苛性水性烷基糖苷剝離劑組分的制作方法

相關申請的交叉引用

本申請要求2014年8月19日提交的美國臨時專利申請no.62/039,228的優先權，在此該申請的全部內容通過引用并入本申請中。

背景技術：

聚合物底物，例如在循環過程中形成的塑料再研磨料，可能包括不合需要的涂層。例如，涂層可能包括油墨、標簽、粘合劑、金屬薄膜，等。在進一步使用這些底物例如用于塑料制品制造的再生原料之前，需要處理這些聚合底物以移除不合需要的涂層。現有工藝使用極苛性溶液、高溫和/或高壓，或者高成本試劑清除涂層。

本申請理解從聚合物底物清除涂層可能是挑戰性嘗試。

技術實現要素：

在一種實施方式中，提供單相水溶液。單相水溶液可用于清除聚合物底物的一個或多個涂層。單相水溶液可包括無機堿組分。單相水溶液可包括表面活性劑組分。表面活性劑組分可包括一種或多種烷基糖苷。單相水溶液可包括水。

在另一種實施方式中，提供過程混合物。該過程混合物包括聚合物底物。該聚合物底物可包括一個或多個涂層。過程混合物可包括單相水溶液。單相水溶液可包括無機堿組分。單相水溶液可包括無機堿組分。單相水溶液可包括表面活性劑組分。表面活性劑組分可包括一種或多種烷基糖苷。單相水溶液可包括水。

在另一實施方式中，提供使用單相水溶液清除聚合物底物的一個或多個涂層的方法。該方法可包括提供單相水溶液。單相水溶液可包括無機堿組分。單相水溶液可包括表面活性劑組分。表面活性劑組分可包括一種或多種烷基糖苷。單相水溶液可包括水。該方法可包括提供聚合物底物。該聚合物底物可包括一個或多個涂層。該方法可包括使單相水溶液和聚合物底物接觸以形成過程混合物。該方法可包括在可有效清除聚合物底物的一個或多個涂層的部分的條件下，形成過程混合物。

在一種實施方式中，提供試劑盒。試劑盒可用于制作單相水溶液用于清除聚合物底物的一個或多個涂層。該試劑盒可包括以下組分中的一種或多種：無機堿組分和表面活性劑組分。表面活性劑組分可包括一種或多種烷基糖苷。該試劑盒可包括說明。該說明可指導用戶將無機堿組分以及表面活性劑組分和水混合以形成單相水溶液。

附圖說明

結合進說明書并成為其一部分的附圖闡明了示例性方法和裝置并僅用于闡明示例性實施方式。

圖1是描述示例性方法的流程圖。

圖2是描述示例性試劑盒的框圖。

圖3是基于實例2和3的結果報告表。

具體實施方式

本申請涉及用于清除聚合物底物的一個或多個涂層的組分、過程混合物和試劑盒。

在各種實施方式中，提供單相水溶液。該單相水溶液可用于清除聚合物底物的一個或多個涂層。單相水溶液可包括無機堿組分。單相水溶液可包括表面活性劑組分。表面活性劑組分可包括一種或多種烷基糖苷。

在一些實施方式中，單相水溶液可包括水，占單相水溶液的重量百分比(w/w)約為以下至少一種或多種：90％,91％,92％,93％,94％,95％,96％,97％,98％,98.1％,98.2％,98.3％,98.4％,98.5％,98.6％,98.7％,98.8％,和98.9％。例如，單相水溶性可包括至少約94％的重量的水。單相水溶液可包括水，其重量百分比在上述任意上述重量百分比之間。

在各種實施方式中，無機堿組分可包括以下一種或多種：堿金屬氫氧化物、堿土金屬氧化物、或堿土金屬氫氧化物。進一步的，無機堿組分可由或主要由以下一種或多種組成：堿金屬氫氧化物、堿土金屬氧化物或堿土金屬氫氧化物。如此處使用的，堿金屬可包括例如鋰、鈉、鉀、銣或銫。堿土金屬可包括，例如鈹、鎂、鈣、鍶或鋇。例如，無機堿組分可包括以下一種或多種：氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氧化鎂、氧化鈣、氫氧化鎂或氫氧化鈣。無機堿組分可由或主要由以下一種或多種組成：氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氧化鎂、氧化鈣、氫氧化鎂或氫氧化鈣。無機堿組分可包括氫氧化鈉。無機堿組分可包括氫氧化鉀。無機堿組分可由或主要由氫氧化鈉組成。無機堿組分可由或主要由氫氧化鉀組成。

