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一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置與流程

文檔序號:12078257閱讀:577來源:國知局
一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置與流程

本發明涉及硅鋼生產領域,特別涉及一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置。



背景技術:

硅鋼生產過程中需要對脫碳退火后帶鋼涂覆氧化鎂薄膜,便于在后工序高溫退火過程中防止帶鋼粘連,并且形成一種硅酸鎂玻璃膜。氧化鎂涂覆質量直接決定了硅鋼的成品等級,在整個硅鋼生產環節至關重要,而涂機壓力控制又是保證膜厚度均勻性的基礎。硅鋼生產退火線采用兩輥涂機,上輥為支撐輥,下輥兩側均有伺服電機帶動絲杠動作進行壓力控制,采用壓力傳感器反饋的閉環PID壓力控制。電機驅動絲杠控制壓力,因絲杠屬于剛性作用力,且絲杠受螺紋牙距影響,給進位置精度不高,在進行壓力控制時往往不能很穩定的實現作用力微控制,易發生控制壓力值圍繞設定值震蕩且偏差不能減小的現象,對于涂覆氧化鎂薄膜的厚度均勻性產生嚴重影響,無法實現氧化鎂膜厚度的均勻控制。此種形式的涂機壓力控制,對機械安裝的精度要求非常高,而現場因氧化鎂飛濺、涂輥連接盤結構、涂輥軸承座與涂輥滑軌卡阻等問題導致壓力控制的不穩定性,往往出現壓力波動值無法滿足生產精度需求的現象,給大規模連續化生產帶來很大困擾。



技術實現要素:

本發明通過提供一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置,解決了現有技術中在進行壓力控制時難以穩定的實現作用力微控制,易發生控制壓力值圍繞設定值震蕩且偏差不能減小的技術問題,使得閉環PID壓力控制后的壓力值變化幅度減小,跳動頻率均勻,避免絲杠電機調節壓力時因設備本身屬性導致的壓力大幅波動,提高了涂覆氧化鎂薄膜的厚度均勻性,進而提高了硅鋼氧化鎂涂層的質量。

本發明提供了一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法,所述方法采用壓力PID控制器對涂機進行壓力控制,其特征在于,所述方法包括:

實時檢測所述壓力PID控制器對所述涂機控制后的壓力反饋值;

設置壓力值的死區區間,比較所述壓力反饋值是否進入所述死區區間;

當所述壓力反饋值進入所述死區區間時,關閉所述壓力PID控制器。

進一步地,所述方法還包括:

當所述壓力反饋值偏離所述死區區間時,重啟所述壓力PID控制器工作。

進一步地,所述方法還包括:

當所述死區區間發生變化時,重啟所述壓力PID控制器。

進一步地,所述壓力PID控制器為閉環PID控制模式。

本發明還提供了一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制裝置,所述裝置采用壓力PID控制器對涂機進行壓力控制,所述裝置包括:

監測單元,實時監測所述壓力PID控制器對所述涂機控制后的壓力反饋值;

比較單元,設置壓力值的死區區間,比較所述壓力反饋值是否進入所述死區區間;

控制單元,當所述壓力反饋值進入所述死區區間時,關閉所述壓力PID控制器。

進一步地,還包括:

第一重啟單元,當所述壓力反饋值偏離所述死區區間時,重啟所述壓力PID控制器工作。

進一步地,還包括:

第二重啟單元,當所述死區區間發生變化時,重啟所述壓力PID控制器。

進一步地,所述壓力PID控制器為閉環PID控制模式。

本發明提供的一種或多種技術方案,至少具備以下有益效果或優點:

本發明提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置,通過設置壓力值的死區區間,比較壓力反饋值是否進入死區區間,當壓力反饋值進入死區區間時,關閉壓力PID控制器使其停止工作;關閉壓力PID控制器后絲杠保持靜止狀態,涂輥水平位置不再變化,上涂輥與下涂輥的間隙量維持穩定,涂機壓力反饋也趨于穩定,使得PID壓力控制后的壓力值變化幅度減小,跳動頻率均勻,能夠避免絲杠電機調節壓力時因設備本身屬性導致的壓力大幅波動,提高了涂覆氧化鎂薄膜的厚度均勻性,進而提高了硅鋼氧化鎂涂層的質量。

附圖說明

圖1為本發明實施例提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法流程圖;

