蒸鍍裝置的制作方法

專利名稱：蒸鍍裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及具備檢測蒸鍍速度(蒸鍍速率)的檢測裝置的蒸鍍裝置。
背景技術：
例如在專利文獻1公開了上沉積型的蒸鍍裝置。該蒸鍍裝置在保持為真空狀態的成膜室的上部，由保持件保持著基板。另外，在成膜室的下部，與此基板相向地配置著具有多個放出噴嘴的分散容器。然后，在成膜室的下方設置著用于使蒸鍍材料蒸發的多個蒸發單元。再有，在這些蒸發單元上連接著材料導入管，這些材料導入管貫通成膜室的底壁，與上述分散容器連接。然后，在各材料導入管上分別設置控制蒸鍍速度的控制閥。然后，在基板的附近，配置用于對蒸鍍材料的相對于基板的蒸鍍速度進行監視的第一水晶振子。另外，在各分散容器的側部分別設置著將材料的一部分放出的檢測噴嘴，檢測蒸鍍速度的第二水晶振子與這些檢測噴嘴相向地分別配置。在上述以往結構中，由第二水晶振子檢測從分散容器經放出噴嘴放出的蒸鍍材料的相對于第二水晶振子的蒸鍍速度，根據該檢測信號，由膜厚控制裝置對控制閥進行反饋控制。另外，第一水晶振子用于監視蒸鍍材料的相對于基板的蒸鍍速度。在先技術文獻專利文獻專利文獻1 日本特開2008-75095號公報然而，雖然為了高精度地檢測第二水晶振子上的蒸鍍材料的蒸鍍速度，與蒸鍍材料的相對于基板的蒸鍍速度相應地設定蒸鍍材料的相對于第二水晶振子的蒸鍍速度，但是，若蒸鍍材料的相對于基板的蒸鍍速度的變化過大，則存在產生故障的情況。例如，在使從分散容器經放出噴嘴放出的蒸鍍材料的相對于基板的蒸鍍速度為 10人/see,進行穩定化蒸鍍(指以均勻的蒸鍍速度進行的蒸鍍作業)的第一蒸鍍工序中， 將蒸鍍材料的相對于第二水晶振子的蒸鍍速度設定為1人/see,該lA/sec為恰當值。接著，在使用該分散容器進行第二蒸鍍工序時，從分散容器經放出噴嘴放出的蒸鍍材料的相對于基板的蒸鍍速度為了以第一蒸鍍工序的1/100，即，Ο. λ/see進行穩定化蒸鍍而被改變，該情況下，蒸鍍材料的相對于第二水晶振子的蒸鍍速度也成為第一蒸鍍工序的1/100， 即0.01人/see,檢測信號極小。這樣，若蒸鍍材料的相對于第二水晶振子的蒸鍍速度與恰當值IAVsee相比，大幅減小到Ο.Ο λ/sec，則第二水晶振子的信號/噪音比(s/Ν比)減小，容易大幅受到噪音的影響。據此，因為不能高精度地檢測蒸鍍速度，所以，存在不能進行恰當地反饋控制的問題。另外，在使從分散容器經放出噴嘴放出的蒸鍍材料的相對于基板的蒸鍍速度為 0.1人/see,進行穩定化蒸鍍的第三蒸鍍工序中，將蒸鍍材料的相對于第二水晶振子的蒸鍍速度設定為1人/sec，該1人/see為恰當值。接著，在使用該分散容器進行第四蒸鍍工序時，從分散容器經放出噴嘴放出的蒸鍍材料的相對于基板的蒸鍍速度以為了以第三蒸鍍工序的100倍，S卩，Ιθλ/sec進行穩定化蒸鍍而被設定，該情況下，蒸鍍材料的相對于第二水晶振子的蒸鍍速度也成為第三蒸鍍工序的loo倍，即100人/see,大量的蒸鍍材料被蒸鍍在第二水晶振子。據此，產生第二水晶振子能夠檢測蒸鍍速度的時間(壽命)極端變短的問題。本發明的目的是提供一種具備即使蒸鍍材料的相對于被蒸鍍材(基板)的蒸鍍速度大幅改變，也能夠高精度地檢測蒸鍍速度，恰當地進行控制閥的控制，且不會縮短水晶振子的壽命的蒸鍍速度檢測裝置的蒸鍍裝置。

發明內容