在各種實施方式中，無機堿組分可包含于單相水溶液中，其含量可在單相水溶液中有效建立以mol/l(m)計的以下氫氧化物濃度：約0.0125m至約1.25m；0.0125m至1m；0.025m至約0.75m；0.0625m至約0.625m；0.0625m至約0.563m；0.0625m至0.5m；0.0625m至約0.438m；0.125m至約0.375m；0.188m至約0.313m；約0.025m；約0.188m；約0.25m；或上述任意兩個值之間的范圍，例如約0.0125m至約1.25m,或任意上述值，例如約0.025m,約0.188m,或約0.25m。

無機堿組分在單相水溶液中與水的重量百分率(w/w)可為以下一種或多種：0.1％,0.2％,0.3％,0.4％,0.5％,0.6％,0.7％,0.75,0.8％,0.9％,1％,1.5％,2％,2.5％,3％,3.5％,4％,4.5％,5％,6％,7％,8％,9％,和10％。例如，無機堿組分可包括氫氧化鈉，在單相水溶液中與水的重量百分率(w/w)約為1％，約0.75％等。

在一些實施方式中，表面活性劑組分可包括非離子型表面活性劑。表面活性劑組分可主要由，或由非離子型表面活性劑組成。例如，如此處使用的，該一種或多種烷基糖苷可以是非離子型表面活性劑。該表面活性劑組分可包括兩種或更多種烷基糖苷。烷基糖苷，例如一種或多種烷基糖苷中的每個烷基可獨立的選自以下一種：c4-c20烷基；c6-c18烷基；c6-c14烷基；c6-c12烷基；c8-c10烷基；或者c8和c10烷基。該一種或多種烷基糖苷可包括一個或多個烷基葡糖甙，例如兩個或更多個烷基葡糖甙。烷基葡糖甙，例如一種或多種烷基葡糖甙中的每個烷基可獨立的選自以下一種：c4-c20烷基；c6-c18烷基；c6-c14烷基；c6-c12烷基；c8-c10烷基；或者c8和c10烷基。該一種或多種烷基多糖苷可包括一個或多個癸酰基葡糖甙或癸基葡糖甙。表面活性劑組分可包括表面活性劑混合物。例如，表面活性劑組分可包括c8-c10烷基糖苷表面活性劑和c6-c12聚二醇烷基醚表面活性劑。

在幾種實施方式中，表面活性劑組分還可包括以下一種或多種：聚二醇烷基醚，聚乙二醇烷基醚，聚丙二醇烷基醚，以及聚丙二醇聚乙二醇烷基醚。聚二醇烷基醚可指烷氧基化醇，例如乙氧基化醇、丙氧基化醇，其組合，等。聚二醇烷基醚可通過r¹-(or²)x-oh表示。r¹代表的基團可以是例如c6-c16烷基。r¹可來自以下一種或多種：伯醇、仲醇、叔醇、線性烷基醇，以及支鏈烷基醇。r²代表的基團可以是c2-c4烷基，例如乙烯或被取代乙烯。變量x可以是1-10的整數。在一些實施方式中，r¹代表的基團可以是c8-c12烷基；r²代表的基團可以是乙基；并且變量x可以為3-7的整數。

聚丙二醇聚乙二醇烷基醚可表示如下：r³-(or⁴)y-(or⁵)z-oh,r³-(or⁵)z-(or⁴)y-oh,r³-(or⁴)y-(or⁵)z-(or⁴)y-oh,r³-(or⁵)z-(or⁴)y-(or⁵)z-oh,其結合，等。或者，聚丙二醇聚乙二醇烷基醚可由ppg-z-r³-eth-y表示。r³可以為例如c6-c20烷基。r³可來自以下一種或多種：伯醇、仲醇、叔醇、線性烷基醇，以及支鏈烷基醇。r⁴表示的基團可為c2，例如乙烯。變量y/y’可以是1-12的整數。r⁵表示的基團可以是c3，例如用甲基取代的乙烯。變量z/z’可以是1-30，例如1-12的整數。在一些實施方式中，變量z可以是4-8的整數；變量y可以為1-5的整數；并且r³表示的基團可以為c10-c14烷基。

