專利名稱：盤狀記錄介質、盤裝置及光盤的制造方法
技術領域：
本發明涉及使用近場光而光學地進行信息信號的記錄或再生的盤狀記錄介質、對該盤狀記錄介質進行信息信號的記錄或再生的盤裝置，進而涉及作為信息記錄介質的光盤的制造方法。
本身請以在日本于2004年6月28日申請的日本特許申請號2004-190250為基礎主張優先權，參照該申請援用于本申請。
背景技術：
目前，磁記錄介質及光記錄介質的高密度化、大容量化的研究正在進展，從而提供高密度化、大容量化的記錄介質。這種記錄介質中，對于光記錄介質來說，提供DVD(Digital Versatile Disc)，進而具有密度高出DVD數倍以上的第二代DVD的開發正在進展。另一方，硬盤磁記錄裝置(HDD)的記錄密度也逐年增加。
但是，隨著圖像信息的數字化及高精度化、光通信的高速化，而要求存儲的更大容量化、高密度化，2010年期待能夠實現1Tbits/(inch)2的記錄密度。
硬盤磁記錄裝置中，用于難以進行超常磁性效果及磁頭間隙寬度的抑制，故其速度以100～300Gbpsi為限界，從而作為超過該限界的情況，期待進行光加速磁記錄。
在光記錄介質中，為實現記錄密度的高度化而期待利用近場光的光記錄。該近場光是指，在微小開口及微小物體的周圍存在于光折射限界以下的區域內的非傳播光。當其它物體接近到該微小開口及微小物體的折射界限以下的距離時，近場光向該物體內傳播，同時誘起相互作用。為使這樣的近場光溢出，通過將微小開口及微小物體的尺寸進一步微細化能夠實現。此外，通過對光記錄介質照射該溢出的近場光，能夠進行高密度的光記錄。在使用了該近場光的光記錄中，與DVD等相同，使單一的光點追隨導向槽(凹槽Groove)或接合面(接合面Land)，進行信息的記錄及再生。
為了使用上述的近場光在光記錄介質上記錄信息，而需要對未形成凹槽的平滑的可重寫區域執行程序，特別是為高密度地記錄信息，而需要增加這樣的平滑的可重寫區域的面積。
在現有的光記錄介質中，光記錄介質上記錄的記錄區域沿凹槽而形成，相對通過近場光得到的光點一個導向槽與其對應而構成。因此，在用于提高記錄密度的光記錄介質上形成多個光點時，需要對應形成的光點的數量的凹槽。現實中以細的節距將對應這樣的多個光點的凹槽切割成螺旋狀是不容易的。
通常，為在光記錄介質上并排形成兩個凹槽，而在切割時使用兩個光束，或需要通過使高速切割用的光束晃動而疑似地實現切割，但隨著需要的凹槽增加至三條、四條，從而存在制作難度增大的問題點。
為解決這樣的課題，在特開2003-272176號公報等中提出實現使用了該近場光的光記錄的高密度化和傳送率的提高的光記錄介質、記錄再生裝置。該公報中公開了通過安裝于擺臂上的滑動或浮起式滑動進行的控制方法。在這樣的現有例中，為了使物鏡擬合光記錄介質的面驅動，而預想這樣的物鏡相對于獨立配置的光軸傾斜或錯開位置。特別是在利用近場光進行記錄再生時，由于嚴格要求物鏡相對于光記錄介質表面及近場光的光點的位置，故也考慮進行可靠性更高的記錄再生處理后成為屏障的情況。
此外，在記錄再生處理之一工序中，也存在光記錄介質的表面形成了凹部的情況。若形成了這樣的凹部，則在通過近場光進行記錄再生處理時反而成為屏障。
發明內容
本發明是鑒于上述問題而構成的，其目的在于，提供一種盤狀記錄介質，可通過近場光進行記錄再生，其中，不僅能夠進行信息信號的高密度的記錄，而且還能夠有效地活用形成于表面的凹部，由此能夠執行追隨其動作的各種處理，另外，提供盤裝置，在插入了這樣的盤狀記錄介質時，能夠穩定地執行信息信號的高密度的記錄處理。
