專利名稱：用于tdi生產的光氣脫除方法
技術領域：
本發明涉及從氣液混合物中脫除有毒氣體的方法。
背景技術：
工業上TDI (甲苯二異氰酸酯)的生產均采用甲苯二胺在惰性溶劑中與過量 光氣進行光氣化反應，反應生成目標產品TDI和副產品氯化氫，再經過脫氯化 氫、脫光氣、脫殘渣和脫溶劑等步驟，最終得到產品TDI，反應過程中過量的光 氣和惰性溶劑經回收后循環使用。作為反應物之一的光氣是一種劇毒物質，必 須從產品中完全脫除以保證產品TDI的安全性。TDI工業生產中光氣的脫除一 般經過高壓、低壓和負壓脫光氣塔三級脫除流程，以保證產品中不含光氣。從 光氣化反應器出來的反應液含有產品TDI、溶劑間苯二甲酸二乙酯(DEIP)和過量 的光氣，依次經過高壓脫光氣塔、低壓脫光氣塔和負壓脫光氣塔脫除物料中的 光氣，再經過脫殘渣塔和脫溶劑塔后得到最終產品TDI。其中高壓脫光氣塔脫除 大部分光氣，脫除的光氣經進一步冷卻后直接去光氣罐循環使用；低壓脫光氣 塔脫除的光氣送光氣回收系統提純后再進行循環使用；負壓脫光氣塔脫除的光 氣隨真空系統也送入光氣回收系統。
傳統的脫除光氣流程中，低壓脫光氣塔依靠物料從高壓脫光氣塔塔底物料閃 蒸提供的熱量實現光氣在低壓下的脫除，當高壓脫光氣塔操作異常時，低壓脫 光氣塔沒有必要的調節手段進行補救，而是把問題直接傳遞給負壓脫光氣塔， 造成負壓脫光氣塔真空系統不穩定；另外，TDI等重組分去真空系統會形成浪費， 塔底物料中仍然含有光氣，影響后續脫殘渣、脫溶劑系統的正常操作，當低壓 脫光氣塔脫除的光氣送光氣回收系統時，造成光氣回收系統負荷較大。低壓脫 光氣塔是在0.17 MPa的壓力下操作的、， 一方面需要壓力控制，增加了操作的 復雜性；另一方面由于TDI在高溫下容易聚合生成殘渣，所以，需要控制塔底 溫度在17CTC以下，而在此溫度下塔底物料中還含有較多的光氣，使最終產品 TDI光氣的脫除效果不佳。
發明內容
本發明的目的是提供一種用于TDI生產的光氣脫除方法，在降低光氣回收
系統的負荷的同時提高系統的操作彈性。
本發明是用于TDI生產的光氣脫除方法，從光氣化反應器出來的含有TDI、
溶劑間苯二甲酸二乙酯和過量的光氣的反應液首先進行高壓脫光氣處理，然后
再進行低壓脫光氣處理，在低壓脫光處理階段進行再加熱，使低壓脫光階段的 光氣再沸騰，然后進入負壓脫光氣階段，經負壓脫光處理脫除物料中的光氣， 再經過脫殘渣塔和脫溶劑塔后得到最終產品TDI。
本發明的有益之處在于通過將低壓脫光氣塔改為常壓操作后，使塔的操 作容易控制；對低壓脫光氣塔增加了一臺塔底再沸器后， 一方面使得塔頂出料 和塔底出料組成更容易控制，可以保證塔頂光氣純度達到可以循環使用的要求， 避免了將塔頂光氣再送光氣回收系統，光氣回收系統的負荷大大降低，另一方 面，增加了整個流程的操作彈性，當高壓脫光氣塔操作不穩定時，可通過調整 低壓脫光氣塔來保持穩定后續負壓脫光氣塔操作的效果，增加流程的操作彈性 使流程更加穩定。
本發明使塔頂光氣純度達到可循環使用的要求，避免了將塔頂光氣再送光氣 回收系統，使得去光氣回收系統的光氣量降低到54kg/h，光氣回收系統的負荷 降低了 79.93%,且提高了整個流程的操作彈性，使流程更加穩定。
圖1為現有技術實施光氣脫除的方法的生產系統示意圖，圖2為實施本發明 方法的生產系統示意圖。圖1中的附圖標記與圖2中相同的均表示為同一裝置。
具體實施例方式
實施例1:
