增透的防霧玻璃及其制備方法
【專利摘要】本發明涉及增透的防霧玻璃及其制備方法。本發明的增透的防霧玻璃的制備方法是在恒溫酸性氣氛中，對各種組分的玻璃片進行有效的刻蝕，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的多孔結構層，以降低玻璃片表面的折射率，達到減反增透的效果，使玻璃片的透光率能從原來的91%提高到99%，所述向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通；然后進行氧等離子體處理和退火處理，從而制備出本發明的增透的防霧玻璃；所述增透的防霧玻璃片的表面仍保持玻璃片固有的平滑性。本發明的增透的防霧玻璃的表面與水的接觸角為5°～6°，從而可以有效降低水在玻璃表面的張力，使水迅速鋪展在玻璃表面并達到防霧的目的。
【專利說明】增透的防霧玻璃及其制備方法
【技術領域】
[0001]本發明屬于納米材料制備【技術領域】，特別涉及增透的防霧玻璃及其制備方法。
【背景技術】
[0002]隨著石化能源的日趨緊張，全球對能源開發的日趨重視，各種新型清潔能源吸引了各國科學家的目光。太陽能是人類取之不盡，用之不竭的可再生能源，太陽能發電成為近些年來的研究熱點，有望成為未來電力供應的主要支柱。但太陽能電池面臨兩個關鍵問題:一是如何提高光電轉換效率，二是如何降低太陽能電池大規模應用的成本。近年，科學家經研究發現，在太陽能電池板表面覆蓋一層減反射膜，可以減少太陽光反射，增加全光譜的透過，提高太陽能板對太陽光譜的吸收效率，提高短路光電流，從而最大限度的利用光能是提高其光電轉換效率的有效方法。隨著這些太陽能電池的大面積應用，人們迫切需要研究出一種優異的減反射涂層，能夠提高太陽能電池效率。
[0003]減反射膜在太陽能電池中有著十分重要的作用，包括兩個部分:一是玻璃基板上涂覆減反射膜，二是在硅板上涂覆減反射膜。以硅板為例，光在硅表面的反射使光損失高達三分之一，如果在硅表面有一層合適的減反射薄膜，利用薄膜干涉的原理可以使光的反射大為減少，從而達到提聞其光電轉換效率的目的。單晶娃聞效電池的典型代表是斯坦福大學的背面點接觸電池、新南威爾士大學的鈍化發射區電池(PERL)以及德國Fraunhofer太陽能研究所的局域化背場電池等。倒金字塔技術、雙層減反射膜技術以及陷光理論的完善是高效太陽能硅電池發展的主要原因。同樣，普通玻璃基板的光透光率為90%左右，涂覆減反射膜后可以更加有效的利用各個波長的太陽光。
[0004]國內研究較多的是無機單層減反膜，如SiN、Si02、Ta20、Ti02、Al203等；國外采用雙層減反膜如MgF2、ZnS、ZrO2, TiO2等有很好的效果。用有機高分子材料作為減反膜，國外已有一些研究性報導，但其光電轉換效率還很低。制備減反射膜的方法有自上而下和自下而上兩種，自下而上的方法包括層層自組裝、提拉、噴涂、旋涂等方法，它們均可構筑具有較高透光率的涂層。但是這種涂層一般具有粘附性和機械強度差等缺點，限制了其在工業上的應用。自上而下的方法包括光刻膠和刻蝕等，但這些方法通常成本較高。
[0005]玻璃的霧化是指濕氣或蒸汽冷凝在玻璃制品表面形成微小水滴。而防霧玻璃(Ant1-fogging glass)就是指普通玻璃在經過特殊處理之后，使表面具有超親水特性,使由于霧化而形成的微小水滴迅速鋪平，從而達到不影響鏡面成像、能見度和玻璃的透光率的效果。防霧的涂層可分為超疏水和超親水兩類。
[0006]若該涂層為超疏水性物質，則類似荷葉效應，水滴在涂層的表面滾動角小，能使微小水滴聚集成大水珠。當水珠達到一定尺寸時，會借助其自身重力下滑，或通過外力如風吹、雨刷等方式被除去。該方法效果明顯，但是時效性差:由于小水滴的聚集或吹干、蒸發都需要一段時間，水滴會留在玻璃制品上，如棱鏡般地影響成像和能見度，而且目前該方法耐久性不理想，無法保證玻璃產品作為耐用消費品的長期使用壽命，從而無法保證真正意義上的自清潔效果。[0007]超親水性涂層則會使小水滴在玻璃表面上的接觸角極小并趨近于零度，當水接觸到玻璃表面時，迅速在其表面鋪展，形成均勻的水膜，表現出超親水的性質，不會影響鏡面成像，同時水層薄對透光率的影響也大為減小，通過均勻水膜的重力下落帶走污潰，該方式可以去除大部分污潰。同時利用超親水的原理，也可以防止小水滴的形成，達到防霧的效果。
[0008]國外在20世紀60年代就已經開始了玻璃的防霧研究，在基礎研究方面，目前，世界上發達國家均有知名公司在專門從事防霧玻璃的研究開發和制作，如英國Pilkington公司、日本TOTO公司、美國PPG公司、德國GEA公司、VTA公司、UIC公司等；美國W.L.Tonar等人研制的透明復合自清潔防霧玻璃(W.L.Tonar et al.Electrochromic DeviceHaving A Self-cleaning Hydrophilic Coating.United States Patent ApplicationPublication US2001 / 00210066A1, 2001-09-13;K.Toru.Vehicle Mirror.United StatesPatent US5594585:1997-01-14；K.Toru.Ant1-fog Element.US5854708:1998-12-29 ；K.Takahama et al.Method of Forming Hydrophilic Inorganic Coating Film AndInorganic Coating Composition.United States Patent Application PublicationUS2001 / 008696A1，2001-07-13)，是在玻璃基材的表面形成具有催化作用的光催化劑透明涂層，再在光催化劑透明涂層的表面形成具有親水性的透明多孔無機氧化物(SiO2和Al2O3)薄膜。然而這些技術都利用了 TiO2光催化特性促使表面達到超親水，適用條件會受到限制，因為需要有光照的環境才能進行催化作用；而且這種孔狀結構表面雖可以提高親水性，但很容易被難揮發的物質或者納米塵埃堵住孔口，耐久性不理想。