本發明提供一種盤狀記錄介質，在可進行信息信號重寫的可重寫區域的軌道內分別形成跟蹤控制用的導向槽，其中，在形成有導向槽的基板上層疊用于寫入信息信號的記錄層，記錄層至少在可重寫的區域能通過多光束的近場光進行信息信號的重寫，且在該盤狀記錄介質的最表面，在對應于形成有導向槽的位置形成有凹部。
另外，本發明提供盤裝置，對在可進行信息信號的重寫的可重寫區域的軌道內分別形成有跟蹤控制用的導向槽的盤狀記錄介質進行信息的記錄或再生，其中，其具備用于使作為信息信號的近場光在可通過多光束進行重寫的區域溢出的二軸作動器、和具有用于使二軸作動器向所希望的軌道位置移動的驅動控制部的控制部，控制部進行如下控制，在形成有導向槽的基板上層疊至少用于在可重寫區域寫入信息信號的記錄層，進而在對應形成于導向槽的位置插入在最表面形成有凹部的盤狀記錄介質的情況下，經由驅動控制部控制二軸作動器，以使通過近場光點列對應于凹部排列。
本發明的盤狀記錄介質中，在形成有導向槽的基板上層疊用于寫入信息信號的記錄層，且該記錄層在其至少可重寫的區域能夠通過多光束的近場光進行信息信號的重寫，在最表面，在形成有導向槽的位置在表面形成有凹部，因此，在利用多光束近場光進行信息信號的重寫時，用于形成多個近場光的光點，從而能夠實現高密度的記錄處理。即，在使用近場光進行再生、記錄時，盤最表面的距離(空氣層)從將光束聚光的透鏡對信號強度產生影響。因此，由于將導向槽設為凹狀，以沿該凹槽的方式形成保護膜，從而空氣層的厚度變厚，容易得到導向槽的信號。另外，由于將記錄膜設為凸形狀，且以規定的間隔將導向槽用作多光束，從而記錄部在比透鏡近的位置寬范圍地形成，能夠成為易于近場形成的記錄面。因此，本發明對使用多光束進行采用近場的信息的再生或記錄的光盤是有效的。
本發明的另一目的在于、通過本發明得到的具體優點從以下參照
的實施方式能夠進一步明了。
圖1是表示應用了本發明的光記錄介質的框電路圖；圖2是表示光記錄介質具備的透鏡塊的側面圖；圖3是表示返回光的量和間隙間的距離的關系的特性圖；圖4是表示利用應用了本發明的光記錄裝置進行信號記錄的光盤的局部剖面圖；圖5是表示搭載于應用了本發明的光記錄裝置中的透鏡塊上多光束的近場光相對信號記錄面溢出的例子的剖面圖；圖6是從圖5中D方向表示利用來自透鏡塊的近場光形成的光點的圖；圖7是表示蛇行形成導向槽的光盤的平面圖；圖8是表示在光盤上一次形成四個光點的例子的平面圖；圖9A～9G是按工序順序表示光盤的制造工序的剖面圖，圖9A表示對玻璃原盤的表面進行研磨清洗的狀態，圖9B表示在清洗后的玻璃原盤表面涂敷了光致抗蝕劑的狀態，圖9C表示將由凹槽信息調諧后的激光照射在光致抗蝕劑上記錄凹槽圖案的狀態，圖9D表示對玻璃原盤進行了顯影處理后的狀態，圖9E表示在玻璃原盤表面蒸鍍鎳，形成鍍鎳層的狀態，圖9F表示利用由鍍鎳層構成的原模形成盤基板的狀態，圖9G表示形成有記錄層及保護層的光盤。
具體實施例方式
下面，參照附圖詳細說明本發明的實施例。
首先，說明應用了本發明的盤裝置。光記錄裝置1如圖1所示，是可裝卸作為記錄介質的光盤2的裝置，其具備旋轉驅動可裝卸的光盤2的主軸電動機3；在光盤2的信號記錄面2a上照射激光，同時檢測從光盤2的信號記錄面反射的返回光的光頭4；基于由光頭4檢測到的返回光，分別生成控制信號S1的間隙控制部6。
