專利名稱：去除液體中微氣泡/微粒的方法、液體供應裝置及其應用的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種去除液體中微氣泡/微粒的方法及液體供應裝置，特別 是涉及一種通過激光去除液體中微氣泡/微粒的方法、利用此方法的液體供 應裝置，以及并入有此液體供應裝置的浸潤式曝光機。
背景技術：
許多產業中都會使用液體來進行制作工藝或是測量。然而，液體中的 氣泡或是微粒常會衍生 一 些問題。
例如，半導體產業即時常會面臨這種問題。在半導體制作工藝中如想 縮小晶片上的電路，常見的方法包括縮短光波波長，以在晶片上投射出較
小的電路圖案。但，在下一代157納米光刻技術的發展過程中，遇到了許 多困難。這是因為要從一代光刻技術升級到下一代，即需采用全新的激光 源、光掩模材料、透鏡材料及光致抗蝕劑材料等。例如，儀器制造商無法 以氟化4丐尿磨出適用于157納米紫外光的透鏡，其不是缺陷太多，就是像 差太大，故而無法在晶片上清楚成像。不過，2002年"浸潤式光刻技術" (immersion lithography)的發表^f吏得半導體業者可在現有技術上作延伸， 而不必再發展新的157納米技術。浸潤式光刻技術是在193納米波長曝光 機基礎上，在光源與晶片之間加入水，以使波長縮短到132納米的光刻技 術。比起目前的干式光刻設備，此技術可支援65、 45,甚至32納米的制作 工藝。
然而，浸潤式機臺仍存在許多技術問題。例如，水中的微氣泡與/或微 粒會使晶片曝光過程產生許多瑕疵，而影響晶片片上的成像。
發明內容
本發明的目的在于提供一種可以簡便地去除液體中微氣泡/微粒的方法。本發明另 一 目的在于提供 一 種可以去除微氣泡/微粒的液體供應裝置。 本發明再一目的在于提供一種的浸潤式曝光機，其中并入本發明的液 體供應裝置。首先需說明的是，本說明書及本發明的權利要求中"微氣泡/微粒"的 寫法是表示微氣泡或微粒兩者中只有一者存在，或是兩者都存在于液體中； "阻擋/排斥"則表示阻擋作用與排斥作用只有一種存在，或兩種皆存在。本發明提出一可移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，此裝置包括一管路、 一激光產生器及至少一微氣泡/微粒出口。激光產生器提供激光于管路的通 路上，其提供方式可使一微氣泡/微粒阻擋/排斥墻形成。微氣泡/微粒出口與 管路耦接，位于微氣泡/微粒阻擋/排斥墻與液體入口之間，且緊鄰微氣泡/ 微粒阻擋/排斥墻，以排除微氣泡/微粒。在本發明的移除微氣泡/微粒的方法中，當液體自管路入口流經激光所 形成的微氣泡/微粒阻擋/排斥墻時，其中的微氣泡/微粒會受到激光束的阻擋 /排斥作用，無法通過阻擋/排斥墻，而累積在阻擋/氺夂斥墻上方，或再通過液 體流動的作用力由微氣泡/徵粒出口導出。本發明的浸潤式曝光機包括一掃描支座、 一曝光用光學系統、 一浸潤 腔室與上述本發明的液體供應裝置。掃描支座是用以承載其上已形成有光 致抗蝕劑層的晶片或清洗片。曝光用光學系統配置于掃描支座上方。浸潤 腔室配置于掃描支座與曝光用光學系統之間，用以在曝光時容納曝光用介 質或是在一清洗操作中容納一溶劑。液體供應裝置是用以供應前述曝光用 介質或溶劑，包括用以儲存前迷曝光用介質或溶劑的一儲液槽、 一輸入管、 一激光產生器與至少一微氣泡/微粒出口。輸入管有一液體入口與儲液槽連 接，且有一液體出口與浸潤腔室連接。激光產生器及微氣泡/微粒出口的部 分則與前迷者相同。依照本發明實施例，上述管路的橫截面呈圓形或矩形。依照本發明實施例所述，上迷微氣泡/微粒阻擋/排斥墻可為大致呈平面 狀的一平面墻，或是一曲墻，其中曲墻可由大致呈平面狀的多個平面部分 所構成。