在各種實施方式中，聚二醇烷基醚可以包括癸醇聚醚-x等級的非離子型表面活性劑，例如由r¹-(or²)x-oh表示，其中r¹代表的基團為癸基，r²表示的基團為乙基，變量x為1-10的整數。例如，合適的實例是癸醇聚醚-5。其他聚二醇烷基醚的實例可包括lps-t91^tm(lps實驗室,illinoistoolworks有限公司的部門,tucker,喬治亞州)；ethylan^tm1005sa,ethylan^tm1206,ethylan^tmtd-60,ethylan^tm324,ethylan^tm954,ethylan^tm1008sa,ethylan^tm992,ethylan^tm995,ethylan^tmns500k,ethylan^tmns500lq,ethylan^tmsn-120,ethylan^tmsn-90,ethylan^tmtd-1407等(azkonobelsurfacechemistryllc,伊利諾斯州芝加哥)；tergitol^tm15-s-9,tergitol^tm15-s-3,tergitol^tm15-s-5,tergitol^tm15-s-7,tergitol^tm15-s-12,tergitol^tm15-s-15,tergitol^tm15-s-20,tergitol^tm15-s-30,tergitol^tm15-s-40等(dowchemicalcompany,密歇根州米德蘭)；1200,91-8,1-9,1-3,1-5,1-7，1-73b，23-1,23-3,23-6.5,25-12,25-3,25-7,25-9,45-13,45-7,600,900,901,902,910,91-2.5和91-6，等(airproductsandchemicals股份有限公司，賓夕法尼亞州艾倫鎮)。

聚丙二醇聚乙二醇烷基醚的合適實例可包括ppg-z-月桂醇聚醚-y等級非離子型表面活性劑，例如由r³-(or⁴)y-(or⁵)z-oh或r³-(or⁵)z-(or⁴)y-oh表示，其中r³表示的基團是月桂酰，r⁴表示的是乙烯，變量y是1-12的整數，例如1-5；基團r⁵表示丙烯(丙二醇，ppg)，即被甲基取代的乙烯，并且變量z可以是1-30的整數，例如1-12，或4-8。例如，合適的實例可以是ppg-6-月桂醇聚醚-3。

在一些實施方式中，表面活性劑組分可包括以下一種或多種：癸醇聚醚-5以及ppg-6-月桂醇聚醚-3。表面活性劑組分可包括：癸酰基葡糖甙、癸基葡糖甙、癸醇聚醚-5以及ppg-6-月桂醇聚醚-3。表面活性劑組分可主要由以下組成：癸酰基葡糖甙、癸基葡糖甙、癸醇聚醚-5以及ppg-6-月桂醇聚醚-3。表面活性劑組分可由以下組成：癸酰基葡糖甙、癸基葡糖甙、癸醇聚醚-5以及ppg-6-月桂醇聚醚-3。

在幾種實施方式中，單相水溶液可包括表面活性劑組分，該表面活性劑組分與水的重量百分率(w/w)約為以下一種或多種：0.005％至2％；0.01％至1.5％；0.025％至1％；0.025％至0.75％；0.025％至0.5％；0.05％至0.25％；0.05％至0.15％；0.2％至0.1％。

在各種實施方式中，包括非離子型表面活性劑例如一種或多種烷基糖苷的合適的表面活性劑組分可包括例如烷基葡糖甙組分，以商標名銷售(例如，advanced，等，basf公司,新澤西州弗洛勒姆帕克)。例如，使用的advanced的重量百分率可為約0.005％-約2％，例如約0.1％。合適的表面活性劑組分可包括聚二醇烷基醚或聚丙二醇聚乙二醇烷基醚表面活性劑。例如，advanced可包括癸醇聚醚-5或ppg-6-月桂醇聚醚-3。包括非離子型表面活性劑(包括烷基糖苷)的其他合適的表面活性劑組分可包括例如以商標銷售的組分(basf公司,新澤西州弗洛勒姆帕克)。例如，表面活性劑組分可包括420up或425n。

在一些實施方式中，單相水溶液可主要由，或由水、無機堿組分，以及包括一種或多種烷基糖苷的表面活性劑組分組成。

在各種實施方式中，提供過程混合物。該過程混合物包括聚合物底物。該聚合物底物可包括一個或多個涂層。過程混合物可包括單相水溶液。單相水溶液可包括無機堿組分。單相水溶液可包括無機堿組分。單相水溶液可包括表面活性劑組分。表面活性劑組分可包括一種或多種烷基糖苷。單相水溶液可包括水。

在一些實施方式中，過程混合物的單相水溶液可包括此處描述的單相水溶液的任意方面。例如，過程混合物的單相水溶液可包括無機堿組分、表面活性劑組分，以及水，用于此處的單相水溶液。