[0009]國內的研究雖然起步較晚，但也取得了顯著的進展，有關專利和技術成果有上百項，且不斷有玻璃防霧劑產品推出。為了避免玻璃制品上形成微小水滴導致霧化，透明性降低，通常采用以下措施:(I)在玻璃表面噴上一層表面活性劑，以除去沉積在其上的水滴和塵埃；(2)在玻璃表面涂覆一層有機吸水防霧涂層；(3)安裝加熱裝置，通過加熱蒸發玻璃表面水滴；(4)安裝超聲波分散和加熱裝置，對玻璃表面水滴同時進行分散和加熱，達到快速蒸發的目的。然而這些方法都有各自的局限性:方法(I)需定期反復噴刷表面活性劑而顯得不便利；方法(2)由于使用有機物質導致玻璃制品耐磨性和耐熱性不好；方法(3)中由于加熱蒸發水滴通常需7~10分鐘，時效性差，且需要外加能量，能量消耗大，因而不實用；方法(4)的裝置較復雜，元件多，成本高(劉付勝聰，李玉平全國性建材科技期刊一《玻璃》2002年第3期16~19)。
[0010]總的來說，雖然增透的防霧玻璃具有良好的應用前景，但是目前的制備方法都存在這樣或那樣的問題，如減反和防霧效果以及耐久性還不理想。因此研制和開發便利的、耐磨性和耐候性好的、且成本低的新型增透的防霧玻璃是十分必要和有意義的。本發明采用氣相刻蝕法制備增透層，該方法簡單且成本低廉，制備的增透層機械性能良好，通過等離子體清洗和退火賦予刻蝕后的玻璃防霧性能和增強的機械性能。
【發明內容】
[0011]本發明的目的之一是提供一種同時具有高的透光率和高的親水性的增透的防霧玻璃。該玻璃能夠具有良好的機械性能。
[0012]本發明的目的之二是提供目的一的增透的防霧玻璃的制備方法，該制備方法工藝簡單、原料廉價、成本低、適用范圍廣。
[0013]本發明的增透的防霧玻璃是對增透玻璃片進行氧等離子體處理和退火處理后得到的，所述的增透玻璃片是在玻璃片的表面刻蝕有一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的多孔結構層，所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通；所述的增透的防霧玻璃片的表面仍保持玻璃片固有的良好的平滑性。
[0014]所述的在玻璃片的表面刻蝕有一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的多孔結構層的厚度優選為40nm~IOOnm (更優選厚度為60nm);該多孔結構層極大的提高了原有玻璃片的透光率，使玻璃片的透光率能從原來的91%提高到99%。
[0015]所述的增透玻璃片的表面與水的接觸角為35°~45°。
[0016]所述的增透的防霧玻璃的表面與水的接觸角為5°~6°。
[0017]本發明的增透的防霧玻璃，由于氧等離子體的表面處理，使S1-OH鍵代替了 S1-F鍵，從而極大的改善了原有玻璃片的親水性。3 ii L水珠滴在普通玻璃片的表面，經過0.5秒時間的鋪展之后，水滴與玻璃片表面的接觸角大于15° ,而3 ii L水珠滴在本發明的增透的防霧玻璃的表面，經過0. 5秒時間的鋪展之后，水滴與本發明的增透的防霧玻璃表面的接觸角可以降低到5.8°。
[0018]本發明的增透的防霧玻璃的制備方法是在恒溫酸性氣氛中，對各種組分的玻璃片進行有效的刻蝕，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的多孔結構層，然后進行氧等離子體處理和退火處理，從而制備出本發明的增透的防霧玻璃。
[0019]本發明的增透的防霧玻璃是采用恒溫氣相刻蝕的方法進行制備，其制備方法包括以下步驟:
[0020](I)將氟硅酸水溶液置于反應容器(使用的反應容器優選是聚四氟乙烯為內膽的反應釜)中，然后將清洗干凈的玻璃片水平懸于反應容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上反應容器的蓋子；將蓋上蓋子的反應容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，將水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為5~20°C下對玻璃片進行刻蝕(優選刻蝕的時間為18~48小時)，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的多孔結構層(優選厚度為40nm~lOOnm，更優選厚度為60nm)，所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通；刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出反應容器，再從反應容器中取出玻璃片，清洗并將玻璃片吹干，得到增透玻璃片；
[0021](2)將步驟⑴得到的增透玻璃片置于氧等離子體清洗器(如功率為120W的氧等離子體清洗器)中，在400~700V的電壓下清洗所述的增透玻璃片(優選清洗的時間為5~8分鐘)，氧氣的流量為800~1000mL/min ；
[0022](3)將步驟(2)經氧等離子體處理后得到的增透玻璃片置于馬弗爐中，于700°C~720°C下煅燒100~150秒進行退火處理，得到機械性能良好的增透的防霧玻璃；所得增透的防霧玻璃片的表面仍保持玻璃片固有的良好的平滑性。
[0023]所述的氟硅酸水溶液在反應容器中的體積為20mL~40mL，所述的氟硅酸水溶液的體積與反應容器的容積比值為0.04~0.08。
[0024]所述的氟硅酸的水溶液的濃度為0.75mol/L~1.75mol/L。