在主軸電動機3上一體安裝裝載光盤2的盤臺。主軸電動機3基于從未圖示的系統控制器供給的主軸驅動信號例如以恒定的線速度(CLVConstant Linear Velocity)或恒定的角速度(CAVConstantAngular Velocity)對驅動軸進行旋轉驅動，由此使盤臺上裝載的光盤2旋轉。
光頭4將光束在通過驅動主軸電動機3進行旋轉操作的光盤2的各記錄層上聚光，檢測由光盤2的信號記錄面2a反射的返回光，將其輸出到未圖示的信號處理部。此時，光頭4根據旋轉操作的光盤2的種類進行控制，使其向該光盤2射出最適合的波長的激光。
另外，間隙控制部6基于從光盤4送出的間隙誤差信號GE生成控制信號S1，將其輸出向光頭4。即，通過該控制信號S1，可將光頭4具備的物鏡向接近離開光盤2的反向微調節。
在該光記錄裝置1中，利用未圖示的存取機構使光頭4向光盤2的徑向作送給操作，進而移動控制光頭4，使其位于光盤2的規定記錄軌道上。
其次，進一步詳細說明應用了本發明的光記錄裝置1中使用的光頭4。
該光頭4如圖1所示，具備驅動可射出多光束激光的半導體激光器的驅動電流的APC(Automatic Power Contoller)42；支承各半導體激光器的支架43；在從該半導體激光器射出的多光束激光的光路中配置的光束分裂器44；使透過該光束分裂器44的激光成為平行光的準直透鏡45；透過該準直透鏡45成為平行光的激光的光路中配設的反射鏡46；透過該反射鏡46反射的激光入射的1/4波長板47；將通過該1/4波長板47的激光聚光在光盤2的信號記錄面2a上的透鏡塊38；將從光盤2的信號記錄反射面2a反射返回的返回光聚光的聚光鏡55；接收返回光的光接收元件56。
在支架43上安裝有射出由規定的波長構成的多光束激光的半導體激光器71。該半導體激光器71是利用了半導體再結合發光的發光元件。該半導體激光器71不僅通過APC42控制驅動電流，以使激光的輸出恒定，而且還基于從信息源58供給的信息信號射出激光。
光束分裂器44使從半導體激光器71射出的激光透過，將其導向光盤2，同時，反射從光盤2反射返回來的返回光，將其導向光接收元件56。透過該光束分裂器44的散射光即激光被準直透鏡45準直為平行光，透過1/4波長板47。另外，光束分裂器44在從半導體激光器71射出的激光具有偏光的情況下，透過使用偏光光束分裂器，能夠防止從光盤2反射返回來的返回光返回半導體激光器71。
反射鏡46將透光光束分裂器44的激光反射，由此使其在光路中折射。由此，激光相對于位于光頭4下方的光盤2的信號記錄面2a大致垂直地照射。
1/4波長板47給予透過的激光π/2的相位差。從半導體激光器71射出的直線偏光的激光透過1/4波長板47成為圓偏光。另外，在光盤2反射返回來的圓偏光激光在透過該1/4波長板47后，成為直線偏光。
透鏡塊38配設于在反射鏡46反射的激光的光路中，具有將該激光聚光，向光盤2的信號記錄面2a上照射的功能。該透鏡塊38通過本身具備的二軸作動器在靠近離開光盤2的方向及光盤2的徑向二軸方向被可移動地支承。而且，該透鏡塊38基于由來自于光盤2的返回光生成的控制信號S1，通過二軸作動器作移動動作，實現聚焦控制。