在一些實施方式中，聚合物底物可以是塊狀或微粒狀，例如作為塑料再研磨料的一部分，例如作為回收程序的一部分。該聚合物底物，例如塑料再研磨料，可以是塊狀或顆粒，并可以是以下的一種或多種：可回收的；未利用塑料；剛性的；柔韌的；纖維的；纖維增強樹脂，其混合物等。該聚合物底物可包括以下一種或多種：聚乙烯(pe)、聚丙烯(pp)、聚碳酸酯(pc)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(abs)、聚碳酸酯/丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(pc/abs)、聚碳酸酯/丙烯腈-苯乙烯-丙烯酸酯(pc/asa)等。該一個或多個涂層可包括以下中的一種或多種：油漆、油墨、染料、粉末涂層、紙標簽、塑料標簽、粘結劑、防護涂層、金屬化涂層、或生物涂層。生物涂層可以是例如基于蛋白質、低聚糖等。金屬化涂層可包括連續的膜或金屬微粒。該描述的溶液、過程混合物、方法和試劑盒可對金屬薄膜尤其有效。

在各種實施方式中，提供使用單相水溶液清除聚合物底物的一個或多個涂層的方法。圖1使用單相水溶液清除聚合物底物的一個或多個涂層的示例性方法100的的流程圖。方法100可包括102，提供單相水溶液。單相水溶液可包括無機堿組分。單相水溶液可包括表面活性劑組分。表面活性劑組分可包括一種或多種烷基糖苷。單相水溶液可包括水。方法100可包括104，提供聚合物底物。該聚合物底物可包括一個或多個涂層。方法100可包括106使單相水溶液和聚合物底物接觸以形成過程混合物。該方法可包括在可有效清除聚合物底物的一個或多個涂層的部分的條件下，形成過程混合物。

在一些實施方式中，有效清除聚合物底物上的一個或多個涂層的一部分的條件可包括加熱過程混合物，例如維持或達到所需溫度。例如，過程混合物可在約以下一種或多種的溫度下加熱：60℃-100℃；65℃-100℃；70℃-100℃；75℃-95℃；80℃-90℃；或85℃。過程混合物可加熱一段時間，例如，包括以下一種或多種：約5min-約24h；約10min-約12h；約15min-約8h；約20min-約4h；約20min-約3h；約20min-約2h；或約20min-約1h。

在幾種實施方式中，有效清除聚合物底物上的一個或多個涂層的一部分的條件可包括確定起始涂層量。有效清除聚合物底物上的一個或多個涂層的一部分的條件可包括攪動過程混合物。可通過傳統方法完成攪動，例如攪拌、滾動、振動或超聲處理，通過煮沸攪動，等。有效清除聚合物底物上的一個或多個涂層的一部分的條件可包括加熱和攪動過程混合物。有效清除聚合物底物上的一個或多個涂層的部分的條件可包括確定小于起始涂層量的一百分率的過程涂層量。該起始涂層量的百分率可為以下一種或多種：20％,15％,14％,13％,12％,11％,10％,9％,8％,7％,6％,5％,4％,3％,2％,或1％,例如，10％,或上述任意值之間的范圍，如約20％-約1％。有效清除聚合物底物上的一個或多個涂層的部分的條件可包括在確定過程涂層量小于起始涂層量的該百分率時，回收聚合物底物。有效清除聚合物底物上的一個或多個涂層的一部分的每個條件可作為獨立的方法步驟實施。例如，該方法可包括攪動過程混合物。

在各種實施方式中，該方法可包括在清除一個或多個涂層后清除聚合物底物。該方法可包括在清除一個或多個涂層的一部分后回收至少一部分單相水溶液。該方法，例如有效清除聚合物底物上的一個或多個涂層的一部分的條件可包括分批操作。該方法，例如有效清除聚合物底物上的一個或多個涂層的一部分的條件可包括連續操作。

在一些實施方式中，該方法的單相水溶液可包括此處描述的單相水溶液的任意方面。例如，該方法的單相水溶液可包括無機堿組分、表面活性劑組分，以及水，用于此處的單相水溶液。同樣的，該方法的過程混合物可包括此處描述的過程混合物的任意方面。例如，該方法的過程混合物可包括此處描述的單相水溶液，例如用于過程混合物。同樣的，該方法的聚合物底物可包括此處描述的聚合物底物的任意方面。例如，該方法的聚合物底物可包括此處描述的包括一個或多個涂層的聚合物底物，例如用于過程混合物。

