被覆件及其制造方法
【專利摘要】一種被覆件，包括基體及形成在基體上的類金剛石膜層。該類金剛石膜層表面形成有若干納米量級的凸起。本發明還提供一種所述被覆件的制造方法。
【專利說明】被覆件及其制造方法
【技術領域】
[0001] 本發明涉及一種被覆件及其制造方法。
【背景技術】
[0002] 現有技術，為了使鍍覆有類金剛石（DLC)膜層的被覆件具有較高的硬度及疏水性， 可通過如下兩種方式實現：在形成DLC膜層的過程中，采用Si進行摻雜處理，獲得具有疏水 性的Si摻雜DLC膜層；或者，在DLC膜層上形成一含有氟燒基娃燒的有機層。但是，由于 DLC膜層與玻璃、陶瓷等基體的結合力較差，DLC膜層易于發生剝落，如此將導致DLC膜層失 效。
【發明內容】
[0003] 有鑒于此，提供一種具有高硬度及良好疏水性的被覆件。
[0004] 另外，還提供一種所述被覆件的制造方法。
[0005] -種被覆件，包括基體及形成在基體上的類金剛石膜層。該類金剛石膜層表面形 成有若干納米量級的凸起。
[0006] -種被覆件的制造方法，包括以下步驟： 提供基體； 通過真空鍍膜的方式，在基體表面形成一金屬層； 采用液氮對該金屬層進行驟冷處理，使所述金屬層表面的晶粒因驟冷而被粗化，于金 屬層的表面形成若干納米量級的凸起； 采用真空鍍膜的方式，在驟冷處理后的金屬層上形成一類金剛石膜層，該類金剛石膜 層表面形成若干納米量級的凸起。
[0007] 所述類金剛石膜層表面分布的納米量級凸起，使所述被覆件具有較高的硬度的同 時還具有良好的疏水性。經液氮驟冷處理后的所述金屬層與類金剛石膜層之間具有良好的 結合力，可避免類金剛石膜層發生剝落而失效。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0008] 圖1是本發明一較佳實施例被覆件的剖視圖。
[0009] 圖2是本發明一較佳實施例的真空蒸鍍機的示意圖。
[0010] 圖3是本發明一較佳實施例的真空鍍膜機的示意圖。
[0011] 主要元件符號說明
【權利要求】
1. 一種被覆件，包括基體及形成在基體上的類金剛石膜層，其特征在于：該類金剛石 膜層表面形成有若干納米量級的凸起。
2. 如權利要求1所述的被覆件，其特征在于：該被覆件還包括形成在基體與類金剛石 膜層之間的金屬層。
3. 如權利要求2所述的被覆件，其特征在于：該金屬層表面形成有若干納米量級的凸 起。
4. 如權利要求3所述的被覆件，其特征在于：該金屬層為鎢層。
5. 如權利要求1、2或3所述的被覆件，其特征在于：該金屬層的厚度為1~2μπι。
6. 如權利要求1所述的被覆件，其特征在于：該類金剛石膜層的厚度為1~1. 5 μ m。
7. 如權利要求1或6所述的被覆件，其特征在于：該類金剛石膜層由碳元素和氫元素 構成，其中，碳元素的質量百分含量為3(Γ40%，氫元素的質量百分含量為6(Γ70%。
8. -種被覆件的制造方法，包括以下步驟： 提供基體； 通過真空鍍膜的方式，在基體表面形成一金屬層； 采用液氮對該金屬層進行驟冷處理，使所述金屬層表面的晶粒因驟冷而被粗化，于金 屬層的表面形成若干納米量級的凸起； 采用真空鍍膜的方式，在驟冷處理后的金屬層上形成一類金剛石膜層，該類金剛石膜 層表面形成若干納米量級的凸起。
9. 如權利要求8所述的被覆件的制造方法，其特征在于：該金屬層為鎢層，形成該鎢層 的方法為：提供一真空蒸鍍機，該真空蒸鍍機包括一蒸鍍腔；采用金屬鎢為蒸發材料，對基 體進行蒸鍍處理，于基體上形成一鎢層。
10. 如權利要求9所述的被覆件的制造方法，其特征在于：該液氮驟冷處理的方法為： 形成該金屬層后，向該蒸鍍腔內通入液氮，該蒸鍍腔內的真空度為KT^lPa、蒸鍍腔內的溫 度驟降至8(Γ100?，該基體在該液氮氣氛中保持2~3min。
【文檔編號】C23C14/02GK104250722SQ201310270232
【公開日】2014年12月31日 申請日期:2013年6月27日 優先權日:2013年6月27日
【發明者】張春杰 申請人:深圳富泰宏精密工業有限公司