來保證取向層涂布的均勻性，進而可減小液晶顯示器的厚度，降低生產成本。
[0048]優選的，黑矩陣02和彩色濾光層03的材料可以為負性感光樹脂材料。這樣，每次構圖工藝僅需要成膜、曝光、顯影，便可形成黑矩陣02、第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33。
[0049]基于此，如圖7所示，形成黑矩陣02包括如下步驟:
[0050]S10、如圖3(a)所示，在襯底01上形成黑矩陣薄膜21。
[0051]S11、如圖3(b)所示，將第一漸變透過率掩模板10置于黑矩陣薄膜21—側;其中，第一漸變透過率掩模板10包括完全透光部分10b、完全不透光部分10d、以及透過率漸變部分1a0
[0052]S12、如圖3(b)所示，使完全透光部分1b和透過率漸變部分1a對應待形成的黑矩陣02，使完全不透光部分1d對應其他區域。
[0053]其中，完全透光部分1b與待形成黑矩陣的上表面02b在襯底01上的投影完全對應，透過率漸變部分1a與待形成黑矩陣的側面02a在襯底01上的投影完全對應；以透過率漸變部分1a與完全透光部分1b接觸的一側為參考，透過率漸變部分1a的透過率逐漸降低。
[0054]S13、如圖3(b)所示，對黑矩陣薄膜21進行曝光，顯影后形成所述黑矩陣02。
[0055]需要說明的是，第一，如圖3(b)所示，以透過率漸變部分1a與完全透光部分1b接觸的一側為參考，沿該側到透過率漸變部分1a與完全不透光部分1d接觸的一側，透過率漸變部分1a的透過率逐漸降低。
[0056]第二，完全不透光部分1d對應的區域為不設置黑矩陣02的區域。
[0057]本發明實施例通過采用第一漸變透過率掩模板10，僅需一次構圖工藝便可形成側面為楔形面的黑矩陣02，而且在一次構圖工藝中僅需要成膜、曝光、顯影，使得工藝更為簡化，因而可提高生產效率。
[0058]進一步優選的，如圖3(b)所示，以任意透過率漸變部分1a與完全透光部分1b接觸的一側為參考，透過率漸變部分I Oa的透過率變化規律一致。
[0059]本發明實施例通過使第一漸變透過率掩模板10的透過率漸變部分1a的變化規律相同，使得形成的黑矩陣02的楔形側面的大小相同，從而使得用于形成濾光圖案的掩模板的透過率漸變部分1a也具有相同的變化規律，從而可以簡化制造工藝，減小工藝誤差。
[0060]在形成楔形側面的所述黑矩陣02的基礎上，如圖8所示，形成第一基色濾光圖案31具體包括如下步驟:
[0061 ] S20、如圖4(a)所示，在形成有黑矩陣02的襯底01上形成第一基色濾光薄膜311。
[0062]S21、如圖4(b)所示，將第二漸變透過率掩模板20置于黑矩陣02—側。
[0063]其中，第二漸變透過率掩模板20也同樣包括完全透光部分10b、完全不透光部分I Od、以及透過率漸變部分I Oa。
[0064]S22、如圖4(b)所示，使完全透光部分1b和透過率漸變部分1a對應待形成的第一基色濾光圖案31，使完全不透光部分1d對應其他區域。
[0065]其中，完全透光部分1b對應待形成第一基色濾光圖案31不與黑矩陣02接觸的部分，透過率漸變部分1a對應待形成第一基色濾光圖案31與黑矩陣02接觸的部分；以透過率漸變部分1a與完全透光部分1b接觸的一側為參考，透過率漸變部分1a的透過率逐漸降低。
[0066]S23、如圖4(b)所示，對第一基色濾光薄膜311進行曝光，顯影后形成第一基色濾光圖案31。
[0067]需要說明的是，第一，如圖4(b)所示，以透過率漸變部分1a與完全透光部分1b接觸的一側為參考，沿該側到透過率漸變部分1a與完全不透光部分1d接觸的一側，透過率漸變部分1a的透過率逐漸降低。
[0068]其中，待形成第一基色濾光圖案31與黑矩陣02接觸的區域可分為兩個接觸區域，第一接觸區域與黑矩陣02的上表面02b接觸，第二接觸區域與黑矩陣02的側面02a接觸。為了使彩色濾光層03的上表面保持平坦，第一接觸區域內第一基色濾光圖案31的厚度應保持不變且厚度小于第二接觸區域內第一基色濾光圖案31的厚度，S卩，與第一接觸區域對應的透過率漸變部分1a的透過率應保持一致，且透過率小于與第二接觸區域對應的透過率漸變部分I Oa的透過率。
[0069]第二，完全不透光部分1d對應的區域為不設置第一基色濾光圖案31的區域。
[0070]本發明實施例通過采用第二漸變透過率掩模板20，僅需一次構圖工藝便可形成上表面平坦的第一基色濾光圖案31，而且在一次構圖工藝中僅需要成膜、曝光、顯影，使得工藝更為簡化，因而可提高生產效率。
[0071]進一步優選的，如圖9所示，形成第二基色濾光圖案32具體包括如下步驟:
[0072]S30、如圖5(a)所示，在形成有黑矩陣02的襯底01上形成第二基色濾光薄膜322。
[0073]S31、如圖5(b)所示，將第三漸變透過率掩模板30置于黑矩陣02—側。