在幾個實施方式中，該方法可包括形成單相水溶液的步驟，該單相水溶液可包括此處描述的單相水溶液的任意方面。例如，假如單相水溶液可包括形成一單相水溶液，該單相水溶液包括以下摩爾濃度的氫氧化鈉：約0.0125m-約1.25m；0.0125m-約1m；0.025m-約0.75m；0.0625m-約0.625m；0.0625m-約0.563m；約0.0625-約0.5m；0.0625m-約0.438m；0.125m-約0.375m；0.188m-約0.313m；約0.025m；約0.188m；約0.25m；或者上述任意兩個值之間的范圍，例如，約0.0125m-約1.25m，或者上述任意值，例如約0.025m，約0.188m，或約0.25m。假設單相水溶液可包括形成包含氫氧化鈉的單相水溶液，其中氫氧化鈉與水的重量百分數(w/w)為以下一種或多種：約0.0125m至約1.25m；0.0125m至1m；0.025m至約0.75m；0.0625m至約0.625m；0.0625m至約0.563m；0.0625m至0.5m；0.0625m至約0.438m；0.125m至約0.375m；0.188m至約0.313m；約0.025m；約0.188m；約0.25m；或上述任意兩個值之間的范圍，例如約0.0125m至約1.25m,或任意上述值，例如約0.025m,約0.188m,或約0.25m。假設單相水溶液可包括形成包括氫氧化鈉的單相水溶液，其中氫氧化鈉與水的重量百分數(w/w)為以下一種或多種：0.1％,0.2％,0.3％,0.4％,0.5％,0.6％,0.7％,0.75,0.8％,0.9％,1％,1.5％,2％,2.5％,3％,3.5％,4％,4.5％,5％,6％,7％,8％,9％,和10％。例如，無機堿組分可包括氫氧化鈉，在單相水溶液中與水的重量百分率(w/w)約為1％，約0.75％等。而且，例如，該方法可包括形成單相水溶液，該單相水溶液可主要由，或由水、無機堿組分，以及包括一種或多種烷基糖苷的表面活性劑組分組成。

進一步的，例如，在幾種實施方式中，該方法可包括形成包含表面活性劑組分的單相水溶液，該表面活性劑組分與水的重量百分率(w/w)約為以下一種或多種：0.005％至2％；0.01％至1.5％；0.025％至1％；0.025％至0.75％；0.025％至0.5％；0.05％至0.25％；0.05％至0.15％；0.2％；和0.1％。

在一些實施方式中，該方法可包括形成單相水溶液，其中水占單相水溶液的重量百分比(w/w)約為以下至少一種或多種：94％,95％,96％,97％,98％,98.1％,98.2％,98.3％,98.4％,98.5％,98.6％,98.7％,98.8％,或98.9％,或上述任意值之間的范圍，如約94％-約98.9％。

在各種實施方式中，提供試劑盒。圖2是用于提供單相水溶液用于清除聚合物底物的一個或多個涂層的示例性試劑盒200的塊狀圖。該試劑盒可包括202以下組分中的一種或多種：無機堿組分和表面活性劑組分。表面活性劑組分可包括一種或多種烷基糖苷。該試劑盒可包括說明204。該說明204可指導用戶將無機堿組分以及表面活性劑組分和水混合以形成單相水溶液。

在一些實施方式中，試劑盒可包括無機堿組分和表面活性劑組分。該試劑盒可包括無機堿干組分。該試劑盒可包括無機堿組分和表面活性劑組分一起作為以下一種：凈混合物；水性濃縮物；或者單相水溶液，例如即用型。

在各種實施方式中，該說明可進一步指導用戶通過將單相水溶液和包括至少一個或多個涂層的聚合物底物接觸形成過程混合物。該說明可指導用戶使用包括以下一種或多種的聚合物底物：聚乙烯(pe)、聚丙烯(pp)、聚碳酸酯(pc)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(abs)、聚碳酸酯/丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(pc/abs)、聚碳酸酯/丙烯腈-苯乙烯-丙烯酸酯(pc/asa)等。該說明可指導用戶使用聚合物底物，該一個或多個涂層包括以下一種或多種：油漆、油墨、染料、粉末涂層、紙標簽、塑料標簽、粘結劑、防護涂層、金屬化涂層、或生物涂層。

在各種實施方式中，說明可指導用戶從聚合物底物有效清除一個或多個涂層，包括以下一種或多種：加熱過程混合物、攪動過程混合物、在清除該一個或多個涂層的一部分后回收聚合物底物，或者回收單相水溶液的至少一部分。該說明可指導用戶清除聚合物底物上的一個或多個涂層，包括在以下一種或多種溫度條件下加熱過程混合物：60℃-100℃；65℃-100℃；70℃-100℃；75℃-95℃；80℃-90℃；82℃；和85℃。該說明可指導用戶清除聚合物底物的一個或多個涂層，包括以下一種：分批操作或連續操作。