[0025]本發明在對增透玻璃片進行氧等離子體處理和退火處理后，可進一步提高增透玻璃片的親水性和機械性能，使其具有良好的增透、防霧性能和耐久性。[0026]本發明中所述的玻璃片包括各種成分、各種結構、各種尺寸和各種工藝制備的普通玻璃片。同時也包括特殊成分的玻璃片，如超白玻璃(低鐵玻璃)。[0027]本發明以廉價且易取得的普通玻璃片作為基片，采用恒溫的方法，在氟硅酸揮發生成的酸性氣體條件下，對各種組分的玻璃片進行有效刻蝕，通過深度刻蝕，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的多孔結構層，以降低玻璃片表面的折射率，達到減反增透的效果；再進行氧等離子體處理和退火處理，制備出增透的防霧玻璃；氧等離子體處理使刻蝕玻璃的表面與水的接觸角從35°~45°降低為5°~6°，同時具有良好的防霧性能。本發明的制備方法簡單、成本低、適用范圍廣。所制備的增透的防霧玻璃具有高的透光率，最高透光率達到99% ;具有高的親水性，即3 U L水珠滴在本發明的增透的防霧玻璃的表面，經過0.5秒時間的鋪展之后，水滴與本發明的增透的防霧玻璃的表面的接觸角可降低到5.8°，從而可以有效降低水在玻璃表面的張力，使水迅速鋪展在玻璃表面并達到防霧的目的。鉛筆硬度測試表明，所述的增透的防霧玻璃表面的硬度大于或等于6H，具有良好的機械強度，應用前景廣泛。耐久性測試表明，刻蝕后的表面具有良好的耐久性，兩個月的戶外放置透光率僅降低2.26%。連續實驗測試表明，本發明的刻蝕法具有良好的重復性。
[0028]本發明的增透的防霧玻璃，可以用于包括家庭、公寓以及商業和公共場所建筑的玻璃窗戶、玻璃天窗、玻璃幕墻、家庭浴室鏡子、汽車擋風玻璃、后視鏡、后景玻璃、眼鏡片等。特別適合作為增透太陽能電池封裝玻璃和真空太陽能集熱管玻璃。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0029]圖1.本發明實施例1中，潔凈的空白玻璃的透光率曲線圖和當刻蝕溫度為15°C，刻蝕時間為48h，氟硅酸水溶液的體積為30mL時，濃度為0.75mol/L的氟硅酸水溶液產生的氣體對玻璃片刻蝕后玻璃片的透光率曲線圖。
[0030]圖2.本發明實施例2中，潔凈的空白玻璃的透光率曲線圖和當刻蝕溫度為15°C，刻蝕時間為48h，氟硅酸水溶液的體積為30mL時，濃度為1.50mol/L的水溶液產生的氣體對玻璃片刻蝕后玻璃片的透光率曲線圖。
[0031]圖3.本發明實施例3中，潔凈的空白玻璃的透光率曲線圖和當刻蝕溫度為5°C，刻蝕時間為48h，氟硅酸水溶液的體積為30mL時，濃度為1.00mol/L的氟硅酸水溶液產生的氣體對玻璃片刻蝕后玻璃片的透光率曲線圖。
[0032]圖4.本發明實施例4中，潔凈的空白玻璃的透光率曲線圖和當刻蝕溫度為20°C，刻蝕時間為48h，氟硅酸水溶液的體積為30mL時，濃度為1.00mol/L的氟硅酸水溶液產生的氣體對玻璃片刻蝕后玻璃片的透光率曲線圖。
[0033]圖5.本發明實施例5中，潔凈的空白玻璃的透光率曲線圖和當刻蝕溫度為15°C，刻蝕時間為48h，氟硅酸水溶液的體積為20mL時，濃度為1.00mol/L的氟硅酸水溶液產生的氣體對玻璃片刻蝕后玻璃片的透光率曲線圖。
[0034]圖6.本發明實施例6中，潔凈的空白玻璃的透光率曲線圖和當刻蝕溫度為15°C，刻蝕時間為48h，氟硅酸水溶液的體積為40mL時，濃度為1.00mol/L的氟硅酸水溶液產生的氣體對玻璃片刻蝕后玻璃片的透光率曲線圖。
[0035]圖7.本發明實施例7中，潔凈的空白玻璃的透光率曲線圖和當刻蝕溫度為15°C，刻蝕時間為18h，氟硅酸水溶液的體積為30mL時，濃度為1.0Omol/L的氟硅酸水溶液產生的氣體對玻璃片刻蝕后玻璃片的透光率曲線圖。
[0036]圖8.本發明實施例8中，潔凈的空白玻璃的透光率曲線圖和當刻蝕溫度為15°C，刻蝕時間為48h，氟硅酸水溶液的體積為30mL時，濃度為1.00mol/L的氟硅酸水溶液產生的氣體對玻璃片刻蝕后玻璃片的透光率曲線圖。
[0037]圖9.本發明實施例9中，潔凈的空白玻璃的透光率曲線圖和反射率曲線圖，以及當氟硅酸水溶液的濃度為1.0mol/L，刻蝕溫度為15°C，氟硅酸水溶液的體積為30mL時，刻蝕時間為30h時，氟硅酸水溶液產生的氣體對玻璃刻蝕后玻璃片的透光率曲線圖和反射率曲線圖。
[0038]圖10.本發明實施例10中，a為當氟硅酸水溶液的濃度為1.0mol/L、體積為30mL，刻蝕溫度為15°C，不同的刻蝕時間(0小時、18小時、24小時、30小時、36小時和48小時)氟硅酸水溶液產生的氣體對玻璃刻蝕后玻璃片的透光率曲線圖；b為當氟硅酸水溶液的濃度為1.0mol/L，刻蝕溫度為15°C，氟硅酸水溶液的體積為30mL時，氟硅酸水溶液產生的氣體在不同的刻蝕時間(0小時、18小時、24小時、30小時、36小時和48小時)對玻璃刻蝕后玻璃片的最大透光率和水珠與刻蝕后玻璃片的表面的接觸角圖；c為a圖中黑色方框處的放大圖。
[0039]圖11.本發明實 施例10中，當氟硅酸水溶液的濃度為1.0mol/L，刻蝕溫度為15°C,氟娃酸水溶液的體積為30mL時,經過不同刻蝕時間之后的玻璃片表面的結構的掃描電鏡照片；a圖、b圖、c圖、d圖、e圖和f圖分別為經過0小時、18小時、24小時、30小時、36小時和48小時刻蝕之后的玻璃片表面結構的掃描電鏡照片；g圖為e圖的放大圖片；h圖為e圖的截面圖片。
[0040]圖12.本發明實施例11中，當氟硅酸水溶液的濃度為1.0mol/L，刻蝕溫度為15°C，氟硅酸水溶液的體積為30mL時，刻蝕時間為30h時，氟硅酸水溶液產生的氣體對玻璃的刻蝕；a圖為L水珠滴在空白玻璃片的表面，水滴與玻璃片表面的接觸角情況的數碼照片；b圖為3yL水珠滴在刻蝕后增透的玻璃片的表面，水滴與刻蝕后增透的玻璃片表面的接觸角情況的數碼照片；c圖為3 y L水珠滴在增透的防霧玻璃的表面，水滴與增透的防霧玻璃的表面的接觸角情況的數碼照片；d圖為增透的防霧玻璃的防霧性能測試，圖中上面為增透的防霧玻璃，圖中下面為空白玻璃。