[0074]其中，第三漸變透過率掩模板30也同樣包括完全透光部分10b、完全不透光部分I Od、以及透過率漸變部分I Oa。
[0075]S32、如圖5(b)所示，使完全透光部分1b和透過率漸變部分1a對應待形成的第二基色濾光圖案32，使完全不透光部分1d對應其他區域。
[0076]其中，完全透光部分1b對應待形成第二基色濾光圖案32不與黑矩陣02接觸的部分，透過率漸變部分1a對應待形成第二基色濾光圖案32與黑矩陣02接觸的部分；以透過率漸變部分1a與完全透光部分1b接觸的一側為參考，透過率漸變部分1a的透過率逐漸降低。
[0077]S33、如圖5(b)所示，對第二基色濾光薄膜322進行曝光，顯影后形成第二基色濾光圖案32。
[0078]此處，形成第二基色濾光圖案32的原理與形成第一基色濾光圖案31的原理相同，在此不再贅述。
[0079]本發明實施例通過采用第三漸變透過率掩模板30，僅需一次構圖工藝便可形成上表面平坦的第二基色濾光圖案32，而且在一次構圖工藝中僅需要成膜、曝光、顯影，使得工藝更為簡化，因而可提高生產效率。
[0080]進一步優選的，如圖10所示，形成第三基色濾光圖案33具體包括如下步驟:[0081 ] S40、如圖6(a)所示，在形成有黑矩陣02的襯底01上形成第三基色濾光薄膜333。
[0082]S41、如圖6(b)所示，將第四漸變透過率掩模板40置于黑矩陣02—側。
[0083]其中，第四漸變透過率掩模板40也同樣包括完全透光部分10b、完全不透光部分I Od、以及透過率漸變部分I Oa。
[0084]S42、如圖6(b)所示，使完全透光部分1b和透過率漸變部分1a對應待形成的第三基色濾光圖案33，使完全不透光部分1d對應其他區域。
[0085]其中，完全透光部分1b對應待形成第三基色濾光圖案33不與黑矩陣02接觸的部分，透過率漸變部分1a對應待形成第三基色濾光圖案33與黑矩陣02接觸的部分；以透過率漸變部分1a與完全透光部分1b接觸的一側為參考，透過率漸變部分1a的透過率逐漸降低。
[0086]S43、如圖6 (b)所示，對第三基色濾光薄膜333進行曝光，顯影后形成第三基色濾光圖案33。
[0087]此處，形成第三基色濾光圖案33的原理與形成第一基色濾光圖案31的遠離相同，在此不再贅述。
[0088]本發明實施例通過采用第四漸變透過率掩模板40，僅需一次構圖工藝便可形成上表面平坦的第三基色濾光圖案33，而且在一次構圖工藝中僅需要成膜、曝光、顯影，使得工藝更為簡化，因而可提高生產效率。
[0089]進一步優選的，上述第二漸變透過率掩模板20、第三漸變透過率掩模板30和第四漸變透過率掩模板40可以為同一個掩模板，在形成不同基色的濾光圖案時，只需平行移動掩模板即可。
[0090]優選的，如圖11所示，所述制備方法還包括:在彩色濾光層03上方形成OC層50，OC層50的厚度為0.5±0.16111110
[0091]其中，在本發明所有實施例中，在襯底01上形成黑矩陣薄膜21、第一基色濾光薄膜311、第二基色濾光薄膜322、第三基色濾光薄膜333以及在彩色濾光層03上方形成OC層50等描述中，所指的形成可以為沉積、涂覆等，在此不做限定。
[0092]本發明實施例通過在彩色濾光層03的表面形成一層較薄的OC層50，可以避免因制作誤差使第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32、第三基色濾光圖案33之間存在間隙時，影響取向層涂布的均勻性。
[0093]本發明實施例還提供一種顯示面板的制備方法，所述顯示面板包括彩膜基板，該彩膜基板通過上述制備方法制備得到。
[0094]本發明實施例提供的顯示面板的制備方法，在制備顯示面板中的彩膜基板時，通過采用漸變透過率掩模板將黑矩陣02的側面形成為楔形形狀，并通過漸變透過率掩模板使彩色濾光層03的第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33分別與黑矩陣02搭接處的厚度由各自邊緣向中間部分逐漸遞增，使任意搭接位置處，黑矩陣02的厚度與相應位置處濾光圖案厚度疊加后的總厚度，與濾光圖案的不與黑矩陣02搭接處的厚度一致，可使第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33的上表面平坦。基于此，相對現有技術，可無需采用厚度較厚的OC層來保證取向層涂布的均勻性，進而可減小液晶顯示器的厚度，降低生產成本。
[0095]本發明實施例提供一種彩膜基板，如圖2所示，包括:襯底01、設置在襯底上的黑矩陣02、以及設置在黑矩陣02上方的彩色濾光層03，彩色濾光層03包括第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33。