在一些實施方式中，該說明可指導用戶清除聚合物底物的一個或多個涂層，包括以下一種或多種：確定起始涂層量；加熱并攪動過程混合物；確定過程涂層量少于起始涂層量的一百分率；并在確定過程涂層量少于起始涂層量的該百分率時回收聚合物底物。該起始涂層量的百分率可為以下一種或多種：20％,15％,14％,13％,12％,11％,10％,9％,8％,7％,6％,5％,4％,3％,2％,和1％。

在幾種實施方式中，該說明可指導用戶形成包含無機堿組分的單相水溶液，該無機堿組分的含量可在單相水溶液中有效建立以mol/l(m)計的以下氫氧化物濃度：約0.0125m至約1.25m；0.0125m至1m；0.025m至約0.75m；0.0625m至約0.625m；0.0625m至約0.563m；0.0625m至0.5m；0.0625m至約0.438m；0.125m至約0.375m；0.188m至約0.313m；0.05m；0.025m；0.188m；和0.25m。例如，該說明可指導用戶形成包含無機堿組分的單相水溶液，該無機堿組分包括氫氧化鈉，與水的重量百分比(w/w)約為1％。例如，該方法可指導用戶形成包含表面活性劑組分的單相水溶液，該表面活性劑組分與水的重量百分率(w/w)約為以下一種或多種：0.005％至2％；0.01％至1.5％；0.025％至1％；0.025％至0.75％；0.025％至0.5％；0.05％至0.25％；0.05％至0.15％；0.2％至0.1％；例如，該說明可指導用戶形成單相水溶液，其中水占單相水溶液的重量百分比(w/w)約為以下至少一種或多種：95％,96％,97％,98％,98.1％,98.2％,98.3％,98.4％,98.5％,98.6％,98.7％,98.8％,和98.9％。例如，該說明可指導用戶形成單相水溶液，該單相水溶液可主要由，或由水、無機堿組分，以及包括一種或多種烷基糖苷的表面活性劑組分組成。

在一些實施方式中，該試劑盒的單相水溶液可包括此處描述的單相水溶液的任意方面。例如，該試劑盒的單相水溶液可包括無機堿組分、表面活性劑組分，以及水，用于此處的單相水溶液。同樣的，該試劑盒的過程混合物可包括此處描述的過程混合物的任意方面。例如，該方法的過程混合物可包括此處描述的單相水溶液，例如用于過程混合物。同樣的，該方法的聚合物底物可包括此處描述的聚合物底物的任意方面。例如，該方法的聚合物底物可包括此處描述的包括一個或多個涂層的聚合物底物，例如用于過程混合物。進一步的，該試劑盒的說明可包括操作此處說明的任意方法步驟的說明。

在此，各實施方式可列舉術語“包括”或者在權利要求中的術語“包含”及其語法變體。對于每種實施方式，對應的另外實施方式可清楚的預計術語“包含”被“由...主要組成”和“由...組成”替代。

實例

實例1

將約11,793kg的85℃熱水加入攪拌桶中。約4,990kg聚丙烯片狀底物按重量分析的加入水中，并混合形成懸浮液。聚丙烯片狀底物是剛性塑料再研磨料，約0.953cm尺寸，并包括墨水和金屬化涂層的混合物。起始涂層污染確定為約35％。一旦確定混合率是正確的，按下述順序分步加入試劑至懸浮液中。總計加入試劑制作下述重量百分率(通過每種試劑重量除以水重量確定)的單相水溶液。因此，加入236kg氫氧化鈉的50％水溶液形成1％w/w氫氧化鈉濃度。進一步的，加入11.8kgadvanced(basf公司,新澤西州弗洛勒姆帕克)，其為非離子表面活性劑組分，包括烷基糖苷，以形成0.1％w/w濃度的表面活性劑組分。

從第2小時開始每隔30min取樣，直至平面印刷的聚丙烯片狀底物基本從絲網印刷油墨涂層脫離。在約第2.5小時，測定96％聚丙烯片狀底物是干凈的。在約第3.5小時，大于測定98％聚丙烯片狀底物是干凈的。使用傳統技術將懸浮液脫水，洗滌和干燥，以分離經洗滌的片狀物和不需要的產物，收集用于下一步應用，例如，回收。單相水溶液可使用過濾技術進行回收重新用于試劑回收。

