技術特征：
技術總結
本發明公開了一種AMOLED用低表面張力酸性蝕刻液，其是由如下重量百分比的原料組成：硝酸23?25％、鹽酸11?13％、醋酸7?9％、無機鹽氯化物1.2?1.8％、氟化銨8.5?9.4％、表面活性劑11.2?14.5％、添加劑5?8％和去離子水。與現有技術相比，本發明在蝕刻液中加入氟化銨和合適的添加劑，不引入任何金屬離子和陰離子，蝕刻后的氧化層表面無殘留，且能賦予蝕刻液較低的表面張力，增大蝕刻液滲透性；表面活性劑具有高表面活性疏水疏油的性質，與等量的其他表面活性劑相比，能極大的降低溶液的表面張力，因此其用量少，生產成本較低。
技術研發人員：白航空
受保護的技術使用者：合肥市惠科精密模具有限公司
技術研發日：2017.05.19
技術公布日：2017.09.15