[0041]圖13.本發明實施例11對應的玻璃片的耐磨性能測試，a圖表示6H鉛筆刮痕測試的SEM像，b圖表示6H鉛筆刮痕測試的SEM放大圖像。
[0042]圖14.本發明實施例12中，當氟硅酸水溶液的濃度為1.0mol/L，刻蝕溫度為15°C，氟硅酸水溶液的體積為30mL時，氟硅酸水溶液產生的氣體玻璃刻蝕24小時后的得到增透的玻璃片，經過氧等離子處理8分鐘，然后置于馬弗爐中于720° C下煅燒135秒，得到增透的防霧玻璃。增透的防霧玻璃片透光率曲線圖和戶外放置兩個月后增透的防霧玻璃片的透光率曲線圖。
[0043]圖15.a圖為本發明實施例13中，當氟硅酸水溶液的濃度為1.0mol/L，刻蝕溫度為15°C，氟硅酸水溶液的體積為30mL時，氟硅酸水溶液產生的氣體對玻璃片刻蝕30小時，不改變氟硅酸水溶液，每30小時換取潔凈的玻璃片進行重復刻蝕，得到增透玻璃片的透光率曲線圖山圖為a圖黑色方框部分的放大圖。[0044]圖16.本發明實施例14中，當氟硅酸水溶液的濃度為1.0mol/L，刻蝕溫度為15°C，氟硅酸水溶液的體積為30mL時，氟硅酸水溶液產生的氣體對超白玻璃刻蝕30小時后的超白玻璃片的透光率曲線圖。
【具體實施方式】
[0045]實施例1.[0046]向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入30mL濃度為0.75mol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為15°C下對玻璃片進行刻蝕48小時，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的厚度為52nm多孔結構層，所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通。刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出玻璃片，將玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把玻璃片吹干)，得到增透玻璃片。當3 y L水珠滴在增透玻璃片上，所述的增透玻璃片的表面與水的接觸角為36.5°。
[0047]圖1為經過濃度為0.75mol/L的氟硅酸水溶液產生的氣體刻蝕之后得到的增透玻璃片的透光率曲線圖。未經過刻蝕的潔凈的空白玻璃在506nm波長處的透光率為91.2% ；經過0.75mol/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕48小時后得到的增透玻璃片的最大透光率為402nm波長處的透光率為95.5%。
[0048]實施例2.[0049]向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入30mL濃度為1.50mol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為15°C下對玻璃片進行刻蝕48小時，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的厚度為76nm的多孔結構層，所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通。刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出玻璃片，將玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把玻璃片吹干)，得到得到增透玻璃片。當3 y L水珠滴在增透玻璃片上，所述的增透玻璃片的表面與水的接觸角為40.1°。
[0050]圖2為經過濃度為1.50mol/L的氟硅酸水溶液產生的氣體刻蝕之后得到的增透玻璃片的透光率曲線圖。未經過刻蝕的潔凈的空白玻璃在506nm波長處的透光率為91.2% ；經過1.50mol/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕48小時后得到的增透玻璃片的最大透光率為678nm波長處的透光率為95.6%。
[0051]實施例3.[0052]向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入30mL濃度為1.0Omol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為5°C下對玻璃片進行刻蝕48小時，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的厚度為48nm的多孔結構層，所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通。刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出玻璃片，將玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把玻璃片吹干)，得到得到增透玻璃片。當3 y L水珠滴在增透玻璃片上，所述的增透玻璃片的表面與水的接觸角為36.3°。[0053]圖3為經過濃度為1.00mol/L的氟硅酸水溶液產生的氣體在5°C下刻蝕之后得到的增透玻璃片的透光率曲線圖。未經過刻蝕的潔凈的空白玻璃在506nm波長處的透光率為91.2% ;在5°C下，經過1.0OmoI/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕48小時后得到的增透玻璃片的最大透光率為403nm波長處的透光率為93.8%。