第一發明是一種蒸鍍裝置，該蒸鍍裝置在保持為真空狀態的成膜室內相互相向地配置著具有多個蒸鍍噴嘴的分散容器和被蒸鍍材，從使蒸鍍材料蒸發的蒸發單元到上述分散容器，連接著具有控制閥的材料導入管，在上述分散容器上貫穿設置著檢測噴嘴，且與該檢測噴嘴相向地配置著檢測從該檢測噴嘴放出的蒸鍍材料的蒸鍍速度的蒸鍍速度檢測元件，設置了使上述檢測噴嘴的放出口和上述蒸鍍速度檢測元件的至少一種相對于另一種接近、離開地移動的蒸鍍速度調整機構。第二發明是在第一發明的結構中，蒸鍍速度調整機構具有相對于被固定的上述檢測噴嘴，使上述蒸鍍速度檢測元件接近、離開地移動的元件調整裝置，設置了與相對于上述被蒸鍍材的蒸鍍速度相應地操作上述元件調整裝置，調整上述檢測噴嘴的放出口和上述蒸鍍速度檢測元件的距離，且根據上述蒸鍍速度檢測元件的檢測信號，操作上述控制閥的蒸鍍控制裝置。第三發明是在第一發明的結構中，上述蒸鍍速度調整機構具有進退自由或伸縮自由地構成上述檢測噴嘴，且使上述檢測噴嘴進退或伸縮，使該檢測噴嘴的放出口相對于蒸鍍速度檢測元件接近、離開地移動的噴嘴調整裝置，設置了與相對于上述被蒸鍍材的蒸鍍速度相應地操作上述噴嘴調整裝置，調整上述檢測噴嘴的放出口和上述蒸鍍速度檢測元件的距離，且按照上述蒸鍍速度檢測元件的檢測信號，操作上述控制閥的蒸鍍控制裝置。第四發明是在第二或第三發明的結構中，蒸鍍控制裝置以下述方式構成，即，若蒸鍍速度Q ( A/sec )、上述檢測噴嘴的放出口和上述蒸鍍速度檢測元件的距離L(mm)、與蒸鍍速度相關的系數k，則根據Q(L) = k(l/L2)... (1)算式，求出上述檢測噴嘴的放出口和上述蒸鍍速度檢測元件的距離L，操作上述元件調整裝置或上述噴嘴調整裝置。發明效果根據第一發明，在從分散容器經蒸鍍噴嘴放出的蒸鍍材料在被蒸鍍在被蒸鍍材上的蒸鍍速度被改變時，通過由蒸鍍速度調整構件改變檢測噴嘴的放出口和蒸鍍速度檢測元件的距離，能夠將相對于蒸鍍速度檢測元件的蒸鍍速度改變為恰當值。據此，即使蒸鍍材料的相對于被蒸鍍材的蒸鍍速度大幅改變，也能夠通過蒸鍍速度檢測元件得到恰當大小的檢測信號，能夠使檢測信號/噪音比(S/N比)足夠大，能夠不受噪音影響，恰當地進行控制閥的控制。另外，還不存在相對于蒸鍍速度檢測元件的蒸鍍速度增大，壽命極端變短的情況。根據第二發明，通過構成蒸鍍速度調整構件的元件調整裝置，使蒸鍍速度檢測元件相對于檢測噴嘴的放出口接近、離開，調整相互的距離，據此，能夠將蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件的蒸鍍速度調整為恰當值。根據第三發明，通過構成蒸鍍速度調整構件的噴嘴調整裝置，使檢測噴嘴的放出口相對于蒸鍍速度檢測元件接近、離開，調整相互的距離，據此，能夠將蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件的蒸鍍速度調整為恰當值。根據第四發明，通過用蒸鍍控制裝置，根據(1)算式，求出檢測噴嘴的放出口和蒸鍍速度檢測元件的距離丄，操作元件調整裝置或噴嘴調整裝置，能夠高精度地調整檢測噴嘴的放出口和蒸鍍速度檢測元件的距離。


圖1是表示有關本發明的蒸鍍裝置的實施例1的概略結構圖。圖2是具有元件調整裝置的蒸鍍速度調整構件的結構圖。圖3是表示蒸鍍速度和距離的關系的圖表。圖4表示有關本發明的蒸鍍裝置的實施例2，是具有噴嘴調整裝置的蒸鍍速度調整構件的結構圖。圖5表示有關本發明的蒸鍍裝置的實施例3，是具有其它的噴嘴調整裝置的蒸鍍速度調整構件的結構圖。
