技術總結
本發明公開了一種提高磁控濺射鍍膜均勻性及穩定性的靶材基座。該設計在基座下部安裝可使基座旋轉用于調整高度的電機，電機的傳動桿的一端伸入基座下部螺紋連接，且通過螺母鎖緊。采用本設計解決了傳統磁控濺射鍍膜中，由于隨著使用次數的增加，靶材消耗，靶基距變大，當其它參數不變時，所鍍的膜會逐漸不符合要求的問題。確保了磁場的均勻性，進而保證了鍍膜的均勻性及穩定性。
技術研發人員：郭文斌;霍曉青;司華青;張穎武;程紅娟;徐永寬;張志鵬;于凱;練小正
受保護的技術使用者：中國電子科技集團公司第四十六研究所
文檔號碼：201610992079
技術研發日：2016.11.11
技術公布日：2017.02.15