[0054]實施例4.[0055]向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入30mL濃度為1.0Omol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為20°C下對玻璃片進行刻蝕48小時，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的厚度為70nm的多孔結構層，所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通。刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出玻璃片，將玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把玻璃片吹干)，得到增透玻璃片。當3 y L水珠滴在增透玻璃片上，所述的增透玻璃片的表面與水的接觸角為39.6°。
[0056]圖4為經過濃度為1.0OmoI/L的氟硅酸水溶液產生的氣體刻蝕之后得到的增透玻璃片的透光率曲線圖。未經過刻蝕的潔凈的空白玻璃在506nm波長處的透光率為91.2% ;在20°C下，經過1.0OmoI/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕48小時后得到的增透玻璃片的最大透光率為400nm波長處的透光率為92.7%。
[0057]實施例5.[0058]向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入20mL濃度為1.0Omol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為20°C下對玻璃片進行刻蝕48小時，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的厚度為57nm的多孔結構層，所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通。刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出玻璃片，將玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把玻璃片吹干)，得到增透玻璃片。當3 y L水珠滴在增透玻璃片上，所述的增透玻璃片的表面與水的接觸角為39.0°。
[0059] 圖5為經過20mL濃度為1.0OmoI/L的氟硅酸水溶液在15°C下產生的氣體刻蝕48小時之后得到的增透玻璃片的透光率曲線圖。未經過刻蝕的潔凈的空白玻璃在506nm波長處的透光率為91.2% ;溶液體積為20mL時，經過1.0OmoI/L的氟硅酸水溶液在15°C下分解產生的氣體刻蝕48小時后得到的增透玻璃片的最大透光率為658nm波長處的透光率為94.9%o
[0060]實施例6.[0061]向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入40mL濃度為1.0Omol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為15°C下對玻璃片進行刻蝕48小時，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的厚度為84nm的多孔結構層，所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通。刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出玻璃片，將玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把玻璃片吹干)，得到增透玻璃片。當3 y L水珠滴在增透玻璃片上，所述的增透玻璃片的表面與水的接觸角為44.9°。
[0062]圖6為經過濃度為1.0OmoI/L的氟硅酸水溶液產生的氣體刻蝕之后得到的增透玻璃片的透光率曲線圖。未經過刻蝕的潔凈的空白玻璃在506nm波長處的透光率為91.2% ；溶液體積為40mL時，經過1.0OmoI/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕48小時后得到的增透玻璃片的最大透光率為630nm波長處的透光率為94.5%。
[0063]實施例7.[0064]向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入30mL濃度為1.0Omol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為15°C下對玻璃片進行刻蝕18小時，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的厚度為40nm的多孔結構層，所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通。刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出玻璃片，將玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把玻璃片吹干)，得到增透玻璃片。當3 y L水珠滴在增透玻璃片上，所述的增透玻璃片的表面與水的接觸角為35.3°。
[0065]圖7為經過濃度為1.0OmoI/L的氟硅酸水溶液載15°C下產生的氣體刻蝕18小時之后得到的增透玻璃片的透光率曲線圖。未經過刻蝕的潔凈的空白玻璃在506nm波長處的透光率為91.2% ;當刻蝕時間為18小時時，經過30mL濃度為1.0OmoI/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕后得到的增透玻璃片的最大透光率為402nm波長處的透光率為95.9%。