在光盤2的信號記錄面2a上聚光的各激光被該信號記錄面2a反射，通過透鏡塊38，由此成為平行光。而且，從光盤2反射返回來的返回光經由1/4波長板47通過準直透鏡45，由此成為聚束光，在光束分裂器44反射。
另外，光接收元件56接收在光束分裂器44反射，由聚光鏡55聚光的激光，將其進行光電轉換，生成后述的間隙誤差信號GE，將該信號向間隙控制部6供給。即，在該光接收元件56上，制作對應于多光束激光的光點的數量的圖形，由此能夠作為各自獨立的信號獲取。通過將該光接收元件56上形成的檢測圖形最優化，基于例如推挽法，也能夠讀取光點。
其后，對透鏡塊作更詳細說明。透鏡塊38配設于在反射鏡46反射的激光的光路中，如圖2所示，其具備物鏡62、SIL(Solid ImmersionLens)63、透鏡折疊器64、二軸作動器65。
物鏡62是具有將激光聚光后向LIL63供給的功能的非球面透鏡。SIL63是將球形透鏡的局部切成平面的形狀的高折射率透鏡。SIL63與信號記錄面2a近接配置，從球面側入射從物鏡62供給的激光，將其在球面的相反側的面(端面)的中央部聚束。
另外，該透鏡塊38中，也可以使用形成有反射鏡的SIM(SolidImmersion Mirror)代替上述的SIL63。
透鏡折疊器64以規定的位置關系保持物鏡62、SIL63。SIL63通過透鏡折疊器64被保持，以使球面側與物鏡62對向，且使球面的相反側的面(端面)與光盤2的信號記錄面2a對向。
這樣，通過透鏡折疊器64將高折射率的SIL63配置在物鏡62和信號記錄面2a之間，由此能夠得到僅比物鏡62的開口數大的開口數NA。通常，從透鏡照射的激光的光點尺寸與透鏡的開口數NA成反比，因此，通過物鏡62、SIL63，能夠得到光點尺寸更微小的激光。
二軸作動器65根據作為控制信號S1從間隙控制部6輸出的控制電壓使透鏡折疊器64沿焦點方向動作。
在透鏡塊38定義的消散光是從以臨界角以上的角度入射并全反射到SIL63的端面的激光的反射邊界面溢出的光。在SIL63的端面從光盤2的信號記錄面2a處于后述的近場(near field)內的情況下，從SIL63的端面溢出的上述消散光向信號記錄面2a照射。
接著，對近場進行說明。通常，近場如圖2所示，在設從SIL63的端面到光盤2的信號記錄面2a的距離(間隙)為d時，通過入射到SIL63的激光的波長λ定義為d≤λ/2的區域為近場。即，光盤2的信號記錄面2a和以與SIL63的端面的距離定義的間隙d滿足d ≤λ/2，將消散光從SIL63的端面溢出到光盤2的信號記錄面2a的狀態稱作近場狀態，滿足d＞λ/2，將消散光未溢出到信號記錄面2a上的狀態稱作遠場(far field)狀態。
但是，在遠場狀態的情況下，以臨界角以上的角度入射到SIL63的端面的激光被全部反射，成為返回光。因此，如圖3所示，遠場狀態的返回光的量為恒定值。
另一方面，在近場的情況下，以臨界角以上的角度如設到SIL63的端面的激光的一部分如上所述，在SIL63的端面，即反射邊界面作為消散光在光盤2的信息記錄面2a上溢出。因此，如圖3所述那樣全反射的激光的返回光的量比遠場狀態時少。此外，該近場狀態的返回光的量依賴于SIL63端面與盤2的距離而減少。
另外，在近場的情況中，返回光的量可分為相對于間隙長度線形變化的線形區域和非線形變化的非線形區域。因此，在SIL63的端面位置處于近場狀態，且屬于線形區域的情況下，由光接收元件56接收返回的光量，將其進行光電變化，生成間隙誤差信號GE，并基于該信號進行回饋伺服，由此能夠將間隙控制為恒定。即，如圖3所示，若將返回光的量控制為控制目標值P，則能夠將間隙d保持在恒定的距離。
