技術特征:
技術總結
本發明公開了一種AMOLED用低表面張力酸性蝕刻液,其是由如下重量百分比的原料組成:硝酸23?25%、鹽酸11?13%、醋酸7?9%、無機鹽氯化物1.2?1.8%、氟化銨8.5?9.4%、表面活性劑11.2?14.5%、添加劑5?8%和去離子水。與現有技術相比,本發明在蝕刻液中加入氟化銨和合適的添加劑,不引入任何金屬離子和陰離子,蝕刻后的氧化層表面無殘留,且能賦予蝕刻液較低的表面張力,增大蝕刻液滲透性;表面活性劑具有高表面活性疏水疏油的性質,與等量的其他表面活性劑相比,能極大的降低溶液的表面張力,因此其用量少,生產成本較低。
技術研發人員:白航空
受保護的技術使用者:合肥市惠科精密模具有限公司
技術研發日:2017.05.19
技術公布日:2017.09.15