玻璃基板研磨用冷卻裝置的制作方法

本公開涉及玻璃基板研磨冷卻領域，具體地，涉及一種玻璃基板研磨用冷卻裝置。

背景技術：

研磨工序是液晶玻璃基板成品加工的核心部分，在研磨過程中會產生大量的熱量和研磨粉塵，容易使玻璃基板出現掉片、邊燒、邊裂等研磨不良現象；同時，研磨輪高速旋轉下會將高溫的研磨粉塵甩到玻璃基板的表面，形成粘附在玻璃基板上的頑固顆粒，造成顆粒異常聚集現象，因此，設計一種玻璃基板研磨用冷卻裝置，提高玻璃基板的研磨冷卻效果和成品良率是具有積極意義的。

技術實現要素：

本公開的目的是提供一種玻璃基板研磨用冷卻裝置，該冷卻裝置的冷卻效果好，能夠顯著降低玻璃基板的研磨不良率。

為了實現上述目的，本公開提供一種玻璃基板研磨用冷卻裝置，所述玻璃基板的邊部進入沿研磨輪周向延伸的研磨槽內，所述冷卻裝置包括設置在所述玻璃基板上方的主噴水管，所述主噴水管的出水口朝向所述研磨輪與所述玻璃基板接觸的研磨位置。

可選地，所述出水口形成為扁形方口，所述出水口的長邊緣與所述玻璃基板大致平行。

可選地，所述主噴水管上具有萬向節管段。

可選地，所述主噴水管通過第一固定裝置設置在安裝有所述研磨輪的研磨架上，所述第一固定裝置形成為立方框架結構。

可選地，所述出水口到所述研磨位置的距離為5-25mm。

可選地，所述冷卻裝置還包括第一支噴水管，該第一支噴水管的出水方向與所述研磨輪轉向同向地沿切向朝向所述研磨位置設置。

可選地，所述冷卻裝置還包括第二支噴水管，該第二支噴水管的出水方向與所述研磨輪轉向反向地沿切向朝向所述研磨位置設置。

可選地，所述研磨輪的外側沿徑向間隔地設置有防護罩，所述防護罩上開設有開口以使得所述玻璃基板穿過所述開口進入所述研磨槽，所述支噴水管通過第二固定裝置設置在所述防護罩上。

可選地，所述第二固定裝置形成為塊狀體，所述塊狀體上開設有用于容納所述防護罩的側壁的安裝槽和與所述安裝槽連通的第一固定孔，第一緊固件穿過所述第一固定孔將所述塊狀體固定于所述防護罩，所述塊狀體上還開設有用于容納所述支噴水管的安裝孔和與所述安裝孔連通的第二固定孔，第二緊固件穿過所述第二固定孔將所述支噴水管固定于所述塊狀體。

可選地，所述支噴水管的出水口距所述研磨位置的距離為2-5mm，所述支噴水管的出水口為圓形，所述支噴水管的出水口的直徑為3-5mm。

通過上述技術方案，在研磨過程中，從主噴水管中噴出的冷卻水一方面能夠帶走研磨過程中產生的熱量，另一方面能夠與研磨粉塵形成混合液，防止研磨粉塵飛濺至玻璃基板表面，本申請的發明人在實踐過程中發現，當研磨位置完全處于水中時，獲得的玻璃基板成品的品質越高，因此，通過將主噴水管設置在玻璃基板的上方，并使得出水口朝向該研磨位置，能夠使得冷卻水沖洗玻璃基板的過程中，在玻璃基板的邊部形成覆蓋該研磨位置的水域，使研磨位置沉浸在冷卻水中，從而大幅減小玻璃基板的顆粒異常聚集的現象。

本公開的其他特征和優點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細說明。

附圖說明

附圖是用來提供對本公開的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與下面的具體實施方式一起用于解釋本公開，但并不構成對本公開的限制。在附圖中：

圖1是本公開具體實施方式提供的一種玻璃基板研磨用冷卻裝置的俯視圖；

圖2是本公開具體實施方式提供的一種玻璃基板研磨用冷卻裝置的側視圖；

圖3是本公開提供的冷卻裝置中的第二固定裝置與防護罩的安裝示意圖。

具體實施方式

以下結合附圖對本公開的具體實施方式進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的具體實施方式僅用于說明和解釋本公開，并不用于限制本公開。

在本公開中，在未作相反說明的情況下，使用的方位詞如“上、下”通常是指在本公開提供的冷卻裝置在實際使用過程中，相應零部件的相對位置的上和下，“內、外”是指相應部件輪廓的內和外。

如圖1至圖3所示，本公開具體實施方式提供了一種玻璃基板1研磨用冷卻裝置，玻璃基板1的邊部進入沿研磨輪2周向延伸的研磨槽21內，冷卻裝置包括設置在玻璃基板1上方的主噴水管3，主噴水管3的出水口朝向研磨輪2與玻璃基板1接觸的研磨位置。需要說明的是，為了清楚地表示各部件的位置關系，圖1中未示出研磨架、第一固定裝置和第二固定裝置，圖 2中未示出研磨架和支噴水管。