實例2

在攪拌桶中加入約2.72kg的水并加熱至約82℃。當水達到82℃并在約800rpm條件下攪拌，在攪拌桶中加入0.75％(w/w)的50％(w/v)naoh溶液，0.10％(w/w)advanced表面活性劑(basf公司,新澤西州弗洛勒姆帕克)，0.75％lps-t91^tm(lps實驗室,illinoistoolworks有限公司的部門,tucker,喬治亞州)，和1.8kg聚碳酸酯cd/dvd材料。加熱并攪拌混合物3h。回收獲得的聚碳酸酯材料大于98％脫涂層并外表干凈。實例2的細節顯示于圖3表格的條目1中。

實例3

在攪拌桶中加入約3.63kg的水并加熱至約82℃。當水達到82℃并在約1200rpm條件下攪拌，在攪拌桶中加入0.75％(w/w)的50％(w/v)naoh溶液，0.10％(w/w)420up表面活性劑(basf公司,新澤西州弗洛勒姆帕克)，2.50％lps-t91^tm(lps實驗室,illinoistoolworks有限公司的部門,tucker,喬治亞州)至攪拌桶中，和1.8kg聚碳酸酯cd/dvd材料。加熱并攪拌混合物3h。回收獲得的聚碳酸酯材料大于99％脫涂層并且約95％外表干凈。實例3的細節顯示于圖3表格的條目2中。

當用作權利要求的過渡詞時，本發明說明書或權利要求中使用的術語“包括”、“包括”，其包含類似于術語“包含”的方式進行解釋。而且，使用的術語“或”(例如a或b)，其欲表達的意思是“a或b或二者”。但申請人想表達“僅a或b但非二者”時，將使用術語“僅a或b但非二者”。因此，此處使用術語“或”是包含的，而非排除性使用。見bryana.garner,adictionaryofmodernlegalusage624(2d.ed.1995)。并且，說明書或權利要求中使用的術語“在...里面”或“至...里面”，也表達“在...上面”或“至...上”的意思。說明書或權利要求中使用的術語“選擇性”，是指組分的條件，其中裝置使用者在使用過程中如有必要或需要，可激活或停用組分的特征或功能。說明書和權利要求中使用的術語“操作性耦合”或“操作性連接”，表達的意思是特定組分用某種方式連接執行指定功能。說明書和權利要求中使用的術語“實質性”，表達的意思是特定組分具有的關系或數量的誤差在主體行業中是可接受的。

本說明書及權利要求中使用的單數形式“一(a)”、“一(an)”和“該(the)”包括復數形式，除非另有明確說明是單數。例如，涉及“一化合物”可包括兩種或更多種化合物的混合物以及單種化合物。

如此處使用的，術語“約”連同一數字表達的意思是包括該數字±10％。換而言之，“約10”可指9-11。

如此處使用的，術語“可選的”和“可選地”指隨后表述的情況可能發生，也可能不發生，因此，該表述包括情況發生或不發生的情形。

如上所述，盡管本申請通過實施方式進行描述，并且盡管實施方式用相當細節進行描述，申請人并非想以任何方式限制或限定后附的權利要求范圍至該細節。在本發明教導下，另外的優勢和改進對于本領域技術人員而言是顯而易見的。因此，本發明在其最寬范圍內，并不限于特定細節、顯示的示例性實例或涉及的任何裝置。在不違背通用發明概念的情形下，可出現對該細節、實例和裝置的偏差。

如此處使用的，“替代的”是指如下定義的有機基團(例如烷基基團)其中一個或多個與其中的氫原子連接的鍵可被非氫或非碳原子鍵取代。被取代的基團也可包括多個基團，其中一個或多個連接至碳或氫原子的鍵可被一個或多個連接至雜原子的鍵，包括雙鍵或三鍵取代。被取代基團也可被一個或多個取代基取代，除非另有說明。在一些實施方式中，被取代基團可被1、2、3、4、5或6個取代基取代。取代基實例包括：鹵原子(即f、cl、br和i)；羥基、烷氧基、烯氧基、芳氧基、芳烷氧基、雜環氧基、以及雜環烷氧基；金屬羰基合物(oxo)；羧基；酯基；聚氨酯橡膠；肟；羥胺；烷氧胺；芳基烷氧基胺；巰基；硫化物；亞砜；砜類；磺酰基；胍；胺類；n-氧化物；肼；酰肼類；腙；疊氮化物；酰胺；尿素酶；脒；胍；烯胺；酰亞胺；異氰酸酯；異硫氰酸酯；氰酸酯；硫氰酸酯；亞胺；硝基；或腈類(即cn)。“過”取代化合物或基團是指所有或實質上所有的可取代位置被指定取代基取代的化合物或基團。例如，1,6-二碘全氟己烷表明了式c6f16i2，其中所有的可取代氫被氟原子取代。