依照本發明實施例所述，上述平面墻可與管路的橫截面大致平行，或 是朝管路中液體的流動方向傾斜。依照本發明實施例所述，上述平面墻可與管路的延伸方向上的側邊呈 垂直或呈一傾斜角。由該平面墻的上游側觀視，當此平面墻與管路的一側 邊的夾角為銳角時， 一微氣泡/微粒出口設于管路上方或該側邊緊鄰夾角處， 此處「上游側」是以該管路中液體的流動方向來限定的。依照本發明實施例所述，上述微氣泡/徵粒出口可設置于管路上方或管 路的側邊。依照本發明實施例所述，由曲墻的上游側觀視，當曲墻的至少一平面 部分與相鄰的管路側邊的夾角呈銳角時，微氣泡/微粒出口設置于管路上方 或側邊緊鄰銳角夾角處；當曲墻的至少一平面部分與相鄰的管路側邊的夾 角呈鈍角時，則微氣泡/微粒出口設置于管路上方，緊鄰曲墻的相鄰兩個平 面部分的夾角處。依照本發明實施例所述，上述微氣泡/微粒阻擋/排斥墻延伸穿過至少一 部分的微氣泡/微粒出口。依照本發明實施例所述，上述微氣泡/微粒阻擋/排斥墻的光強度大致呈 梯度分布。依照本發明實施例所述，上述移除微氣泡/徵粒的液體供應裝置的管路 的液體出口可與 一 浸潤式曝光機臺的 一 液體入口連接。本發明通過激光束來形成微氣泡/微粒的阻擋或排除墻，可以達到簡便 去除液體中的微氣泡/微粒的目的。為讓本發明的上述和其他目的、特征和優點更明顯易懂，下文特舉較 佳實施例并配合所附圖式，詳細說明如下。
圖1A是依據本發明實施例的一種移除微氣泡/微粒的液體供應裝置的 示意圖；圖1B是依據本發明實施例的另一種移除微氣泡/微粒的液體供應裝置 的示意圖；圖2A是依據本發明實施例的另一種移除微氣泡/微粒的液體供應裝置 的示意圖；圖2B是依據本發明實施例的另一種移除微氣泡/微粒的液體供應裝置 的示意圖；圖3A是依據本發明實施例的另一種移除微氣泡/微粒的液體供應裝置 的示意圖；圖3B是依據本發明實施例的另一種移除微氣泡/微粒的液體供應裝覃 的示意圖；圖4A是依據本發明實施例的另一種移除微氣泡/微粒的液體供應裝置 的示意圖；圖4B是依據本發明實施例的另一種移除微氣泡/微粒的液體供應裝置 的示意圖；圖4C是依據本發明實施例的另一種移除微氣泡/微粒的液體供應裝置 的示意圖；圖5是可應用本發明一實例的浸潤式曝光機，其中并入本發明的移除 微氣泡/微粒的液體供應裝置以供應該浸潤式曝光機所需使用的液體。 主要元件符號說明10、 50:液體供應裝置 11:微氣泡/微粒 12:管路12a、 52a:液體入口12b、 52b:液體出口14、 54:激光產生器16:微氣泡/微粒阻擋/排斥墻18、 28、 38a、 38b、 48a、 48b、 48c、 48e、 48f:微氣泡/微粒出口19:橫截面52:輸入管56:儲液槽56a、 46b、 56c、 58a、 58b、 58c、 60c:平面部分500:浸潤式曝光機510:清洗片512:光學殼體513:光學系統515、 515a:光源、光束516:物鏡518浸潤腔室524排出管528掃描支座530超音波振蕩器532液體隊a、 y5、 y、 (5:夾角具體實施方式
本發明的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，是通過激光來形成微氣泡/ 微粒的阻擋/排斥墻，以達到去除液體中的微氣泡/微粒的目的，其中以激光6,815,664的說明衍生而得，該案的目的是對液體中的微米級微粒作分類。 以下舉數個實施例詳細說明本發明，然其并非用以限制本發明。請參照圖1A，本實施例的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置10包括一 管路(pipe)12與一激光產生器14。