1.一種提高磁控濺射鍍膜均勻性及穩定性的靶材基座，包括用于放置靶材（1）的基座（3），其特征在于，在所述基座（3）下部安裝可使基座（3）旋轉用于調整高度的電機（7），電機（7）的傳動桿（5）的一端伸入基座（3）下部螺紋連接，且通過螺母（6）鎖緊。