楽層中滲透0.1?0.6mm0。
[0058]11:拋光磨邊打包入庫:
采用非彈性模塊進行拋光，如采用金鋼石樹脂硬磨塊拋光。拋光切削厚度為0，15?0.25_。拋光后的表面平整如鏡，無波浪紋，磨邊分級后及可打包入庫。
[0059]12因水份對墨水的滲透能力影響極大，在噴滲透墨水后不能直接淋透明釉，因此采用兩次燒成。若噴墨后直接淋透明釉，因為水份的擴散，裝飾圖案的墨水橫向，縱向擴散加大，造成圖案完全不清晰，色差非常嚴重。
[0060]13:由于燒成后墨水滲入底釉層，因此采用非彈性模塊進行拋光將整層透明釉拋完后再拋到底釉中上層，也不會造成局部露白。拋光后的表面層為底釉層，底釉層因其助熔劑少，始熔點高，因此排氣性能好，拋光后防污性能好，耐化學腐蝕性強，釉漿中的硅鋁含量尚，其吳氏硬度也比一次燒超晶石尚。
[0061]對比例I
一種噴墨滲花有釉瓷質磚的制造方法及其產品
1:滲花瓷質磚底釉的制備:為配合滲透墨水的發色，釉漿中不加入鈣、鎂、鋅、鋇等原料。其配方如下:鉀長石47份，鈉長石13份，高嶺土 6份，燒土 21份，石英12份，硅酸鋯5份，添加劑A:0.5份，添加劑B:3份。添加劑A的化學成分分析為S12 2.01%, Al2O3
2.89%^Fe2O3 0.03%^T12 93.05%^CaO 0.03%^MgO 0.09%^K2O 0.02%、Na2O0.06%、余量為1.35%雜質。添加劑B的化學成分分析為S12 94.41%, Al2O3 0.14%, Fe2O30.05%,T12 0.05%、CaO 0.08%、MgO 0.06%、K2O 0.04%、Na2O 0.21 %、余量為 4.59%雜質。底釉化學成分分析為 S12 65.54%、Al2O3 21.32%、Fe2O3 0.29%、T12 0.66%、CaO0.51 %、MgO 0.10%^K2O 4.78%^Na2O 3.39%^ZrO 2.53%余量為 1.21 %雜質。底釉細度為 325 目篩余0.95，比重1.82，流速34秒，備用。
[0062]2:坯體的制備及烘干:按常規方法制備瓷質磚生坯并烘干，烘干后水分控制在0.4%以下。坯體的組成為低溫鈉砂15份，低溫鉀砂8份，中溫鉀砂22份，高鋁鉀砂30份，黑泥15份，水洗泥8份，黑滑石2份。
[0063]3:淋底釉:將步驟I制得的底釉淋在步驟2中的生坯上。單位面積所淋的底釉重量為 590 ± 10g/m2。
[0064]4:再次烘干:將步驟3制得的瓷質磚坯體再次烘干，水分控制在0.8%以下。
[0065]5:噴墨裝飾:將步驟4制得的瓷質磚坯體用數碼噴墨機噴印已設計好的裝飾圖案。靜置5分鐘或5分鐘以上及可保證滲透效果；
墨水采用市面上墨水公司提供的噴墨滲花墨水(廠家:上海美高色料有限公司)以及助滲劑(廠家:上海美高色料有限公司，型號:MET FLUID BS)。其提供的滲花墨水顏色主要為棕色(型號JNKMET L253MB1)、黃色(型號:INKMET L237YB3)、藍色(型號JNKMETL023CB1)、黑色(型號:INKMET L073HB1)。其主要特征為:滲花墨水中的助滲劑量為25%時，墨水在底釉漿層中能夠滲透0.1?0.6mm的深度，墨水與助滲劑的噴量關系為墨水灰度加助滲劑灰度為100%。
[0066]6:透明釉的制備:其配方如下:鉀長石13份，鈉長石41份，高嶺土 6份，煅燒高嶺土 8份，石英5份，碳酸鈣8份，硅灰石8份，燒滑石7份，氧化鋅4份。其化學成分分析如下 -S12 51.17%、Al2O3 19.57%、Fe2O3 0.18%、T12 0.10%、Ca08.32%、Mg02.07%、K2OL 93%、Na2O 4.88%、ZnO 3.83%余量為6.91 %雜質。透明釉的細度325目篩余0.62，比重1.83。流速38秒。
[0067]7:淋透明釉:將步驟6制得的透明釉淋在步驟5制得的坯體上，單位面積所淋的透明釉重量為460 ± 10g/m2。
[0068]8:燒成:將步驟7制得的坯體燒成，燒成溫度為1195°C，時間為70分鐘，制得噴墨滲花瓷質磚半成品，其中燒成后底釉的厚度在0.28?0.3mm，透明釉的厚度在0.14?0.15mm0
[0069]9:由于省去了噴墨后素燒的步驟，直接在噴墨裝飾好的坯體上淋透明釉，導致裝飾圖案的墨水橫向，縱向擴散加大，燒成后表面裝飾圖案完全不清晰，且色差嚴重。因此不能采用以此方式一次燒成。
[0070]對比例2
專利號103467103A公開了一種一次燒成超晶石陶瓷磚的生產方式及瓷磚，采用該專利申請中的技術方案，制備瓷磚，其照片如圖3A，3B，3C。由于其透明釉的釉層較厚，采用非彈性模塊拋光后表面平整如鏡，無波浪紋。但其助溶劑多，其實例一中面釉配方的化學組成含量(質量百分比)為:Si02:55.4，Al 203:14.1，CaO -J, MgO:4，K2O:1.5，Na2O:3，ZnO:4，BaO:10.3。堿性助熔劑含量達29.8%，因此根據《陶瓷磚試驗方法第13部分:耐化學腐蝕性能的測定GB\T3810.13-2006》檢測時，耐化學腐蝕性能差。化學成份中硅鋁含量低，莫氏硬度相應也偏低。各性能對比如下:
一次燒成超晶石:耐化學腐蝕性GLC(V)級，表面部分或全部有變化。莫氏硬度:4.0，耐污性:4級；
該專利噴墨滲花有釉瓷質磚:耐化學腐蝕性GHA(V)級，無可見變化。莫氏硬度:5.5，耐污性:5級。
【主權項】
1.一種噴墨滲花有釉瓷質磚的制備方法，其特征在于，包括: 1)制備底釉漿料和透明釉漿料，其中，以重量計，底釉漿料中底釉組成物質包括鉀長石20-50份，鈉長石5~30份，高嶺土 3~12份，煅燒高嶺土 15~30份，石英5~20份，硅酸鋯0~8份；以重量計，透明釉漿料中組成物質包括鉀長石3~10份，鈉長石30~50份，高嶺土 3~12份，煅燒高嶺土 5~15份，石英0~13份，碳酸鈣5~15份，硅灰石5~20份，燒滑石4~15份，氧化鋅1~5份； 2)在坯體上，先噴淋底釉漿料，然后烘干，再在底釉層上噴涂滲花墨水以及助滲劑；靜置5分鐘以上以保證滲透效果； 3)將步驟2)中制備的坯體在800-950°C素燒； 4)在步驟3)中經素燒的坯體上，先噴淋透明釉漿料； 5)將步驟4)制備的噴淋有透明釉漿料的坯體先在1150-1230°C下燒成，然后拋光，得到所述噴墨滲花有釉瓷質磚。2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，底釉漿料中底釉組成物質還包括0.1~1份的添加劑A、1-5份的添加劑B，其中，以質量百分比計算，添加劑A的組成為S122.01%、Al2O3 2.89%、Fe2O3 0.03%、T12 93.05%、CaO 0.03%、MgO 0.09%、K2O 0.02%、Na2O0.06%、余量為 1.35% 雜質;添加劑 B 的組成為 S12 94.41%^ Al2O3 0.14%^Fe2O3 0.05%、Ti020.05%、CaO 0.08%、MgO 0.06%、K2O 0.04%、Na2O 0.21%、余量為 4.59%。3.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，底釉漿料中底釉組成物質的細度要求325目篩余0.8-1.2，底釉漿料的比重1.78-1.87，流速28~40秒，使用量為450~600g/m2o4.根據權利要求1-3中任一所述的制備方法，其特征在于，當滲花墨水中的助滲劑量為25%時，墨水在底釉漿層中能夠滲透0.1?0.6mm的深度，墨水與助滲劑的噴量關系為墨水灰度加助滲劑灰度為100%。5.根據權利要求1-4中任一所述的制備方法，其特征在于，步驟3)中，素燒的升溫速率為10 — 20°C /分鐘，素燒時間為30— 50分鐘。6.根據權利要求1-5中任一所述的制備方法，其特征在于，透明釉中透明釉組成物質的細度要求325目篩余0.4-0.8，透明釉漿料的比重1.8~1.85，流速28~44秒，透明釉漿料的使用量為400~550g/m2。7.根據權利要求1-6中任一所述的制備方法，其特征在于，坯體上先噴水，再噴淋透明釉漿料，其中，噴水過程中水的用量為170~240g/m2。8.根據權利要求1-7中任一所述的制備方法，其特征在于，坯體在1150-1230°C下燒成45—70分鐘，升溫速率為8 — 20°C /分鐘。9.根據權利要求1-8中任一所述的制備方法，其特征在于，所述噴墨滲花有釉瓷質磚中，底釉的厚度在0.2-0.3mm，透明釉的厚度在0.12-0.2mm，墨水在底釉漿層中滲透深度為0.1 ?0.6mmο10.根據權利要求1-9中任一所述的制備方法，其特征在于，所述噴墨滲花有釉瓷質磚采用非彈性模塊工藝拋光，如采用金鋼石樹脂硬磨塊拋光，拋光切削厚度為0，15-0.25_。11.一種權利要求1-10中任一所述方法制備的噴墨滲花有釉瓷質磚。
【專利摘要】本發明涉及一種噴墨滲花有釉瓷質磚及其制備方法，包括：1）制備底釉漿料和透明釉漿料；2）在坯體上，先噴淋底釉漿料，然后烘干，再在底釉層上噴涂滲花墨水以及助滲劑；靜置5分鐘以上以保證滲透效果；3）將步驟2）中制備的坯體在800-950℃素燒；4）在步驟3）中經素燒的坯體上，先噴淋透明釉漿料；5）將步驟4）制備的噴淋有透明釉漿料的坯體先在1150-1230℃下燒成，然后拋光，得到所述噴墨滲花有釉瓷質磚。由于燒成后墨水滲入底釉層，因此采用非彈性模塊進行拋光將整層透明釉拋完后再拋到底釉中上層，也不會造成局部露底。
【IPC分類】C04B41/89
【公開號】CN105175026
【申請號】
【發明人】劉一軍, 范周強, 蕭禮標, 汪慶剛, 潘利敏
【申請人】蒙娜麗莎集團股份有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年9月11日