[0066]實施例8.[0067]向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入30mL濃度為1.0Omol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為15°C下對玻璃片進行刻蝕48小時，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的厚度為IOOnm的多孔結構層，所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通。刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出玻璃片，將玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把玻璃片吹干)，得到增透玻璃片。當3 y L水珠滴在增透玻璃片上，所述的增透玻璃片的表面與水的接觸角為37.0°。
[0068]圖8為經過30mL濃度為1.0OmoI/L的氟硅酸水溶液在15°C下產生的氣體刻蝕48小時之后得到的增透玻璃片的透光率曲線圖。未經過刻蝕的潔凈的空白玻璃在506nm波長處的透光率為91.2% ;當刻蝕時間為48小時時，經過30mL濃度為1.0OmoI/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕后得到的增透玻璃片的最大透光率為578nm波長處的透光率為97.6%。
[0069]實施例9.[0070]向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入30mL濃度為1.0Omol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為15°C下對玻璃片進行刻蝕30小時，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的厚度為60nm的多孔結構層，所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通。刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出玻璃片，將玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把玻璃片吹干)，得到增透玻璃片。當3 y L水珠滴在增透玻璃片上，所述的增透玻璃片的表面與水的接觸角為35.4°。
[0071]圖9為潔凈的空白玻璃和30mL濃度為1.00mol/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體在15°C下對玻璃片刻蝕30小時之后得到的增透玻璃片的透光率曲線圖和反射率曲線圖。由圖9看出，刻蝕后得到的增透玻璃的透光率由92.1%提高到99.0%，反射率由9%降低至 0.52%。
[0072]實施例10.[0073]·向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入30mL濃度為1.0mol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為15°C下對玻璃片進行刻蝕，刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出玻璃片，將玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把玻璃片吹干)，得到增透玻璃片。
[0074]所述的刻蝕時間分別為18小時、24小時、30小時、36小時和48小時，選擇不同的刻蝕時間，氟硅酸水溶液分解產生的氣體對玻璃片的刻蝕程度是不同的，分別在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的厚度分別為40nm、52nm、60nm、78nm和IOOnm的多孔結構層，且所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通；刻蝕后得到的增透玻璃片具有明顯不同的對光的透光率和對水的親水性。
[0075]圖10中的a圖和c圖分別為15°C下，30mL濃度為1.0mol/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體在不同刻蝕時間條件下對玻璃片刻蝕之后得到的增透玻璃片的透光率曲線圖。當刻蝕時間為18小時時，經過30mL濃度為1.0mol/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕后得到的增透玻璃片的最大透光率為402nm波長處的透光率為95.9% ;當刻蝕時間為24小時時，經過30mL濃度為1.0mol/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕后得到的增透玻璃片的最大透光率為402nm波長處的透光率為98.5% ;當刻蝕時間為30小時時，經過30mL濃度為1.0mol/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕后得到的增透玻璃片的最大透光率為477nm波長處的透光率為99.0% ;當刻蝕時間為36小時時，經過30mL濃度為1.0mol/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕后得到的增透玻璃片的最大透光率為406nm波長處的透光率為98.2% ;當刻蝕時間為48小時時，經過30mL濃度為1.0mol/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕后得到的增透玻璃片的最大透光率為578nm波長處的透光率為97.6%。由此可見，當刻蝕時間為30小時，經過30mL濃度為1.0mol/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕后得到的增透玻璃片展示了最高的透光率。