管路12的橫截面形狀可為圓形或矩形。 管路12的材質可為聚氯乙烯等塑膠、石英或玻璃等。激光產生器14提供 激光于管路12的通路上，其提供方式可使一微氣泡/微粒阻擋/排斥墻16形 成。當水、有機溶劑或其混合物等液體自管路12的入口 12a流經微氣泡/ 微粒阻擋/排斥墻16時，液體中的微氣泡/微粒11會受到激光的阻擋/排斥作 用，而無法通過阻擋/排斥墻16并累積在其上，故流過阻擋/排斥墻16的液 體幾乎不含微氣泡/微粒11。此外，此液體供應裝置10還包括至少一個微 氣泡/微粒出口 18，其與管路12耦接，位于微氣泡/微粒阻擋/排斥墻16與 管路12的入口 12a之間，且緊鄰微氣泡/微粒阻擋/排斥墻16。當液體由管 路12的入口 12a流經微氣泡/微粒阻擋/排斥墻16時，液體中的微氣泡/微粒 11即累積在阻擋/排斥墻16上，通過液體流動的作用力，可使得微氣泡/微 粒11由微氣泡/微粒出口 18導出，而有效達到去除液體中微氣泡/微粒的目 的。本發明的激光所形成的阻擋/排斥墻的形狀與位置以及微氣泡/微粒出 口 18的位置與數量可依實際需求而改變，以下舉數個實施例說明之，然其 并非用以限制本發明。請參照圖1A與1B，在一實施例中，激光產生器14所形成的阻擋/排斥墻16與管路12的橫截面19大致平行。微氣泡/微粒阻擋/排斥墻16可位 于微氣泡/微粒出口 18的下游側，且緊鄰微氣泡/微粒出口 18,如圖1A所 示。或者，如圖1B所示，微氣泡/微粒阻擋/排斥墻16可穿過^f故氣泡/微粒 出口 18的一部分。請參照圖2A與2B，在另一實施例中，激光產生器14所形成的阻擋/ 排斥墻26朝液體的流動方向(12a—12b)傾斜，而與管路12的橫截面19夾 一銳角^。同樣地，微氣泡/微粒阻擋/排斥墻26的上端可在微氣泡/微粒出 口 28的下游側，如圖2A所示，或是穿過微氣泡/微粒出口 28的一部分， 如圖2B所示。事實上，微氣泡/微粒出口 18或28的位置并無特別的限制， 只要可以順利導出液體中的微氣泡/微粒，均是本發明涵蓋的范圍。在一實施例中，激光產生器14所形成之微氣泡/微粒阻擋/排斥墻可以 是大致呈平面的一平面墻，如圖3A、圖3B所示。在另一實施例中，激光 產生器14所形成的微氣泡/微粒阻擋/排斥墻為曲墻，如圖4A 圖4C所示。 為方便說明起見，在圖3A、圖3B、圖4A 圖4C中的管路12是以矩形管 來表示，然本發明可用的管路的形狀并不限于此。請參照圖3A與圖3B，激光產生器14所形成的微氣泡/微粒阻擋/排斥 墻36a與36b為大致呈平面的平面墻。微氣泡/微粒阻擋/排斥墻36a與管路 12的延伸方向c可以呈垂直，也就是其夾角a大致為90度，如圖3A所示； 或是微氣泡/微粒阻擋/排斥墻36b與管路12的延伸方向x夾一傾斜角，也 就是夾角a小于卯度，如圖3B所示。此處管路12的延伸方向x即是其中 液體的流向。在圖3A、圖3B中，是以阻擋/排斥墻36a或36b與管路12的 側邊A的交線大致平行于管路12的橫截面19與側邊A的交線的情形來說 明，但本發明并不僅限于此。實際上，該二交線不互相平行的各種情形， 也是本發明涵蓋的范圍。請參照圖3A，當激光產生器14所形成的微氣泡/微粒阻擋/排斥墻36a 為一大致平面墻，且與管路12的延伸方向垂直時，上述徵氣泡/微粒出口可 以設置在管路12的上方緊鄰阻擋/排斥墻36a的任何一處，如微氣泡/微粒 出口38a;以及/或是設置在管路12側邊緊鄰阻擋/排斥墻36a之處，如微氣 泡/孩i粒出口 38b。請參照圖3B,當激光產生器14所形成的阻擋/排斥墻36b為一大致平 面墻，且與管路12的延伸方向夾一傾斜角《時，如由阻擋/排斥墻36b的上游側觀視，則阻擋/排斥墻36b與管路12的延伸方向的 一側邊的夾角為銳角， 與另一側邊的夾角為鈍角。