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一種蓋板玻璃清洗工藝的制作方法

文檔序號:9361079閱讀:1259來源:國知局
一種蓋板玻璃清洗工藝的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種蓋板玻璃清洗工藝。
【背景技術】
[0002]蓋板玻璃素片(例如手機蓋板玻璃、平板電腦玻璃、平板電視蓋板玻璃、工業商業觸摸屏蓋板玻璃等)成型后用超聲波清洗臟污雜質,然后進行印刷油墨,依據客戶要求一般要進行5-9次不等色序反復印刷,每印刷一次油墨都要經過烤箱烘干后再進行下一色序印刷,油墨經過5-9次不等的烘烤后油墨散發出的油脂落在玻璃表面,使玻璃表面水滴角有20°上升到90°,導致下一制程因為水滴角過高(客戶要求<60° ),引起氣泡無法貼合生產,目前使用plasma(等離子機)800°高溫處理玻璃表面以此來降低水滴角,因等離子機是生產的瓶頸,而且日夜班還各需要3人才能完成此工序生產,所以plasma需要進行技術改進。Plasma降低水滴角后使用成品超聲波清洗機清洗(成品超聲波使用的是18兆歐姆純水和陰離子表面活性劑藥液清洗),再進行檢驗,檢驗的良品進行AF防指紋鍍膜,鍍膜后用洗片機清洗過水流檢測,良品進行包裝出貨,此加工過程復雜,生產效率低,產品不良率高。

【發明內容】

[0003]為解決上述技術問題,本發明提供一種蓋板玻璃清洗工藝。
[0004]本發明的蓋板玻璃清洗工藝,包括以下步驟:
1)蓋板清洗后進行印刷油墨及烘烤,不使用等離子機,直接把印刷烘烤后的蓋板玻璃采用超聲波清洗機清洗,將超聲波清洗機里面的陰離子表面活性劑藥液改為非離子表面活性劑藥液,溫度設置為60°c,清洗時間為4分鐘,因為非離子表面活性劑具有親水性,能把蓋板玻璃表面的油脂去除,也能清洗掉超聲波清洗機里面的油污;
2)把非離子表面活性劑HLB值調試12-15之間,在水溫60°C下可以潤濕蓋板玻璃表面,去除油脂,蓋板玻璃的水滴角能夠降到30°以內。
[0005]與現有技術相比本發明的有益效果為:本發明的蓋板玻璃清洗工藝步驟簡單,通過化學反應方式取代傳統使用等離子機降低水滴角的工藝,能夠減少蓋板玻璃在周轉過程中所發生刮傷不良現象,不僅提升良率而且也可以提升產能,生產成本大大降低。
【具體實施方式】
[0006]下面結合實施例,對本發明的【具體實施方式】作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本發明,但不用來限制本發明的范圍。
[0007]一種蓋板玻璃清洗工藝,包括以下步驟:
I)蓋板清洗后進行印刷油墨及烘烤,不使用等離子機,直接把印刷烘烤后的蓋板玻璃采用超聲波清洗機清洗,將超聲波清洗機里面的陰離子表面活性劑藥液改為非離子表面活性劑藥液,溫度設置為60°c,清洗時間為4分鐘,因為非離子表面活性劑具有親水性,能把蓋板玻璃表面的油脂去除,也能清洗掉超聲波清洗機里面的油污; 2)把非離子表面活性劑HLB值調試12-15之間,在水溫60°C下可以潤濕蓋板玻璃表面,去除油脂,蓋板玻璃的水滴角能夠降到30°以內。
[0008]本發明的蓋板玻璃清洗工藝步驟簡單,通過化學反應方式取代傳統使用等離子機降低水滴角的工藝,能夠減少蓋板玻璃在周轉過程中所發生刮傷不良現象,不僅提升良率而且也可以提升產能,生產成本大大降低。
[0009]以上所述僅是本發明的優選實施方式,應當指出,對于本技術領域的普通技術人員來說,在不脫離本發明技術原理的前提下,還可以做出若干改進和變型,這些改進和變型也應視為本發明的保護范圍。
【主權項】
1.一種蓋板玻璃清洗工藝,其特征在于,包括以下步驟: 1)蓋板清洗后進行印刷油墨及烘烤,不使用等離子機,直接把印刷烘烤后的蓋板玻璃采用超聲波清洗機清洗,將超聲波清洗機里面的陰離子表面活性劑藥液改為非離子表面活性劑藥液,溫度設置為60°c,清洗時間為4分鐘,因為非離子表面活性劑具有親水性,能把蓋板玻璃表面的油脂去除,也能清洗掉超聲波清洗機里面的油污; 2)把非離子表面活性劑HLB值調試12-15之間,在水溫60°C下可以潤濕蓋板玻璃表面,去除油脂,蓋板玻璃的水滴角能夠降到30°以內。
【專利摘要】本發明涉及一種蓋板玻璃清洗工藝,包括以下步驟:1)蓋板清洗后進行印刷油墨及烘烤,不使用等離子機,直接把印刷烘烤后的蓋板玻璃采用超聲波清洗機清洗,將超聲波清洗機里面的陰離子表面活性劑藥液改為非離子表面活性劑藥液,溫度設置為60℃,清洗時間為4分鐘;2)把非離子表面活性劑HLB值調試12-15之間,在水溫60℃下可以潤濕蓋板玻璃表面,去除油脂,蓋板玻璃的水滴角能夠降到30°以內。本發明的蓋板玻璃清洗工藝步驟簡單,通過化學反應方式取代傳統使用等離子機降低水滴角的工藝,能夠減少蓋板玻璃在周轉過程中所發生刮傷不良現象,不僅提升良率而且也可以提升產能,生產成本大大降低。
【IPC分類】B08B3/08, B08B11/04, B08B3/12
【公開號】CN105080921
【申請號】CN201410216555
【發明人】陳昱成, 胡書立
【申請人】宇瀚光電科技(蘇州)有限公司
【公開日】2015年11月25日
【申請日】2014年5月22日
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