圖1中 11成膜室 12基板 14分散容器 15蒸鍍噴嘴 16A第一蒸發單元 16B第二蒸發單元 17A第一控制閥 17B第二控制閥 31蒸鍍速度檢測裝置 32檢測噴嘴 33蒸鍍速度檢測元件 34蒸鍍速度調整機構圖2中
36元件調整裝置圖4中51蒸鍍速度調整機構 56噴嘴調整裝置
具體實施例方式[實施例1]下面，根據附圖，說明有關本發明的蒸鍍裝置的實施例1。(整體構造)如圖1所示，在保持為真空狀態的成膜室11的上部，配置支撐作為被蒸鍍材的基板12的基板保持件13，在成膜室11的下部，與基板12相向地配置分散容器14。然后，在成膜室11的下部外方，分別設置通過加熱裝置使第一蒸鍍材料蒸發的第一蒸發單元16A和通過加熱裝置使第二蒸鍍材料蒸發的第二蒸發單元16B。然后，分別與第一、第二蒸發單元 16AU6B連接的材料導入管18A、18B被連接在合流管18C，該合流管18C貫通成膜室11的底壁，被連接在分散容器14的底壁14d的中央部。然后，在這些材料導入管18A、18B上夾裝能夠控制第一蒸鍍材料以及第二蒸鍍材料的各蒸鍍速度的第一、第二控制閥17A、17B。分散容器14使從合流管18C導入的蒸鍍材料均勻地分散，在其上壁Hu上，隔著規定間隔，貫穿設置著多個蒸鍍噴嘴15。另外，在分散容器14的上部，設置著能夠開閉蒸鍍噴嘴15的開口部的開閉用的遮擋裝置19。該遮擋裝置19由具有能夠開閉開口部的放出孔 19b的遮擋板19a和使該遮擋板19a在水平方向滑動規定量，開閉蒸鍍噴嘴15的遮擋驅動部19c構成。在上述結構中，能夠將在第一、第二蒸發單元16A、16B蒸發的蒸鍍材料從材料導入管18A、18B經第一、第二控制閥17A、17B以及合流管18C導入分散容器14，從蒸鍍噴嘴 15向基板12放出蒸鍍材料，向基板12均勻地蒸鍍。(蒸鍍速度檢測裝置)在成膜室11設置著用于檢測相對于基板12的蒸鍍速度的蒸鍍速度檢測裝置31。蒸鍍速度檢測裝置31具備貫通分散容器14的一個側壁Hs設置且放出蒸發材料的一部分的檢測噴嘴32、由與該檢測噴嘴32相向地配置的水晶振子構成的可動式的蒸鍍速度檢測元件33、調整檢測噴嘴32的放出口 3 和蒸鍍速度檢測元件33的距離并能夠調整相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度的蒸鍍速度調整機構34、根據蒸鍍速度檢測元件33的檢測信號求出蒸鍍速度的蒸鍍速度檢測部35，將蒸鍍速度檢測部35的檢測值向蒸鍍控制裝置21輸出。如圖2所示，蒸鍍速度調整機構34具備通過使蒸鍍速度檢測元件33相對于固定式的檢測噴嘴32的放出口 3 接近、離開地移動，來調整相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度的元件調整裝置36。該元件調整裝置36包括由齒條、齒輪機構構成的直線移動裝置，該直線移動裝置具備具有保持蒸鍍速度檢測元件33的元件保持器37且在與檢測噴嘴 32的軸心平行的方向移動自由地被引導的齒條部件38、與該齒條部件38的齒條齒嚙合的齒輪39、正反旋轉驅動該齒輪39，使蒸鍍速度檢測元件33移動，且能夠對蒸鍍速度檢測元件33進行位置調整的調整用馬達40、能夠通過該調整用馬達40的旋轉方向以及旋轉角檢測蒸鍍速度檢測元件33的位置的旋轉編碼器(元件位置檢測器)41。