[0096]其中，黑矩陣02的側面為楔形面，且黑矩陣02的靠近襯底01的下表面的面積大于上表面的面積;第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33的上表面平坦。
[0097]其中，如圖2所示，黑矩陣02的側面為楔形面，相鄰兩個黑矩陣02之間形成有基色濾光圖案，以第一基色濾光圖案31為例，第一基色濾光圖案31與相鄰兩個黑矩陣02分別搭接，其上表面為平面。
[0098]本發明實施例提供的彩膜基板，通過采用漸變透過率掩模板將黑矩陣02的側面設置為楔形形狀，并通過漸變透過率掩模板使彩色濾光層03的第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33分別與黑矩陣02搭接處的厚度由各自邊緣向中間部分逐漸遞增，使任意搭接位置處，黑矩陣02的厚度與相應位置處濾光圖案厚度疊加后的總厚度，與濾光圖案的不與黑矩陣02搭接處的厚度一致，可使第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33的上表面平坦。基于此，相對現有技術，可無需采用厚度較厚的OC層來保證取向層涂布的均勻性，進而可減小液晶顯示器的厚度，降低生產成本。
[0099]優選的，如圖2所示，黑矩陣02的相對側面的傾斜角度相同。
[0100]本發明實施例通過使黑矩陣02的相對側面的傾斜角度相同，使得彩色濾光層03與黑矩陣02側面接觸的面的傾斜角度也相同，從而可以簡化制造工藝，減小工藝誤差。
[0101]優選的，如圖11所示，彩膜基板還包括設置在彩色濾光層03上方形成OC層50，0C層50 的厚度為 0.5±0.16umo
[0102]本發明實施例通過在彩色濾光層03的表面設置一層較薄的OC層50，可以避免因制作誤差使第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32、第三基色濾光圖案33之間存在間隙時，影響取向層涂布的均勻性。
[0103]本發明實施例還提供一種顯示面板，包括上述的彩膜基板。
[0104]本發明實施例提供的顯示面板，在制備顯示面板中的彩膜基板時，通過采用漸變透過率掩模板將黑矩陣02的側面設置為楔形形狀，并通過漸變透過率掩模板使彩色濾光層03的第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33分別與黑矩陣02搭接處的厚度由各自邊緣向中間部分逐漸遞增，使任意搭接位置處，黑矩陣02的厚度與相應位置處濾光圖案厚度疊加后的總厚度，與濾光圖案的不與黑矩陣02搭接處的厚度一致，可使第一基色濾光圖案31、第二基色濾光圖案32和第三基色濾光圖案33的上表面平坦。基于此，相對現有技術，可無需采用厚度較厚的OC層來保證取向層涂布的均勻性，進而可減小液晶顯示器的厚度，降低生產成本。
[0105]以上所述，僅為本發明的【具體實施方式】，但本發明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術范圍內，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。因此，本發明的保護范圍應以所述權利要求的保護范圍為準。
【主權項】
1.一種彩膜基板的制備方法，包括在襯底上依次形成黑矩陣和彩色濾光層，所述彩色濾光層包括第一基色濾光圖案、第二基色濾光圖案和第三基色濾光圖案;其特征在于， 形成所述黑矩陣包括:采用第一漸變透過率掩模板形成側面為楔形面的黑矩陣;其中，所述第一漸變透過率掩模板的透過率漸變部分與待形成的所述黑矩陣的側面對應； 形成所述彩色濾光層包括:采用第二漸變透過率掩模板形成所述第一基色濾光圖案，其中，所述第二漸變透過率掩模板的透過率漸變部分與待形成所述第一基色濾光圖案的與所述黑矩陣搭接的部分對應； 采用第三漸變透過率掩模板形成所述第二基色濾光圖案，其中，所述第三漸變透過率掩模板的透過率漸變部分與待形成所述第二基色濾光圖案的與所述黑矩陣搭接的部分對應； 采用第四漸變透過率掩模板形成所述第三基色濾光圖案，其中，所述第四漸變透過率掩模板的透過率漸變部分與待形成所述第三基色濾光圖案的與所述黑矩陣搭接的部分對應。2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，形成所述黑矩陣，具體包括: 在襯底上形成黑矩陣薄膜； 將第一漸變透過率掩模板置于所述黑矩陣薄膜一側；其中，所述第一漸變透過率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透過率漸變部分； 使所述完全透光部分和所述透過率漸變部分對應待形成的所述黑矩陣，使所述完全不透光部分對應其他區域;其中，所述完全透光部分與待形成黑矩陣的上表面在所述襯底上的投影完全對應，所述透過率漸變部分與待形成黑矩陣的側面在所述襯底上的投影完全對應；以所述透過率漸變部分與所述完全透光部分接觸的一側為參考，所述透過率漸變部分的透過率逐漸降低； 對所述黑矩陣薄膜進行曝光，顯影后形成所述黑矩陣。