在研磨過程中，從主噴水管3中噴出的冷卻水一方面能夠帶走研磨過程中產生的熱量，另一方面能夠與研磨粉塵形成混合液，防止研磨粉塵飛濺至玻璃基板1表面，本申請的發明人在實踐過程中發現，當研磨位置完全處于水中時，獲得的玻璃基板1成品的品質越高，因此，通過將主噴水管3設置在玻璃基板1的上方，并使得出水口朝向該研磨位置，能夠使得冷卻水沖洗玻璃基板1的過程中，在玻璃基板1的邊部形成覆蓋該研磨位置的水域，使研磨位置沉浸在冷卻水中，從而大幅減小玻璃基板1的顆粒異常聚集的現象。

具體地，出水口可以具有任意適當的形狀。為了使得玻璃基板1的邊部被冷卻水覆蓋的范圍盡量大，以能夠完全浸沒研磨位置，出水口形成為扁形方口(參考圖1和圖2)，出水口的長邊緣與玻璃基板1大致平行，在實際使用中可以使用鴨嘴型噴嘴，以形成較大的出水面積。

具體地，主噴水管3上具有萬向節管段31，以方便根據使用環境選擇主噴水管3的設置方式。

具體地，主水管的固定方式可以為任意適當的多種，在實際的研磨工況中，玻璃基板1通常處于靜止狀態，旋轉的研磨輪2沿玻璃基板1的邊部往復移動以進行研磨，因此，為保持研磨位置能夠始終處于水中，主噴水管3 可以通過第一固定裝置32設置在安裝有研磨輪2的研磨架上，以能夠隨研磨輪2同步移動，從而保持研磨位置始終與水接觸，進一步地，為方便固定主噴水管3，第一固定裝置32可以形成為立方框架結構。在可替換的實施方式中，主噴水管3也可以固定在其他裝置上，并可以通過增加控制系統的方式使主噴水管3與研磨輪2的移動同步，或者可以在玻璃基板1上方沿研磨輪2的移動方向設置有多個該主噴水管3。

具體地，出水口到研磨位置的距離可以根據出水量、出水速度等參數設置，例如，可以選擇出水口到研磨位置的距離為5-25mm。

為了進一步保護玻璃基板1，提升冷卻效果，冷卻裝置還包括第一支噴水管41，該第一支噴水管41的出水方向與研磨輪2轉向同向地沿切向朝向研磨位置設置。因此，隨著研磨輪2的轉動，能夠將第一支噴水管41噴出的冷卻水帶入研磨槽21內，保證研磨位置充分與冷卻水接觸。

同樣地，冷卻裝置還可以包括第二支噴水管42，該第二支噴水管42的出水方向與研磨輪2轉向反向地沿切向朝向研磨位置設置。由此確保研磨位置的上方與側方均能夠浸在冷卻水中，從而獲得較好的冷卻效果，形成對玻璃基板1邊部的全面保護。

在本實施方式中，研磨輪2的外側沿徑向間隔地設置有防護罩5，防護罩5上開設有開口51以使得玻璃基板1穿過開口51進入研磨槽21，支噴水管通過第二固定裝置6設置在防護罩5上，因此支噴水管也能夠容易地隨著研磨輪2的移動同步運動。

第二固定裝置6也可以具有任意適當的結構，例如圖3所示的實施方式中(為清楚地顯示第二固定裝置的結構，圖3中保留有虛線)，第二固定裝置6形成為塊狀體，塊狀體上開設有用于容納防護罩5的側壁的安裝槽61 和與安裝槽61連通的第一固定孔62，第一緊固件穿過第一固定孔62將塊狀體固定于防護罩5，塊狀體上還開設有用于容納支噴水管的安裝孔63和與安裝孔63連通的第二固定孔64，第二緊固件穿過第二固定孔64將支噴水管固定于塊狀體，從而通過簡單的結構固定支噴水管。

進一步地，為了保證冷卻水能夠順利地進入研磨槽21并在研磨輪2的帶動下進入研磨位置，支噴水管的出水口距研磨位置的距離可以設置為 2-5mm。

為適應研磨槽21的寬度，支噴水管的出水口可以為圓形，支噴水管的出水口的直徑為3-5mm。

以上結合附圖詳細描述了本公開的優選實施方式，但是，本公開并不限于上述實施方式中的具體細節，在本公開的技術構思范圍內，可以對本公開的技術方案進行多種簡單變型，這些簡單變型均屬于本公開的保護范圍。

另外需要說明的是，在上述具體實施方式中所描述的各個具體技術特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進行組合，為了避免不必要的重復，本公開對各種可能的組合方式不再另行說明。

此外，本公開的各種不同的實施方式之間也可以進行任意組合，只要其不違背本公開的思想，其同樣應當視為本公開所公開的內容。