蒸鍍控制裝置21根據從操作器22輸入的操作信號和由蒸鍍速度檢測部35檢測到的檢測值，控制蒸發單元16A、16B的加熱溫度，對第一、第二控制閥17A、17B、遮擋裝置19分別進行開閉操作。另外，蒸鍍控制裝置21通過元件調整裝置36經調整驅動部23驅動調整用馬達 40，調整蒸鍍速度檢測元件33的相對于檢測噴嘴32的放出口 3 的距離L。據此，能夠以恰當的蒸鍍速度使從檢測噴嘴32放出的蒸鍍材料蒸鍍在蒸鍍速度檢測元件33。但是，若向蒸鍍速度檢測元件33蒸鍍的蒸鍍材料的蒸鍍速度Q ( A/Sec )、蒸鍍速度檢測噴嘴32的放出口 3 和蒸鍍速度檢測元件33的距離L (mm)、與蒸鍍速度相關的系數k(N 1)，則在蒸鍍速度Q和距離L之間，Q(L) = k(l/L2)…(算式 1)的關系成立。另外，這里若與蒸鍍速度相關的系數k N 1，則根據(算式1)，如圖3所示，Q和(1/ L2)為大致成直線的比例關系。這表示距離L越長，蒸鍍速度Q越小。這里，若蒸鍍速度Q1、Q2，距離L1、L2，則根據(算式1)，Ql = k(l/Ll2)、Q2 = k(l/L22)，得到QlXk(l/L22) = Q2Xk(l/Ll2)Q2/Q1 = k(l/L22) /k(l/Ll2)Q2/Q1 = Ll2/L22，7Q2/Q1=L1/L2-(算式 2)成立。在蒸鍍控制裝置21，若與最初設定的蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度Q1以及蒸鍍速度檢測噴嘴32的放出口 3 和蒸鍍速度檢測元件33的距離L1 還有與從操作器22輸入的蒸鍍材料的相對于基板12的蒸鍍速度相應地，為相對于蒸鍍速度檢測元件33的成為目標的蒸鍍速度Q2，則根據(算式2)，求出作為目標的距離L2。然后，為使蒸鍍速度檢測噴嘴32的放出口 3 和蒸鍍速度檢測元件33的距離成為L2，經調整驅動部23，驅動調整用馬達40，使蒸鍍速度檢測元件33移動，據此，使蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度成為Q2。說明上述結構中的蒸鍍作業。首先，將根據需要安裝了掩模的基板12運入成膜室11并安裝在基板保持件13 上。將第一蒸鍍材料投入第一蒸發單元16A并加熱，使第一蒸鍍材料蒸發。然后，打開第一控制閥17A，將第一蒸鍍材料從材料導入管18A經合流管18C向分散容器14導入。在分散容器14，蒸鍍噴嘴15被遮擋裝置19封閉，在蒸鍍速度檢測裝置31，第一蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度被求出。即，分散容器14內的蒸發材料從檢測噴嘴32放出，被蒸鍍在蒸鍍速度檢測元件33，在蒸鍍速度檢測部35，根據蒸鍍速度檢測元件33的檢測信號，檢測第一蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度。在蒸鍍控制裝置21，根據蒸鍍速度檢測部35的檢測值，操作第一控制閥17A，進行反饋控制，以便第一蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度達到目的的蒸鍍速度。然后，若達到目的的蒸鍍速度，則開放遮擋裝置19，將第一蒸鍍材料從蒸鍍噴嘴15向基板12放出，穩定化蒸鍍在基板12。