[0076]圖10中的b圖顯示:當3 ii L水珠滴在潔凈的空白玻璃上，水珠與空白玻璃片的表面的接觸角為13.94°。當3 y L水珠滴在經過30mL濃度為1.0mol/L的氟硅酸水溶液產生的氣體分別刻蝕了 18小時、24小時、30小時、36小時和48小時之后得到的增透玻璃片的表面上，水珠與增透玻璃片的表面的接觸角分別為35.34°、40.15°、35.36°、37.42°和37.01°，水珠在經過30mL濃度為1.0mol/L氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕24小時之后得到的增透玻璃片的表面上的接觸角最大，在經過30mL濃度為1.0mol/L氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕18小時之后得到的增透玻璃片表面上的接觸角最小。
[0077]在15°C下，在30mL濃度為1.0mol/L氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕不同的時間之后得到的增透玻璃片的表面的結構如圖11所示。a圖、b圖、c圖、d圖、e圖和f圖分別為經過0小時、18小時、24小時、30小時、36小時和48小時刻蝕之后得到的增透玻璃片的表面結構的掃描電鏡照片。 g圖為e圖的放大圖片；h圖為e圖的截面圖片。
[0078]從圖10中的a圖中可以看到，空白玻璃的表面十分平滑并且有一些較小且封閉的溝壑狀缺陷，經過18小時刻蝕之后得到的增透玻璃片的表面的缺陷打開逐漸變成更大更寬的裂痕。當刻蝕時間延長至30小時時，裂痕更寬更深，由放大圖可以看出，內部存在多孔的階層結構。當刻蝕時間再延長至48小時時，更寬的裂痕可以從f?圖中看出。由h圖看出，經過30mL濃度為1.0mol/L氟硅酸水溶液分解產生的氣體刻蝕30小時之后，刻蝕出的多孔結構層的厚度為60nm。[0079]實施例11.[0080]向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入30mL濃度為1.0mol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為15°C下對玻璃片進行刻蝕30小時，刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出玻璃片，將玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把玻璃片吹干)，得到增透玻璃片。所得增透玻璃片的表面仍保持玻璃片固有的良好的平滑性。
[0081] 將得到的增透玻璃片置于功率為120W的氧等離子清洗器中，在電壓為800V下清洗所述的增透玻璃片5分鐘，氧氣的流量為800mL/min。然后將經氧等離子體處理后得到的增透玻璃片置于馬弗爐中，于720°C下煅燒135秒進行退火處理，得到增透的防霧玻璃片。由圖12的a圖看出，L水珠滴在空白玻璃片的表面，水滴與空白玻璃片的表面的接觸角為13.9°。由圖12的b圖看出，當3 ii L水珠滴在增透玻璃片的表面，水滴與增透玻璃片的表面的接觸角為37.01°。由圖12的圖c看出，當3 ii L水珠滴在增透的防霧玻璃片表面，水滴與增透的防霧玻璃片的接觸角為5.8°。
[0082]將洗凈的空白玻璃和增透的防霧玻璃片放入冰箱中，于_18°C下冷凍4小時，取出后在室溫下進行防霧測試，測試結果如圖12中的d圖所示。
[0083]增透的防霧玻璃片的耐磨性是以6H的鉛筆進行刮痕測試(恒定壓力為7.5N，鉛筆與涂層表面成45° )，測試結果如圖13中的a圖及b圖中的箭頭所指，鉛筆劃過后刻蝕的微結構依然存在，增透的防霧玻璃片表面的多孔微結構沒不會被6H鉛筆劃掉。
[0084]實施例12.[0085]向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入30mL濃度為1.0mol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為15°C下對玻璃片進行刻蝕24小時，刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出玻璃片，將玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把玻璃片吹干)，得到增透玻璃片。
[0086]將得到的增透玻璃片置于功率為120W的氧等離子清洗器中，在電壓為800V下清洗所述的增透玻璃片8分鐘，氧氣的流量為800mL/min。然后將經氧等離子體處理后得到的增透玻璃片置于馬弗爐中，于720°C下煅燒135秒進行退火處理，得到增透的防霧玻璃片；所得增透的防霧玻璃片的表面仍保持玻璃片固有的良好的平滑性。
[0087]圖14為將增透的防霧玻璃片放置戶外兩個月后，用自來水沖洗并用空氣吹干后的增透的防霧玻璃片透光率曲線圖。放置后的增透的防霧玻璃片的最大透光率為416nm波長處的透光率為96.26%，比未放置前的增透的防霧玻璃片僅降低了 2.26%。說明增透的防霧玻璃片的減反表面具有良好的耐久性。[0088]實施例13.[0089]向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入30mL濃度為1.0mol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為15°C下對玻璃片進行刻蝕30小時，刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出玻璃片，將玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把玻璃片吹干)，得到增透玻璃片I。
