技術總結
本公開涉及一種用于將目標從基板轉移系統轉移至光刻系統的真空室的裝置，目標包括基板或夾箝基板的基板支承結構，裝置包括：負載鎖定室，用于將目標轉移至光刻系統的真空室內和光刻系統的真空室外，負載鎖定室包括第一壁和第二壁，第一壁中具有提供機器人空間和負載鎖定室內部之間的接入的第一通道，第二壁中具有提供負載鎖定室的內部和光刻系統的真空室之間的接入的第二通道；和多個操縱機器人，用于轉移所述目標，其中多個操縱機器人包括：第一操縱機器人，其可在機器人空間內移動，以接入基板轉移系統和負載鎖定室的第一通道；和第二操縱機器人，其可在負載鎖定室內移動，以接入負載鎖定室的第一通道和負載鎖定室的第二通道。
技術研發人員：V.S.凱珀;E.斯洛特;M.N.J.范科溫克;G.德博爾;H.J.德瓊
受保護的技術使用者：邁普爾平版印刷IP有限公司
文檔號碼：201710164697
技術研發日：2012.05.01
技術公布日：2017.06.27