此時微氣泡/微粒出口較佳設置在管路12的上方 緊鄰阻擋/排斥墻36b的任何一處，如微氣泡/微粒出口 38c，以及/或是管路 12的側邊緊鄰于前述夾銳角處，如微氣泡/微粒出口 38d。請參照圖4A、圖4B與圖4C，其中激光所形成的微氣泡/微粒阻擋/排 斥墻為一曲墻，此曲墻例如是由兩個或是更多個平面部分所構成，然并不 僅限于此。在圖4A中，曲墻46a是由兩個平面部分56a與58a所構成，且 由曲墻46a的上游側觀4見時，其兩個平面部分與管路12的兩個倒邊12c、 12d的夾角-、 y均呈銳角。在圖4B中，曲墻46b是由兩個平面部分56b與 58b所構成，且由曲墻46b的上游側觀視時，其兩個平面部分與管路12的 兩個側邊12c、 12d的夾角-、 y均呈鈍角。在圖4C中，曲墻46c是由三個 平面部分56c、 58c、 60c所構成，且由曲墻46c的上游側觀-現時，其中一平 面部分56c與管路12的一側邊12c的夾角-呈銳角，另一個平面部分60c 與管路12的另一側邊12d的夾角y呈鈍角。請參照圖4A,由曲墻46a的上游側觀視，當曲墻46a的兩個平面部分 58a、 56a與管路12的兩個側邊12c、 12d的夾角/ 、 y均銳角時，較佳于管 路12上方及管路12側邊分別緊鄰二夾角"、y的四處中選擇一或多處設置 一或多個微氣泡/微粒出口。在圖4A中僅繪示出設置于管路12上方緊鄰夾 角y處的微氣泡/微粒出口 48a，以及設置于管路12側邊緊鄰夾角"處的微 氣泡"效粒出口 48b。請參照圖4B ，由曲墻46b的上游側觀視，當曲墻46b的兩個平面部分 58b、 56b與管路12的兩個側邊12c、 12d的夾角-、 y均鈍角時，微氣泡/ 微粒出口48c較佳設置于管路12上方，緊鄰曲墻46b的相鄰兩平面部分56b、 58b的夾角3處。，請參照圖4C，由曲墻46c的上游側觀-現，當曲墻46c的一平面部分56c 與管路12的一側邊12c的夾角呈銳角，而另一平面部分60c與另一側邊 12d的夾角y呈鈍角時，可以同時在管路12側邊緊鄰夾角-處、管路12上 方緊鄰夾角 〃 處及管路12上方緊鄰相鄰兩平面部分58c與60c的夾角<5處 分別設置微氣泡/微粒出口 48d、 48e或48f，或是選擇在以上三處的一設置 微氣泡/微粒出口48d、 48e或48f。原則上，出口的位置設于微氣泡/微粒容 易于匯集的地方，即為緊鄰墻面的管線后端。在圖4A、圖4B與圖4C中，是以微氣泡/微粒阻擋/排斥墻46a、 46b、 46c的整體延伸方向與管路12的橫截面19大致平行的情形來說明，然而， 本發明并不僅限于此。實際上，阻擋/排斥墻46a、 46b、 46c的整體延伸方 向與管路12的橫截面19不平行者，亦是本發明涵蓋的范圍。再者，上述的微氣泡/微粒阻擋/排斥墻可以是具有大致均勻的光強度分 布，或是光強度呈梯度分布，或是由光點或光面呈現多道的點排列或是線 排列的密集形成，以增進微氣泡/微粒的移除效益。本發明的移除微氣泡/微粒的方法與液體供應裝置可以應用于浸潤式光 刻技術之中，以提供沒有或極少量微氣泡/微粒的液體。利用本發明的液體 供應方法與裝置的浸潤式光刻系統的曝光機例如圖5所示。請參照圖5，浸潤式曝光機500包括一掃描支座528，用以承載已形成 有光致抗蝕劑層的晶片或是清洗片510。光學殼體(optical housing) 512中包 含光學系統513并可放置光掩模(未繪示)。光學系統具有光源515，例如是 激光產生器，以及對應設置于掃描支座528上方的物鏡516。