[0090]不改變容器內的氟硅酸水溶液，迅速將另一片潔凈的玻璃片(玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置換掉四腳支架上得到的增透玻璃片I并重復上述方法，得到增透玻璃2。如此進行八個循環。
[0091]圖15為不改變氟硅酸水溶液，所得8個增透玻璃片的透光率曲線圖。增透玻璃片I的最大透光率為475nm波長處的透光率為98.95%，增透玻璃片2的最大透光率為477nm波長處的透光率為98.80%，增透玻璃片3的最大透光率為477nm波長處的透光率為98.50%，增透玻璃片4的最大透光率為466nm波長處的透光率為98.49%，增透玻璃片5的最大透光率為473nm波長處的透光率為98.30%，增透玻璃片6的最大透光率為403nm波長處的透光率為97.92%，增透玻璃片7的最大透光率為471nm波長處的透光率為97.53%，增透玻璃片8的最大透光率為470nm波長處的透光率為97.50%。由圖15可以看出，本發明的制備方法具有良好的重復性。
[0092]實施例14.[0093]向以聚四氟乙烯材料為內膽的容積為500mL的容器中，加入30mL濃度為1.0Omol/L的氟硅酸水溶液，將洗凈的超白玻璃片(超白玻璃片的尺寸為2.5厘米(寬)X 7.5厘米(長)X0.1厘米(厚度))置于四腳支架上；將超白玻璃片連同支架一起放入以聚四氟乙烯為內膽的容器中，超白玻璃片水平懸于容器中氟硅酸水溶液的上方，蓋上容器的蓋子，將蓋上蓋子的容器放入水熱釜中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，把水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為15°C下對玻璃片進行刻蝕30小時，刻蝕結束后打開水熱釜的蓋子，拿出容器，再從容器中取出超白玻璃片，將超白玻璃片清洗干凈并吹干(可用大量自來水或者蒸餾水沖洗干凈，并可用空氣壓縮機排出的壓縮空氣把超白玻璃片吹干)，得到增透超白玻璃片。
[0094]圖16為30mL濃度為1.0OmoI/L的氟硅酸水溶液分解產生的氣體對超白玻璃片刻蝕30小時之后得到的增透超白玻璃片的透光率曲線圖。當刻蝕時間為30小時，經過30mL濃度為1.0OmoI/L的氟硅酸水溶液產生的氣體刻蝕后得到的增透超白玻璃片的最大透光率為404nm波長處的透光率為95.0%，比未刻蝕的超白玻璃提高了 3.5%。
【權利要求】
1. 一種增透的防霧玻璃，其特征是:所述的增透的防霧玻璃是對增透玻璃片進行氧等離子體處理和退火處理后得到的，所述的增透玻璃片是在玻璃片的表面刻蝕有一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的多孔結構層，所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通；所述的增透的防霧玻璃片的表面仍保持玻璃片固有的平滑性。
2.根據權利要求1所述的增透的防霧玻璃，其特征是:所述的在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的多孔結構層的厚度為40~lOOnm。
3.根據權利要求1所述的增透的防霧玻璃，其特征是:所述的增透玻璃片的表面與水的接觸角為35°~45°。
4.根據權利要求1所述的增透的防霧玻璃，其特征是:所述的增透的防霧玻璃的表面與水的接觸角為5°~6°。
5.一種根據權利要求1~4任意一項所述的增透的防霧玻璃的制備方法，其特征是:所述的制備方法包括以下步驟: (1)將氟硅酸水溶液置于反應容器中，然后將清洗干凈的玻璃片水平懸于反應容器中氟娃酸水溶液的上方，蓋上反應容器的蓋子；將蓋上蓋子的反應容器放入水熱爸中，蓋上水熱釜的蓋子并擰緊，在密封狀態下，將水熱釜放入恒溫箱中，在溫度為5~20°C下對玻璃片進行刻蝕，在玻璃片的表面刻蝕出一層由玻璃片的表面向玻璃片的內部延伸的多孔結構層，所述的向玻璃片的內部延伸的多孔結構層中的相鄰的孔與孔相通或不相通；刻蝕結束后取出玻璃片，得到增透玻璃片； (2)將步驟⑴得到的增透玻璃片置于氧等離子體清洗器中，在400~700V的電壓下清洗所述的增透玻璃片，氧氣的流量為800~lOOOmL/min ； (3)將步驟(2)經氧等離子體處理后得到的增透玻璃片置于馬弗爐中，于700°C~720°C下煅燒100~150秒進行退火處理，得到增透的防霧玻璃；所得增透的防霧玻璃片的表面仍保持玻璃片固有的良好的平滑性。
6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征是:所述的刻蝕的時間為18~48小時。
7.根據權利要求5所述的制備方法，其特征是:步驟(2)所述的清洗的時間為5~8分鐘。
8.根據權利要求5所述的制備方法，其特征是:所述的氟硅酸水溶液在反應容器中的體積為20mL~40mL，所述的氟硅酸水溶液的體積與反應容器的容積比值為0.04~0.08。
9.根據權利要求5或8所述的制備方法，其特征是:所述的氟硅酸的水溶液的濃度為.0.75mol/L ~1.75mol/L。
【文檔編號】C03C15/00GK103570248SQ201210254006
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2012年7月20日 優先權日:2012年7月20日
【發明者】賀軍輝, 姚琳 申請人:中國科學院理化技術研究所