圖2為本發明實施例提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制狀圖結構框圖。

具體實施方式

本發明實施例通過提供一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置,解決了現有技術中在進行壓力控制時難以穩定的實現作用力微控制,易發生控制壓力值圍繞設定值震蕩且偏差不能減小的技術問題,使得閉環PID壓力控制后的壓力值變化幅度減小,跳動頻率均勻,避免絲杠電機調節壓力時因設備本身屬性導致的壓力大幅波動,提高了涂覆氧化鎂薄膜的厚度均勻性,進而提高了硅鋼氧化鎂涂層的質量。

參見圖1,本發明實施例提供了一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法,其中,硅鋼氧化鎂涂層采用涂機制備,涂機的上涂輥為支撐輥,涂機的下涂輥兩端絲杠電機驅動上壓實現兩側壓力獨立控制。該方法采用壓力PID控制器對涂機進行壓力控制,壓力PID控制器為閉環PID控制模式,該方法包括:

步驟10、實時檢測壓力PID控制器對涂機控制后的壓力反饋值。

步驟20、設置壓力值的死區區間,比較壓力反饋值是否進入死區區間。

步驟30、當壓力反饋值進入死區區間時,關閉壓力PID控制器。

步驟40、當壓力反饋值偏離死區區間時,重啟壓力PID控制器工作。

步驟50、當死區區間發生變化時,重啟壓力PID控制器。

參見圖2,本發明實施例還提供了一種硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制裝置,該裝置采用壓力PID控制器對涂機進行壓力控制,壓力PID控制器為閉環PID控制模式,該裝置包括:

監測單元,實時監測壓力PID控制器對涂機控制后的壓力反饋值;

比較單元,設置壓力值的死區區間,比較壓力反饋值是否進入死區區間;

控制單元,當壓力反饋值進入死區區間時,關閉壓力PID控制器;

第一重啟單元,當壓力反饋值偏離死區區間時,重啟壓力PID控制器工作;

第二重啟單元,當死區區間發生變化時,重啟壓力PID控制器。

下面結合具體的實施例對本發明提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置進行說明:

本發明實施例提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置采用西門子S7-400PLC進行編程,在現有的涂機閉環PID控制模式下,進行以下步驟:通過檢測單元實時檢測壓力PID控制器對涂機控制后的壓力反饋值,該壓力反饋值從涂機上設置的壓力傳感器上傳;通過比較單元設置壓力值的死區區間,比較壓力反饋值是否進入死區區間;當壓力反饋值進入死區區間時,控制單元控制關閉壓力PID控制器;壓力反饋值偏離死區區間時,第一重啟單元重啟壓力PID控制器工作;當死區區間發生變化時,第二重啟單元重啟壓力PID控制器。

本發明實施例提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置,利用涂輥位置靜止時兩輥間隙量保持不變的特性,實現涂輥壓力控制穩定。生產開始時,通過PID控制器進行壓力調節,并對壓力反饋值進行監控,當壓力值進入程序死區區間時,立即控制壓力PID控制器停止工作,并繼續監控壓力反饋值的變化,當反饋值超出死區區間時重啟壓力PID控制器,使壓力反饋至重新回到死區區間之內。通過對實際效果檢測得知,在投入死區區間控制后,對涂機的壓力值變化幅度減小,跳動頻率均勻,避開了絲杠電機調節壓力時因設備本身屬性導致的壓力大幅波動。

本發明實施例提供的一種或多種技術方案,至少具備以下有益效果:

本發明實施例提供的硅鋼氧化鎂涂層的壓力控制方法及裝置,通過設置壓力值的死區區間,比較壓力反饋值是否進入死區區間,當壓力反饋值進入死區區間時,關閉壓力PID控制器使其停止工作;關閉壓力PID控制器后絲杠保持靜止狀態,涂輥水平位置不再變化,上涂輥與下涂輥的間隙量維持穩定,涂機壓力反饋也趨于穩定,使得PID壓力控制后的壓力值變化幅度減小,跳動頻率均勻,能夠避免絲杠電機調節壓力時因設備本身屬性導致的壓力大幅波動,提高了涂覆氧化鎂薄膜的厚度均勻性,進而提高了硅鋼氧化鎂涂層的質量。

最后所應說明的是,以上具體實施方式僅用以說明本發明的技術方案而非限制,盡管參照實例對本發明進行了詳細說明,本領域的普通技術人員應當理解,可以對本發明的技術方案進行修改或者等同替換,而不脫離本發明技術方案的精神和范圍,其均應涵蓋在本發明的權利要求范圍當中。

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