浸潤腔室518 設于物鏡516下方、掃描支座528上方，用以容置一液體532，其例如是曝 光用介質(例如水)，或是清洗物鏡516用的溶劑(例如水)。浸潤腔室518可經由連通的氣體導管(未繪示)通入鈍氣而形成一個氣 密空間。浸潤腔室518之中的液體532是通過本發明的液體供應裝置50來 提供。液體供應裝置50包括前迷般具有液體入口 52a與出口 52b的輸入管包括儲液槽56。其中，儲液槽56是用以儲存液體532,輸入管52的液體 入口 52a與儲液槽56連接，且液體出口 52b與浸潤腔室518連接。在使用 過之后，浸潤腔室518中的液體532可通過排出管524排放出去。在進行曝光制作工藝時，是利用光束515a (例如激光束)經由物鏡516 以及浸潤腔室518中的曝光用介質而將光掩模上的圖案轉移到晶片上。在曝光制作工藝之后，可以進行一清洗操作，通過液體供應裝置50供 應一溶劑進入浸潤腔室518,以將物鏡516上的污染物移除。為提高清洗的 效果，此曝光機500還可以包括用以振蕩清洗用溶劑的超音波振蕩器，例 如是圖示設置在浸潤腔室518周圍的超音波振蕩器530。然而，本發明的應用并不僅限于浸潤式光刻技術，而更可以應用于其 他產業的需要去除微氣泡/微粒的機臺中。雖然結合以上較佳實施例揭露了本發明，然而其并非用以限定本發明， 任何熟悉此技術者，在不脫離本發明的精神和范圍內，可作一些的更動與 潤飾，因此本發明的保護范圍應以附上的權利要求所界的為準。
權利要求
1. 一種移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，包括一管路，包括一液體入口與一液體出口；一激光產生器，用以提供激光于該管路的通路上，該激光的提供方式可使一微氣泡/微粒阻擋/排斥墻形成，以阻擋與/或排斥該管路中的多數個微氣泡與/或微粒；以及至少一微氣泡/微粒出口，與該管路連通，位于該微氣泡/微粒阻擋/排斥墻與該液體入口之間，且緊鄰該微氣泡/微粒阻擋/排斥墻，以導出該些微氣泡與/或微粒。
2. 如權利要求1所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中該管路 的橫截面呈圓形或矩形。
3. 如權利要求1所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中該微氣 泡/微粒阻擋/排斥墻大致呈平面狀。
4. 如權利要求3所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中該微氣 泡/微粒阻擋/排斥墻與該管路的橫截面大致平行，或是朝該管路中液體的流 動方向傾殺牛。
5. 如權利要求3所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中該微氣 泡/微粒阻擋/排斥墻與該管路的延伸方向上的側邊呈垂直或呈一傾斜角。
6. 如權利要求5所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中由該微 氣泡/微粒阻擋/排斥墻的上游側觀視時，該微氣泡/微粒阻擋/排斥墻與該管 路的一側邊的夾角為一銳角，且該微氣泡/微粒出口設于該管路上方或該側 邊的緊鄰該夾角處，其中該上游側是以該管路中液體的流動方向來限定的。
7. 如權利要求1所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中該微氣 泡/微粒阻擋/排斥墻包括由多數個大致呈平面狀的平面部分所構成的曲墻。