被取代的環基如被取代的環烷基、芳基、雜環和雜芳基也包括環和環系統，其中氫原子被連接至碳原子的鍵取代。被取代的環烷基、芳基、雜環和雜芳基可被已被取代或未被取代的烷基、烯基和炔基取代，如下所述。

烷基包括直鏈和支鏈基團，具有1-12個碳原子，并通常為1-10個碳原子，在一些實例中，是1-8、1-6或1-4個碳原子。直鏈烷基的實例包括基團如甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基和正辛基。支鏈烷基的實例包括但不限于異丙基、異丁基、仲丁基、叔丁基、新戊基、異戊基和2,2二甲基丙基。代表性被取代烷基可被取代基取代一次或多次，如上述所列取代基，包括但不限于鹵烷基(例如三氟甲基)、羥烷基、巰烷基、氨烷基、烷基氨烷基、二烷基氨烷基、烷氧基烷基、或羧烷基。

環烷基包括單、二或三環烷基，該一個或多個環上具有3-12個碳原子，或者在一些實施方式中，環上具有3-10、3-8或3-4、3-5或3-6個碳原子。示例性單環環烷基包括但不限于環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基和環辛基。在一些實施方式中，環烷基具有3-8個環構件，而在其他實施方式中，環碳原子的數量為3-5、3-6或3-7個。雙環和三環系統包括橋接環烷基和稠環，例如但不限于雙環[2.1.1]己烷、金剛烷基、或十氫萘基(decalinyl)。被取代的環烷基可被非氫和非碳基團取代一次或多次，如上文所定義的。然而，被取代的環烷基也包括被直鏈或支鏈烷基取代的環，如上文所定義的。代表性被取代環烷基可以是單取代或多取代的，例如但不限于2,2-,2,3-,2,4-2,5-或2,6雙取代環己基，其可以被上文所列取代基取代。

芳基可以為不含雜原子的環芳香烴基。此處的芳基包括單環、雙環和三環系統。芳基包括但不限于苯基、薁基、庚搭烯基(heptalenyl)、聯苯、茐基、菲基(phenanthrenyl)、蒽基、茚基、二氫茚基、戊搭烯基(pentalenyl)、和萘基。在一些實施方式中，芳基包含6-14個碳原子，在其他實施方式中，為6-12或甚至6-10個碳原子在基團的環上。在一些實施方式中，芳基可以是苯基或萘基。盡管術語“芳基”可包括含稠環基團，例如稠芳香-脂肪環系統(例如二氫茚基或四氫萘基)。“芳基”不具有結合至環構件的其他基團，例如烷基或鹵基。當然，基團例如甲苯基可視為被取代的芳基。代表性的被取代芳基可為單取代或多取代的。例如，單取代芳基包括但不限于2-、3-、4-、5-或6-取代苯基或萘基，其可被上述取代基取代。

芳烷基可以是上述定義的烷基，其中烷基的一個氫或碳鍵被如上所述的芳基的鍵取代。在一些實施方式中，芳烷基包括7-16個碳原子、7-14個碳原子、或7-10個碳原子。被取代的芳烷基可在烷基、芳基或同時在二者位置被取代。代表性芳烷基包括但不限于苯基和苯乙基和稠合(環烷基芳基)烷基如4-二氫茚基乙基。被取代的芳烷基可被上述取代基取代一次或多次。

此處描述的本技術的基團在化合物內具有兩個或多個連接點(即二價、三價或多價)，可通過后綴“ene”命名。例如，二價烷基可以是烯烴基，二價芳基可以是亞芳基，二價雜芳基可以是雜亞芳基，等等。特別的，某些聚合物可通過使用后綴“ene”結合表述聚合物重復單元的術語進行描述。

烷氧基可以是羥基(-oh)，其中結合至氫原子的鍵被經取代或未經取代烷基的碳原子上的鍵取代，如上所述的。線性烷氧基的實例包括，但不限于，甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、或己氧基。支鏈烷氧基的實例包括但不限于異丙氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、異戊氧基、或異己氧基。環烷氧基的實例包括但不限于環丙氧基、環丁氧基、環戊氧基、或環己氧基。代表性的被取代的烷氧基可被上述所列取代基取代一次或多次。

此處公開的各種方面和實施方式用于解釋說明目的，并沒意圖限制下述權利要求表明的真實范圍和精神。