順便說，利用構成該透鏡折疊器的物鏡62、SIL63的組合，形成NA＝1.83的高NA狀態，但不限于這種情況，若NA為1.0以上，則能夠使近場光溢出。
由于直到在由上述結構構成的透鏡塊38中的間隙達到λ/2以下為止，向信號記錄面2a接近，因此，當設置接合面(接合面Land)代替該導向槽時，由于在掃描時也可能與其沖突，故設置導向槽，因此，本發明的效果更顯著。
這樣，在應用了本發明的光記錄介質1中，通過使用二軸作動器65，從而能夠進行焦點控制，因此，在通過嚴格要求物鏡相對于光點的位置的近場光進行記錄再生時，能夠實現更高可靠性的處理。
其次，對通過應用了本發明的光記錄裝置1記錄信息信號的光盤2的詳細構成進行說明。
該光盤2更簡單地表示時，例如圖4所示，通過在形成有導向槽81a的基板81上至少層疊記錄層83而成。
基板81例如由聚碳酸脂構成。該基板81上形成的導向槽81a可進行切割，使得通過例如使用電子線等進行曝光而容易地達到毫微米尺寸的寬度。即，該基板81可容易地使用現有的母版制作裝置而制作。
此外，記錄層83通過由GeSbTe等材料構成的相變化記錄膜構成，另外，在由光磁記錄膜構成該層時，例如由TbFeCo等材料構成。
在光盤2的最表面，對應形成有導向槽81a的位置，進一步形成微小的凹部85a。特別是由于使用菱形炭(DLCDiamond Like Carbon)膜等那樣的固形且無機類膜及紫外線硬化樹脂形成直至光盤2的最表面的層，從而與使用保護層等的情況相比，能夠有效地形成凹部85a。
另外，在使用近場光進行高密度光記錄的情況下，由于該凹部85a的區域極少，最好增加平坦部分的面積，但是，在利用多光束的光記錄裝置1中，在能夠極力減小導向槽81a相對于形成的光點數量的比例這一點上是有利的，也能夠提高記錄密度。
順便地說，該凹部85a的尺寸例如其深度為30nm，寬度約為80nm，但不限于這樣的尺寸。
即，在應用了本發明的光記錄裝置1中，不僅能夠通過形成近場光的光點對在最表面形成有凹部85a的光盤2執行記錄處理，而且還能夠實現追隨這樣的凹部85a的各種動作。也可以實現利用了該凹部85a的導軌的信號的獲取。特別是該凹部85a的位置根據上述的導向槽81a的位置形成，由此得出這樣的優點。
對利用光記錄裝置1用多光束對由這種結構構成的光盤2照射近場光的情況進行說明。
圖5表示在由上述結構構成的透鏡塊38中使多光束的近場光相對于信號記錄膜2a溢出的例子。基于多光束激光中實線所示的第一激光L1的近場光向信號記錄面2a的點p照射。另外，基于該多光束激光中虛線所示的第二激光L2的近場光向信號記錄膜2a的點q照射。
圖6表示從圖5中D方向看到的通過來自于透鏡塊的近場光形成的光點Sp。多光束的各光點Sp如圖6所示，夾著相對于光盤2的盤前進方向A垂直的導向槽81a配置為一列。將該光點Sp的中心P1連接的直線相對于導向槽81a的角度φ也可以為任意的值。這種情況下，通過預先識別角度φ，可取得各光點Sp的距離，能夠確保后段的信號處理的有利性。
該圖6中，在設多光束的各光點Sp間的在光盤2的徑向B的距離為d時，將該導向槽81a的寬度設為d以下，由此，能夠從基于兩個光點Sp的光量的變化檢測到跟蹤信息，例如通過檢測推挽信號，也可以得到這樣的跟蹤信息。