8. 如權利要求7所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中由該曲墻的上游側觀視，當該曲墻的至少 一平面部分與該管路延伸方 向上的側邊的夾角呈銳角時，該微氣泡/微粒出口設置于該管路上方或該管 路側邊緊鄰該銳角處，其中該上游側是以該管路中液體的流動方向來限定； 以及由該曲墻的上游側觀-f見，當該曲墻的至少 一 平面部分與該管路延伸方 向上的側邊的夾角呈鈍角時，該微氣泡/徵粒出口設置于該管路上方，緊鄰 該曲墻的相鄰兩個平面部分的夾角處。
9. 如權利要求1所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中該微氣 泡/微粒出口設置于該管路上方或該管路的側邊。
10. 如權利要求1所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中該徵氣泡/微粒阻擋/排斥墻延伸穿過至少 一部分的該微氣泡/微粒出口 。
11. 如權利要求l所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中該微氣 泡/微粒阻擋/排斥墻的光強度呈梯度分布。
12. 如權利要求1所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中該管路 的該液4本出口與 一 浸潤式曝光機臺的 一 液體入口連才妻。
13. —種去除液體中微氣泡/微粒的方法，包括提供一管路，該管路具有一液體入口，且該管路上設置有至少一微氣 泡/微粒出口；提供一光源于該管路的通路上，其提供方式可使一微氣泡/微粒阻擋/ 排斥墻形成，用以阻擋該液體中的多數個微氣泡與/或微粒，其中該微氣泡/微粒出口位于該微氣泡/微粒阻擋/排斥墻與該管路的該液體 入口之間，且緊鄰該微氣泡/微粒阻擋/排斥墻，以導出該些微氣泡與/或微粒。
14. 如權利要求13所述的去除液體中微氣泡/微粒的方法，其中該微氣 泡/微粒阻擋/排斥墻包括大致呈平面狀的一平面墻，或是由多數個大致呈平 面狀的平面部分所構成的一曲墻。
15. 如權利要求14所述的去除液體中微氣泡/微粒的方法，其中該平面 墻與該管路的橫截面大致平行，或是朝該管路中液體的流動方向傾斜。
16. 如權利要求14所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中該平 面墻與該管路的延伸方向上的側邊呈垂直或呈一傾斜角。
17. 如權利要求16所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中由該 平面墻的上游側觀視時，該平面墻與該管路的一側邊的夾角為銳角，且該 微氣泡/微粒出口設于該管路上方或該側邊緊鄰該夾角處，其中該上游側是 以該管路中液體的流動方向來限定的。
18. 如權利要求14所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中 由該曲墻的上游側觀視，當該曲墻的至少一平面部分與該管路延伸方向上的側邊的夾角呈銳角時，該微氣泡/微粒出口設置于該管路上方或該管路側邊緊鄰該銳角處，其中該上游側是以該管路中液體的流動方向來限定；以及由該曲墻的上游側觀視，當該曲墻的至少一平面部分與該管路延伸方 向上的側邊的夾角呈鈍角時，該微氣泡/微粒出口設置于該管路上方，緊鄰 該曲墻的相鄰兩個平面部分的夾角處。
19. 如權利要求13所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中該微 氣泡/微粒阻擋/排斥墻延伸穿過至少 一部分的該微氣泡/微粒出口 。