在穩定化蒸鍍中，由蒸鍍速度檢測裝置31在每個一定時間將由蒸鍍速度檢測元件33檢測到的檢測信號經蒸鍍速度檢測部35向蒸鍍控制裝置21輸出，在蒸鍍控制裝置 21，根據該檢測值，對第一控制閥17A進行反饋控制，將第一蒸鍍材料的相對于基板12的蒸鍍速度控制為恰當的值。若經過規定的蒸鍍時間，在基板12上以規定的膜厚蒸鍍了第一蒸鍍材料，則關閉遮擋裝置19，且關閉第一控制閥17A，結束第一蒸鍍材料的蒸鍍。接著，使第二蒸鍍材料從第二蒸發單元16B蒸發，將下述的膜層疊蒸鍍到基板12 的第一蒸鍍材料的表面。這里，例如在第一蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度Ql = 10 (人/sec)、檢測噴嘴32的放出口 3 和蒸鍍速度檢測元件33的距離L1 = 10 (mm)時，在第二蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度 Q2 = l ( λ/sec )，是第一蒸鍍材料的蒸鍍速度的ι/ ο的情況下，在蒸鍍控制裝置21，根據算式O)，求出檢測噴嘴32的放出口 3 和蒸鍍速度檢測元件33的距離L2。根據V0^T=L1/L2···(算式 2)，得到VoI=10/L210/VT7Io=L2L2 N 3. 16 (mm)。另外，在第二蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度 Q2 = 10( A/sec),是第一蒸鍍材料的 ο倍的情況下，根據算式O)，得到Vi 00/10 =10/L2IOxVlO =L2L2 ^31· 6 (mm)。根據這樣求出的距離L2，由蒸鍍控制裝置21驅動元件調整裝置36的調整用馬達 40，改變蒸鍍速度檢測元件33的位置。蒸鍍作業是將第二蒸鍍材料投入第二蒸發單元16B并加熱，使之蒸發，打開第二控制閥17B，將第二蒸鍍材料從材料導入管18B經合流管18C向分散容器14導入。在分散容器14，蒸鍍噴嘴15被遮擋裝置19封閉，通過蒸鍍速度檢測裝置31檢測蒸鍍速度。在蒸鍍控制裝置21，根據該檢測值，操作第二控制閥17B，進行反饋控制，以便達到目的的蒸鍍速度。然后，若達到目的的蒸鍍速度，則開放遮擋裝置19，將第二蒸鍍材料從蒸鍍噴嘴15向基板12放出，進行穩定化蒸鍍。再有，在穩定化蒸鍍中，也是由蒸鍍速度檢測裝置31在每個一定時間將由蒸鍍速度檢測元件33檢測到的檢測信號經蒸鍍速度檢測部35向蒸鍍控制裝置21輸出，在蒸鍍控制裝置21，根據該檢測值，對第二控制閥17B進行反饋控制，將第二蒸鍍材料的相對于基板 12的蒸鍍速度控制為恰當的值。若經過規定的蒸鍍時間，在基板12上以規定的膜厚蒸鍍了第二蒸鍍材料，則關閉遮擋裝置19，且關閉第二控制閥17B，結束第二蒸鍍材料的蒸鍍。(實施例1的效果)根據上述實施例1，在從分散容器14經蒸鍍噴嘴15放出的蒸鍍材料的相對于基板 12的蒸鍍速度被改變時，通過由蒸鍍速度調整機構34改變檢測噴嘴32的放出口 3 和蒸鍍速度檢測元件33的距離L，能夠將第一、第二蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度改變為恰當的值。