順便說，該導向槽81a也可以如圖7所示那樣形成蛇行狀。即，基于時鐘及地址等信息使導向槽81a成蛇行狀，由此也可以通過由跨這樣的導向槽81a而形成的兩個光點Sp構成的光點列SL進行信號檢測。即，利用該兩個光點Sp算出與返回光的導向槽81a的偏移量，并以該偏移量為誤差信號給予二軸作動器65，由此實現如上述那樣的跟蹤。
通過這樣使光點Sp追隨導向槽81a，在例如將導向槽81a描繪成螺旋狀時，在繞光盤2一周后，光點列SL從圖6、圖7中實線所示的位置移動到虛線所示的位置。
另外，該導向槽81a間的節距在形成由n個光點構成的光點列時控制為n×d。由此，即使在連接形成的光點Sp的中心P1的直線假設成為相對于導向槽81a垂直的方向的情況下，光點Sp的照射位置也不會相互重合，從而能夠有效地對光盤2進行記錄再生處理。
另外，圖8表示在光盤2上一次形成四個光點Sp的例子。如該圖8所示，夾著導向槽81a在兩側分別形成兩個光點Sp。在螺旋狀描繪導向槽81a時，在繞光盤2一周后，光點Sp從圖8中所示的實線所示的位置移動到虛線所示的位置。另外，在導向槽81a的兩側形成的光點Sp的個數優選1∶1的比，但不限于此，也可以為任意比。例如，也可以以1∶3的比在導向槽81a的一端側構成一個光點Sp，在另一側構成三個光點Sp。此外，光點Sp也可以為若根據導向槽81a形成，則只在導向槽81a的一端側并排四個的構成。另外，該光點Sp的個數也可以為任意個。
在光盤2上一次形成四個光點Sp時也相同，由于將導向槽81a的間隔控制在n×d式到4d即四個量的點間隔以上，從而光點Sp的照射位置不會相互重疊，從而能夠有效地對光盤2進行記錄再生處理。
其次，說明應用了本發明的記錄用光盤的制造工序。
為制造應用本發明的光盤2，如圖9A所示，準備玻璃原盤101，并將該玻璃原盤101的表面進行研磨清洗。其次，如圖9B所示，在清洗后的玻璃原盤101的表面涂敷光致抗蝕劑102。然后，如圖9C所示，利用物鏡104將由凹槽信息調諧激光103聚光，對光致抗蝕劑102照射，記錄凹槽圖案。該情況下，作為對光致抗蝕劑照射的激光，也可以使用近場光。
如上所述，在將凹槽圖案進行曝光記錄后，如圖9D所示，對玻璃原盤101進行顯影處理。此時，例如利用顯影液只將照射了激光的部分的光致抗蝕劑102溶解。其結果是，在玻璃原盤101上形成與記錄面上形成的圖案對應的圖案。
其次，如圖9E所示，進行顯影在表面上形成圖案的玻璃原盤101的表面上蒸鍍鎳，形成鍍鎳層117。然后，將該鍍鎳層117從玻璃原盤101剝離，由此在鍍鎳層117上轉印剝離原盤101上形成的凹凸圖案。轉印了凹凸圖案的鍍鎳層117作為用于成形構成光盤的盤基板的原模使用。
將由鍍鎳層117構成的原模127安裝在例如射出成形用的模型裝置上，使用該模型裝置成形合成樹脂材料。當成形合成樹脂材料時，如圖9F所示，形成轉印了在原模127的表面上形成的作為凹凸圖案的凹槽圖案112a的盤基板112。
在形成有該盤基板112的凹槽圖案112a的面上形成記錄膜105，進而覆蓋記錄膜105，被覆形成透明的保護膜106，由此形成圖9G所示的記錄用光盤107。
在該光盤107上，記錄層105可通過照射光束進行信息信號的記錄，或使用可進行信息信號的重寫的材料形成。例如，記錄層105利用由GeSbTe等材料構成的相變化記錄膜構成，或利用由TbFeCo等材料構成的光磁記錄膜構成。
