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被覆件及其制造方法

文檔序號:3413987閱讀:260來源:國知局
專利名稱:被覆件及其制造方法
技術領域
本發明涉及一種被覆件及其制造方法。
背景技術
固體潤滑劑二硫化鎢(WS2)由于其具有層狀結構、低剪切強度等特性,在改善刀具的潤滑性方面發揮了很大的作用。然而,隨著金屬切削加工朝高切削速度、高進給速度、高可靠性、長壽命、高精度和良好的切削控制性方面發展,對表面涂層的性能提出了更高的要求。 研究發現,使用鍍覆有WS2涂層的切削刀具加工鋁合金、鎂合金時,由于鋁合金、鎂 合金的熔點低,且WS2涂層與鋁合金、鎂合金的潤濕性較差,在高溫條件容易發生粘刀現象,如此大大降低了對產品的加工精度。

發明內容
有鑒于此,有必要提供一種能較好的解決上述問題的被覆件。另外,還提供上述被覆件的制造方法。一種被覆件,包括基體及形成于該基體上的潤滑層;該潤滑層為鎢硫鑰氮層,其含有WS2相及MoN相。—種被覆件的制造方法,包括以下步驟
提供基體;
以WS2靶及Mo靶為靶材,于基體上磁控濺射潤滑層,所述潤滑層為鎢硫鑰氮層,其含有WS2相及MoN相。所述WS2相和MoN相復合膜層的存在,使該潤滑層具有良好的潤滑性;也可提高所述潤滑層的硬度及耐磨性,從而提升所述被覆件的機械壽命。另外,MoN相還可以提高所述潤滑層的抗氧化性,緩解因WS2相被氧化而導致潤滑層失去潤滑性的現象的發生,如此可有效降低被覆件用于切削鋁合金、鎂合金時出現的粘刀現象的發生,從而大大提升產品的加工精度。


圖I為本發明一較佳實施例的被覆件的剖視 圖2為制造圖I中鍍膜件所用真空鍍膜機的俯視示意圖。主要元件符號說明
權利要求
1.一種被覆件,包括基體及形成于該基體上的潤滑層,其特征在于所述潤滑層為鎢硫鑰氮層,其含有WS2相及MoN相。
2.如權利要求I所述的被覆件,其特征在于所述潤滑層的厚度為0.8^1. 3 u m0
3.如權利要求I所述的被覆件,其特征在于所述被覆件還包括形成于所述基體與潤滑層之間的結合層。
4.如權利要求3所述的被覆件,其特征在于該結合層為鑰金屬層,其厚度為200 300nmo
5.如權利要求I所述的被覆件,其特征在于所述基體的材質為不銹鋼、高速鋼或模具鋼。
6.一種被覆件的制造方法,包括以下步驟 提供基體; 以WS2靶及MoN靶為靶材,以氮氣為反應氣體,于基體上磁控濺射潤滑層,所述潤滑層為鎢硫鑰氮層,其含有WS2相及MoN相。
7.如權利要求6所述的被覆件的制造方法,其特征在于磁控濺射形成所述潤滑層的步驟采用如下方式實現以氬氣為工作氣體,設置氬氣流量為12(T350SCCm,設置氮氣流量為5(T220sCCm,,開啟已安裝于所述鍍膜室內的WS2復合靶材及鑰靶的電源,設置WS2復合靶材靶的電源功率為10(T300W、鑰靶的電源功率為10(T500W,沉積該潤滑層,沉積該潤滑層的時間為9(T200min。
8.如權利要求6所述的被覆件的制造方法,其特征在于所述被覆件的制造方法還包括于所述基體與潤滑層之間磁控濺射形成結合層的步驟。
9.如權利要求8所述的被覆件的制造方法,其特征在于磁控濺射形成所述結合層的步驟采用如下方式實現以氬氣為工作氣體,設置其流量為30(T400SCCm,于基體上施加-10(T-300V的偏壓,采用鑰靶為靶材,設置其電源功率為2飛kw,鍍膜溫度為10(T200°C,濺射時間為2(T40min。
全文摘要
本發明提供一種被覆件,包括基體及形成于該基體上的潤滑層;該潤滑層為鎢硫鉬氮層,其含有MoS2相及BN相。所述被覆件具有良好的潤滑性、抗氧化性及耐磨性。本發明還提供了所述被覆件的制造方法。
文檔編號C23C14/35GK102747323SQ201110101900
公開日2012年10月24日 申請日期2011年4月22日 優先權日2011年4月22日
發明者張新倍, 李聰, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司
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