據此，能夠使蒸鍍速度檢測元件33的檢測信號/噪音比(S/N 比)足夠大，高精度地檢測第一、第二蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度。 另外，能夠根據該檢測值，對第一、第二控制閥17A、17B進行反饋控制，高精度地控制第一、 第二蒸鍍材料的相對于基板12的蒸鍍速度。另外，還不存在在第一、第二蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度增大，膜厚短時間變厚，蒸鍍速度檢測元件33的壽命極端變短的情況。另外，因為在蒸鍍速度調整機構34，操作元件調整裝置36，使蒸鍍速度檢測元件 33相對于檢測噴嘴32的放出口 3 接近、離開，將放出口 3 和蒸鍍速度檢測元件33調整為恰當距離，所以，能夠高精度地檢測相對于蒸鍍速度檢測元件33的蒸鍍速度。再有，在蒸鍍材料的相對于基板12的蒸鍍速度被改變時，能夠由蒸鍍控制裝置 21，根據算式O)，求出檢測噴嘴32的放出口 3 和蒸鍍速度檢測元件33的距離，操作元件調整裝置36，將蒸鍍速度檢測元件33的位置配置成能夠高精度地檢測的恰當距離。[實施例2]上述實施例1中的蒸鍍速度調整機構34是由固定檢測噴嘴32的放出口 32a，使蒸鍍速度檢測元件33接近、離開的元件調整裝置36構成，但在實施例2中，如圖4所示，設置了固定蒸鍍速度檢測元件53，調整檢測噴嘴55的放出口 5 的位置的蒸鍍速度調整機構 51。另外，對與實施例1相同的部件標注相同的符號，省略說明。實施例2中的蒸鍍速度調整機構51由在貫穿設置于分散容器14的一側部側壁 14s上的導向筒M內滑動自由地設置的進退式的檢測噴嘴55、經元件保持器52固定在與該檢測噴嘴陽相向的位置上的蒸鍍速度檢測元件(水晶振子)53、使檢測噴嘴55滑動，使放出口 5 移動，能夠調整蒸鍍速度檢測元件53和放出口 5 的距離L的噴嘴調整裝置56 構成。噴嘴調整裝置56具備例如由齒條、齒輪機構構成的直線移動裝置，該直線移動裝置具備經連結部件57與檢測噴嘴55連結且在與檢測噴嘴55的軸心平行的方向移動自由地被引導的齒條部件58、與該齒條部件58的齒條齒嚙合的齒輪59、正反旋轉驅動該齒輪 58，使檢測噴嘴55進退，能夠對放出口 5 的位置進行調整的調整用馬達60、能夠通過該調整用馬達60的旋轉方向以及旋轉角檢測放出口 5 的位置的旋轉編碼器(噴嘴位置檢測器)61。根據上述實施例2的結構，通過與相對于基板12的蒸鍍速度相應地操作噴嘴調整裝置56，使檢測噴嘴55的放出口 5 相對于蒸鍍速度檢測元件53接近、離開，調整放出口 55a和蒸鍍速度檢測元件53的距離L，能夠使蒸鍍材料的相對于蒸鍍速度檢測元件53的蒸鍍速度成為能夠高精度地檢測的恰當值。據此，噪音對檢測信號的影響減小，還不存在蒸鍍速度檢測元件53的壽命縮短的情況。再有，能夠由蒸鍍控制裝置21根據算式( 求出檢測噴嘴55的放出口 5 和蒸鍍速度檢測元件53的距離L，通過操作噴嘴調整裝置56，將檢測噴嘴55的放出口 5 和蒸鍍速度檢測元件53的距離L調整為恰當的距離，以便能夠由蒸鍍速度檢測元件53高精度地以恰當值檢測蒸鍍速度。[實施例3]