此外，在此，保護膜106優選由菱形炭(DLCDiamond Like Carbon)膜等那樣的固形且無機類膜形成。另外，保護膜106也可以由紫外線硬化樹脂構成。
另外，在應用了本發明的光記錄裝置1中，對能夠基于近場和遠場兩個模式記錄信號的例子進行了說明，但不限于這樣的情況，也可以適用于能夠只基于近場模式利用近場光記錄信號的裝置。另外，當然也可以采用能夠利用應用了本發明的光記錄裝置1再生光盤2上記錄的信號的構成。
另外，本發明不限于參照
的上述實施例，在不脫離附帶的權利要求范圍及其主旨的范圍內，可進行各種變更、置換及其同等的發明對本領域技術人員來說也是明了的。
權利要求
1.一種盤狀記錄介質，在可進行信息信號重寫的可重寫區域的軌道內分別形成跟蹤控制用的導向槽，其特征在于，在形成有上述導向槽的基板上層疊用于寫入上述信息信號的記錄層，上述記錄層至少在可重寫的區域能通過多光束的近場光進行上述信息信號的重寫，在該盤狀記錄介質的最表面，在對應于形成有上述導向槽的位置形成有凹部。
2.如權利要求1所述的盤狀記錄介質，其特征在于，上述導向槽由上述多光束的近場光的光點間距為d以下的寬度構成，并且上述光點的數量為n時，由d×n以上的節距構成。
3.如權利要求1所述的盤狀記錄介質，其特征在于，直至該盤狀記錄介質的最表面的層由菱形的炭膜構成。
4.如權利要求1所述的盤狀記錄介質，其特征在于，上述導向槽蛇行狀形成。
5.一種盤裝置，對在可進行信息信號的重寫的可重寫區域的軌道內分別形成有跟蹤控制用的導向槽的盤狀記錄介質進行信息的記錄/再生處理，其特征在于，包括二軸作動器，用于使作為上述信息信號的近場光在可由多光束進行上述重寫的區域溢出、和控制裝置，具有用于使該二軸作動器向所希望的軌道位置移動的驅動控制部，上述控制裝置進行如下控制，即在形成有上述導向槽的基板上層疊至少用于在可重寫區域寫入上述信息信號的記錄層，進而在對應形成于上述導向槽的位置插入在最表面形成有凹部的盤狀記錄介質的情況下，經由上述驅動控制部控制上述二軸作動器，以使通過上述近場光，光點列對應于上述凹部排列。
6.如權利要求5所述的盤裝置，其特征在于，上述控制裝置中的二軸作動器具備用于將供給的光聚光，同時使上述近場光溢出的物鏡，上述物鏡的開口數NA為1.0以上。
7.一種光盤的制造方法，該光盤具有由使用了近場光的多光束可進行重寫的區域，其特征在于，包括如下工序基板上在上述可重寫的區域形成的軌道內分別形成跟蹤控制用的導向槽，在形成有上述導向槽的上述基板上，形成用于在至少可進行重寫的區域通過多光束的近場光記錄信息信號的記錄層，在上述基板的表面，對應于形成有上述導向槽的位置形成凹部。
全文摘要
本發明涉及可進行信息信號重寫的光盤，在可進行信息信號重寫的可重寫區域的軌道內分別形成跟蹤控制用的導向槽(81a)，且在形成有導向槽(81a)的基板上層疊有用于寫入信息信號的記錄層(83)。該記錄層(83)至少在可進行信息信號重寫的區域，可通過多光束的近場光進行信息信號的重寫，在最表面對應于形成有導向槽(81a)的位置形成有凹部(85a)。
文檔編號G11B7/135GK1977317SQ20058002163
公開日2007年6月6日 申請日期2005年6月13日 優先權日2004年6月28日
發明者中沖有克, 山本真伸, 齊藤公博 申請人:索尼株式會社