如圖2所示，本發明是用于TDI生產的光氣脫除方法，借助于一個高壓脫 光氣塔1， 一個與高壓脫光氣塔1相通的光氣罐2， 一個低壓脫光氣塔3， 一個 負壓脫光氣塔4進行光氣的脫除，其步驟為從光氣化反應器出來的含有TDI、
溶劑間苯二甲酸二乙酯和過量的光氣的反應液首先經過高壓脫光氣塔1進行高 壓脫光氣處理，然后進入低壓脫光氣塔3進行低壓脫光氣處理，在低壓脫光氣 塔3底部進行加熱，使低壓脫光氣塔3中的光氣再沸騰，然后進入負壓脫光氣
塔4,經負壓脫光氣塔4脫除物料中的光氣，再經過脫殘渣塔和脫溶劑塔后得到 最終產品TDI。其中高壓脫光氣塔1脫除大部分光氣，脫除的光氣經進一步冷卻 后直接去光氣罐2循環使用；低壓脫光氣塔3脫除的光氣送光氣回收系統提純 后再進行循環使用；負壓脫光氣塔4脫除的光氣隨真空系統5也送入光氣回收 系統。
實施例2:
如圖2所示，本發明是用于TDI生產的光氣脫除方法，其步驟為從光氣 化反應器出來的含有TDI、溶劑間苯二甲酸二乙酯和過量的光氣的反應液首先經 過高壓脫光氣塔1進行處理，然后進入配有塔底再沸器6的低壓脫光氣塔3進 行加熱，然后進入負壓脫光氣塔4，經負壓脫光氣塔4脫除物料中的光氣，再經 過脫殘渣塔和脫溶劑塔后得到最終產品TDI。其中高壓脫光氣塔1脫除大部分光 氣，脫除的光氣經進一步冷卻后直接去光氣罐2循環使用；低壓脫光氣塔3脫 除的光氣送光氣回收系統提純后再進行循環使用；負壓脫光氣塔4脫除的光氣 隨真空系統5也送入光氣回收系統。
權利要求
1、用于TDI生產的光氣脫除方法，其特征在于從光氣化反應器出來的含有TDI、溶劑間苯二甲酸二乙酯和過量的光氣的反應液首先進行高壓脫光氣處理，然后再進行低壓脫光氣處理，在低壓脫光處理階段進行再加熱，使低壓脫光階段的光氣再沸騰，然后進入負壓脫光氣階段，經負壓脫光處理脫除物料中的光氣，再經過脫殘渣塔和脫溶劑塔后得到最終產品TDI。
2、 用于TDI生產的光氣脫除方法，其特征在于從光氣化反應器出來的含有TDI、 溶劑間苯二甲酸二乙酯和過量的光氣的反應液首先經過高壓脫光氣塔(1 )進行 高壓脫光氣處理，然后進入的低壓脫光氣塔(3)進行低壓脫光氣處理，由安裝 在低壓脫光氣塔(3)底部的塔底再沸器(6)進行加熱，使光氣再沸騰，然后 進入負壓脫光氣塔(4),經負壓脫光氣塔(4)脫除物料中的光氣，再經過脫殘 渣塔和脫溶劑塔后得到最終產品TDI。
3、 根據權利要求1所述的用于TDI生產的光氣脫除方法，其特征在于高壓脫光 氣塔(1)脫除大部分光氣經進一步冷卻后直接去光氣罐(2)循環使用；低壓 脫光氣塔(3)脫除的光氣送光氣回收系統提純后再進行循環使用；負壓脫光氣 塔(4)脫除的光氣隨真空系統(5)也送入光氣回收系統。
4、 根據權利要求書1所述的用于TDI生產的光氣脫除方法，其特征在于低壓脫 光氣塔(3)為常壓脫光氣塔。
全文摘要
用于TDI生產的光氣脫除方法，涉及從氣液混合物中脫除有毒氣體的方法，從光氣化反應器出來的含有TDI、溶劑間苯二甲酸二乙酯和過量的光氣的反應液首先進行高壓脫光氣處理，然后再進行低壓脫光氣處理，在低壓脫光處理階段進行再加熱，使低壓脫光階段的光氣再沸騰，然后進入負壓脫光氣階段，經負壓脫光處理脫除物料中的光氣，再經過脫殘渣塔和脫溶劑塔后得到最終產品TDI。
文檔編號C07C265/00GK101348446SQ20081001811
公開日2009年1月21日 申請日期2008年4月25日 優先權日2008年4月25日
發明者強光明, 李曉明, 王進軍, 胡安魁, 馬建軍 申請人:甘肅銀光化學工業集團有限公司