20. 如權利要求13所述的移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，其中該微 氣泡/微粒阻擋/排斥墻的光強度呈梯度分布。
21. —種浸潤式曝光機，包括一掃描支座，用以承載其上已形成有一光致抗蝕劑層的一晶片，或是 一啄光用光學系統，配置于該掃描支座上方；一浸潤腔室，配置于該掃描支座與該曝光用光學系統之間，用以在曝 光時容納 一 曝光用介質或是在 一 清洗操作中容納 一 溶劑；以及 一液體供應裝置，用以供應該曝光用介質或該溶劑，包括一儲液槽，用以儲存該曝光用介質或該溶劑；一輸入管，包括一液體入口與一液體出口，該液體入口與該儲液 槽連接，且該液體出口與該浸潤腔室連接；一激光產生器，用以提供激光于該輸入管的通路上，該激光的提 供方式可使一微氣泡/微粒阻擋/排斥墻形成，以阻擋與/或排斥該曝光用介質 中的多數個微氣泡與/或微粒；以及至少一微氣泡/徵粒出口，與該輸入管連通，位于該微氣泡/微粒阻 擋/排斥墻與該液體入口之間，且緊鄰該微氣泡/微粒阻擋/排斥墻，以導出該些微氣泡與/或微粒。
22. 如權利要求21所述的浸潤式曝光機，其中該輸入管的橫截面呈圓形 或矩形。
23. 如權利要求21所述的浸潤式曝光機，其中該徵氣泡/微粒阻擋/排斥 墻大致呈平面狀。
24. 如權利要求23所述的浸潤式曝光機，其中該微氣泡/微粒阻擋/排斥墻與該輸入管的橫截面大致平行，或是朝該輸入管中液體的流動方向傾斜。
25. 如權利要求23所述的浸潤式曝光機，其中該微氣泡/微粒阻擋/排斥 墻與該輸入管的側邊呈垂直或呈 一 傾斜角。
26. 如權利要求25所述的浸潤式曝光機，其中由該微氣泡/微粒阻擋/排 斥墻的上游側觀視時，該微氣泡/微粒阻擋/排斥墻與該輸入管的 一側邊的夾 角為一銳角，且該微氣泡/微粒出口設于該輸入管上方或該側邊的緊鄰該夾 角處，其中該上游側是以該輸入管中液體的流動方向來限定的。
27. 如權利要求21所述的浸潤式曝光機，其中該微氣泡/微粒阻擋/排斥 墻包括由多數個大致呈平面狀的平面部分所構成的曲墻。
28. 如權利要求27所述的浸潤式曝光機，其中由該曲墻的上游側觀^見，當該曲墻的至少 一 平面部分與該輸入管的側 邊的夾角呈銳角時，該微氣泡/微粒出口設置于該輸入管上方或該輸入管側 邊緊鄰該銳角處，其中該上游側是以該輸入管中液體的流動方向來限定的； 以及由該曲墻的上游側觀;現，當該曲墻的至少 一 平面部分與該輸入管的側 邊的夾角呈鈍角時，該微氣泡/微粒出口設置于該輸入管上方，緊鄰該曲墻 的相鄰兩個平面部分的夾角處。
29. 如權利要求21所述的浸潤式曝光機，其中該微氣泡/微粒出口設置 于該輸入管上方或該輸入管的側邊。
30. 如權利要求21所述的浸潤式曝光機，其中該微氣泡/微粒阻擋/排斥 墻延伸穿過至少 一部分的該微氣泡/徵粒出口 。
31. 如權利要求21所述的浸潤式曝光機，其中該微氣泡/微粒阻擋/排斥 墻的光強度呈梯度分布。
32. 如權利要求21所述的浸潤式曝光機，更包括與該浸潤腔室相連的一 排出管，以排出該曝光用介質。
全文摘要
本發明公開一種移除微氣泡/微粒的液體供應裝置，包括一管路、一激光產生器及至少一微氣泡/微粒出口。激光產生器提供激光于該管路的通路上，其提供激光的方式可使一微氣泡/微粒阻擋/排斥墻形成，以阻擋與/或排斥管路的液體中的微氣泡與/或微粒。微氣泡/微粒出口與該管路連通，位于微氣泡/微粒阻擋/排斥墻與液體入口之間，且緊鄰微氣泡/微粒阻擋/排斥墻，用以導出微氣泡與/或微粒。
文檔編號H01L21/02GK101281375SQ20071009204
公開日2008年10月8日 申請日期2007年4月4日 優先權日2007年4月4日
發明者楊進盛, 簡文勝 申請人:聯華電子股份有限公司