3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，以任意所述透過率漸變部分與所述完全透光部分接觸的一側為參考，所述透過率漸變部分的透過率變化規律一致。4.根據權利要求2或3所述的制備方法，其特征在于，形成所述第一基色濾光圖案，包括: 在形成有所述黑矩陣的襯底上形成第一基色濾光薄膜； 將第二漸變透過率掩模板置于所述黑矩陣一側，所述第二漸變透過率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透過率漸變部分； 使所述完全透光部分和所述透過率漸變部分對應待形成的所述第一基色濾光圖案，使所述完全不透光部分對應其他區域;其中，所述完全透光部分對應待形成第一基色濾光圖案不與所述黑矩陣接觸的部分，所述透過率漸變部分對應待形成第一基色濾光圖案與所述黑矩陣接觸的部分；以所述透過率漸變部分與所述完全透光部分接觸的一側為參考，所述透過率漸變部分的透過率逐漸降低； 對所述第一基色濾光薄膜進行曝光，顯影后形成所述第一基色濾光圖案。5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，形成所述第二基色濾光圖案，包括: 在形成有所述黑矩陣的襯底上形成第二基色濾光薄膜； 將第三漸變透過率掩模板置于所述黑矩陣一側，所述第三漸變透過率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透過率漸變部分； 使所述完全透光部分和所述透過率漸變部分對應待形成的所述第二基色濾光圖案，使所述完全不透光部分對應其他區域;其中，所述完全透光部分對應待形成第二基色濾光圖案不與所述黑矩陣接觸的部分，所述透過率漸變部分對應待形成第二基色濾光圖案與所述黑矩陣接觸的部分；以所述透過率漸變部分與所述完全透光部分接觸的一側為參考，所述透過率漸變部分的透過率逐漸降低； 對所述第二基色濾光薄膜進行曝光，顯影后形成所述第二基色濾光圖案。6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，形成所述第三基色濾光圖案，包括: 在形成有所述黑矩陣的襯底上形成第三基色濾光薄膜； 將第四漸變透過率掩模板置于所述黑矩陣一側，所述第四漸變透過率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透過率漸變部分； 使所述完全透光部分和所述透過率漸變部分對應待形成的所述第三基色濾光圖案，使所述完全不透光部分對應其他區域;其中，所述完全透光部分對應待形成第三基色濾光圖案不與所述黑矩陣接觸的部分，所述透過率漸變部分對應待形成第三基色濾光圖案與所述黑矩陣接觸的部分；以所述透過率漸變部分與所述完全透光部分接觸的一側為參考，所述透過率漸變部分的透過率逐漸降低； 對所述第三基色濾光薄膜進行曝光，顯影后形成所述第三基色濾光圖案。7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，還包括在彩色濾光層上方形成OC層，所述OC層的厚度為0.5 ±0.16um。8.一種顯示面板的制備方法，所述顯示面板包括彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板通過權利要求1-7任一項所述的方法制備得到。9.一種彩膜基板，包括:襯底、設置在所述襯底上的黑矩陣、以及設置在所述黑矩陣上方的彩色濾光層，所述彩色濾光層包括第一基色濾光圖案、第二基色濾光圖案和第三基色濾光圖案;其特征在于， 所述黑矩陣的側面為楔形面，且所述黑矩陣的靠近所述襯底的下表面的面積大于上表面的面積； 所述第一基色濾光圖案、所述第二基色濾光圖案和所述第三基色濾光圖案的上表面平坦。10.根據權利要求9所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩陣的相對側面的傾斜角度相同。11.根據權利要求9或10所述的彩膜基板，其特征在于，還包括設置在所述彩色濾光層上方形成OC層，所述OC層的厚度為0.5 ±0.16um。12.—種顯示面板，包括彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板為權利要求9-11任一項所述的彩膜基板。
【文檔編號】G02F1/1335GK106054443SQ201610688673
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2016年8月18日
【發明人】李曉光, 肖宇, 汪棟, 姜晶晶
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司