實施例3與實施例2同樣，使放出口進退，但是，如圖5所示，是在分散容器14的一側部側壁14s貫穿設置伸縮式的檢測噴嘴71，使放出口 71a自由進退，利用包括由齒條、齒輪機構構成的直線移動裝置所構成的噴嘴調整裝置56，使檢測噴嘴71伸縮，使放出口 71a 移動，使放出口 71a和蒸鍍速度檢測元件53的距離L能夠調整的蒸鍍裝置，設置了構造相同的噴嘴調整裝置56。另外，對與實施方式2相同的部件標注相同的符號，省略說明。根據實施例3，能夠得到與實施例1或實施例2相同的作用效果。另外，在上述實施例1 3中，作為直線移動裝置，說明了齒條、齒輪機構，但并不局限于此，也可以使用滾珠絲杠機構、電動缸裝置等。
權利要求
1.一種蒸鍍裝置，該蒸鍍裝置在保持為真空狀態的成膜室內相互相向地配置著具有多個蒸鍍噴嘴的分散容器和被蒸鍍材，從使蒸鍍材料蒸發的蒸發單元到上述分散容器，連接著具有控制閥的材料導入管，其特征在于，在上述分散容器上貫穿設置著檢測噴嘴，且與該檢測噴嘴相向地配置著檢測從該檢測噴嘴放出的蒸鍍材料的蒸鍍速度的蒸鍍速度檢測元件，設置了使上述檢測噴嘴的放出口和上述蒸鍍速度檢測元件的至少一種相對于另一種接近、離開地移動的蒸鍍速度調整機構。
2.如權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，蒸鍍速度調整機構具有相對于被固定的上述檢測噴嘴，使上述蒸鍍速度檢測元件接近、離開地移動的元件調整裝置，設置了與相對于上述被蒸鍍材的蒸鍍速度相應地操作上述元件調整裝置，調整上述檢測噴嘴的放出口和上述蒸鍍速度檢測元件的距離，且根據上述蒸鍍速度檢測元件的檢測信號，操作上述控制閥的蒸鍍控制裝置。
3.如權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，上述蒸鍍速度調整機構具有進退自由或伸縮自由地構成上述檢測噴嘴，且使上述檢測噴嘴進退或伸縮，使該檢測噴嘴的放出口相對于蒸鍍速度檢測元件接近、離開地移動的噴嘴調整裝置，設置了與相對于上述被蒸鍍材的蒸鍍速度相應地操作上述噴嘴調整裝置，調整上述檢測噴嘴的放出口和上述蒸鍍速度檢測元件的距離，且按照上述蒸鍍速度檢測元件的檢測信號，操作上述控制閥的蒸鍍控制裝置。
4.如權利要求2或3所述的蒸鍍裝置，其特征在于，蒸鍍控制裝置以下述方式構成，即，若蒸鍍速度Q ( A/sec )、上述檢測噴嘴的放出口和上述蒸鍍速度檢測元件的距離 L (mm)、與蒸鍍速度相關的系數k，則根據Q(L) =k(l/L2)…(1)算式，求出上述檢測噴嘴的放出口和上述蒸鍍速度檢測元件的距離丄，操作上述元件調整裝置或上述噴嘴調整裝置。
全文摘要
本發明公開了一種蒸鍍裝置，本發明中，即使相對于基板(12)的蒸鍍速度大幅改變，也能夠高精度地檢測相對于蒸鍍速度檢測元件(33)的蒸鍍速度，恰當地進行蒸鍍速度的控制。在真空狀態的成膜室(11)內，將具有多個蒸鍍噴嘴(15)的分散容器(14)與基板(12)相向地配置，在該分散容器(14)上貫穿設置著檢測噴嘴(32)，且與檢測噴嘴(32)相向地配置著蒸鍍速度檢測元件(33)，設置了使蒸鍍速度檢測元件(33)相對于檢測噴嘴(32)的放出口(32a)接近、離開的蒸鍍速度調整機構(34)，通過與相對于基板(12)的蒸鍍速度對應地調整檢測噴嘴(32)的放出口(32a)和蒸鍍速度檢測元件(33)的距離(L)，在蒸鍍速度檢測元件(33)高精度地檢測蒸鍍速度。
文檔編號C23C14/24GK102373434SQ20101026066
公開日2012年3月14日 申請日期2010年8月20日 優先權日2010年8月20日
發明者上川健司, 大工博之 申請人:日立造船株式會社