殼體及其制作方法
【專利摘要】本發明提供一種殼體及該殼體的制作方法。該殼體包括一基體及形成于基體表面的打底層、過渡層、及顏色層，該打底層為一金屬層，該過渡層為一金屬碳氮化物的混鍍層，該顏色層為一鈦鉻鋁的混鍍層，其中該打底層中的金屬為鈦、鉻、或鐵，該過渡層中的金屬為鈦、鋁、鉻、或鐵。該殼體的制作方法包括如下步驟：提供一基體；采用真空鍍膜法在該基體的表面依次形成打底層、過渡層、及顏色層，該打底層為一金屬層，該過渡層為一金屬碳氮化物的混鍍層，該顏色層為一鈦鉻鋁的混鍍層，其中該打底層中的金屬為鈦、鉻、或鐵，該過渡層中的金屬為鈦、鋁、鉻、或鐵。
【專利說明】殼體及其制作方法
【技術領域】
[0001]本發明是關于一種殼體及其制作方法，尤其涉及一種具有高硬度及釉瓷外觀的殼體及其制造方法。
【背景技術】
[0002]現有技術，通常采用噴涂方式于電子產品的殼體表面形成白色的裝飾性膜層，以使殼體呈現出具有白色釉感的外觀。然而，由于噴涂技術本身的缺陷，噴涂形成的裝飾性膜層難以具有高透光性及高光澤性，使上述殼體無法呈現出如釉瓷般的潔白、細膩、通透、清潔等視覺或外觀效果。此外，經噴涂形成的裝飾性膜層硬度較低，易被刮傷。
【發明內容】
[0003]鑒于此，本發明提供一種具有高硬度及釉瓷外觀的殼體。
[0004]另外，本發明還提供一種上述殼體的制作方法。
[0005]一種殼體，其包括一基體及依次形成于基體表面的打底層、過渡層、及顏色層，該打底層為一金屬層，該過渡層為一金屬碳氮化物的混鍍層，該顏色層為一鈦鉻鋁的混鍍層，其中該打底層中的金屬為鈦、鉻、或鐵，該過渡層中的金屬為鈦、鋁、鉻、或鐵。
[0006]一種殼體的制作方法，其包括如下步驟:
提供一基體；
采用真空鍍膜法在該基體的表面依次鍍覆打底層、過渡層、及顏色層，該打底層為一金屬層，該過渡層為一金屬碳氮化物的混鍍層，該顏色層為一鈦鉻鋁的混鍍層，其中該打底層中的金屬為鈦、鉻、或鐵，該過渡層中的金屬為鈦、鋁、鉻、或鐵。
[0007]相較于現有技術，所述的殼體通過在基體表面依次鍍覆一打底層、一過渡層、及一顏色層，通過該三層的綜合作用，使所述殼體的表面光滑、潤澤，呈現釉瓷般的質感。此外，該鍍膜件具有較高的強度，不易被刮傷。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0008]圖1是本發明一較佳實施例殼體的剖視圖；
圖2是本發明一較佳實施例真空鍍膜機的示意圖。
[0009]主要元件符號說明
【權利要求】
1.一種殼體，其包括一基體及依次形成于基體表面的打底層、過渡層、及顏色層，其特征在于:該打底層為一金屬層，該過渡層為一金屬碳氮化物的混鍍層，該顏色層為一鈦鉻鋁的混鍍層，其中該打底層中的金屬為鈦、鉻、或鐵，該過渡層中的金屬為鈦、鋁、鉻、或鐵。
2.如權利要求1所述的殼體，其特征在于:所述基體的材質為鋁或不銹鋼。
3.如權利要求1所述的殼體，其特征在于:該打底層的厚度為0.5-0.8um。
4.如權利要求1所述的殼體，其特征在于:該過渡層的厚度為l_4um，所述金屬碳氮化物的混鍍層為碳氮化鈦和碳氮化鋁的混鍍層、碳氮化鈦和碳氮化鉻的混鍍層、或碳氮化鈦和碳氮化鐵的混鍍層。
5.如權利要求4所述的殼體，其特征在于:所述金屬混鍍層中該碳氮化鈦的質量百分比為60-80%，該碳氮化鋁、碳氮化鉻、或碳氮化鐵的質量百分比為20-40%。
6.如權利要求1所述的殼體，其特征在于:所述顏色層的厚度為4-6um，且該顏色層呈白色；所述鈦鉻鋁的混鍍層中該鈦的質量百分比為10-15%，鉻的質量百分比為20-35%，鉻的質量百分比為50-70%。
7.一種所述的殼體的制作方法，其包括如下步驟: 提供一基體； 采用真空鍍膜法在該基體的表面依次鍍覆打底層、過渡層、及顏色層，該打底層為一金屬層，該過渡層為一金屬碳氮化物的混鍍層，該顏色層為一鈦鉻鋁的混鍍層，其中該打底層中的金屬為鈦、鉻、或鐵，該過渡層中的金屬為鈦、鋁、鉻、或鐵。
8.如權利要求7所述的殼體的制作方法，其特征在于:采用一真空鍍膜機對該基體進行鍍覆處理，該真空鍍膜機包括一鍍膜室及設置于該鍍膜室中的一治具、一鈦靶、一鉻靶、一鐵祀、及一招革巴。
9.如權利要求8所述的殼體的制作方法，其特征在于:形成所述打底層的方法為:開啟鈦靶、鉻靶、或鐵靶，調節該鍍膜室內的占空比為50-55%，對該基體施加偏壓為300-350V，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為100-150sccm，鍍膜時間為8_15min。
10.如權利要求8所述的殼體的制作方法，其特征在于:形成所述過渡層的方法為:開啟鈦靶和鉻靶、鈦靶和鐵靶、或鈦靶和鋁靶，調節該鍍膜室內的占空比為45-50%，對該基體施加的偏壓為200-250V，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為100-150SCCm，以氮氣和乙炔為反應氣體，氮氣的流量為20-40SCCm，乙炔的流量為15-30SCCm，鍍膜時間為25_45min。
11.如權利要求8所述的殼體的制作方法，其特征在于:形成所述顏色層的方法為:開啟鈦靶、鉻靶、及鋁靶，調節該鍍膜室內的占空比為40-50%，對該基體施加的偏壓為250-300V,以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為150-200sccm，鍍膜時間為50_80min。
【文檔編號】C23C14/06GK103935075SQ201310024416
【公開日】2014年7月23日 申請日期:2013年1月23日 優先權日:2013年1月23日
【發明者】張春杰 申請人:深圳富泰宏精密工業有限公司