一種環渦電解用底盤的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種環渦電解用底盤，包括底盤，所述底盤的下端設置有凹腔，在凹腔的敞口位置設置有法蘭，所述底盤內設置有環形空腔，在底盤的上端面上設置有入液口與所述環形空腔相通，所述凹腔的腔壁上設置有出液口，所述出液口在底盤徑向方向傾斜設置并與所述環形空腔連通，具有結構簡單合理緊湊、安裝方便、實施成本低、產生渦流效果好等特點。
【專利說明】—種環渦電解用底盤
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及環渦電解設備，具體來說是環渦電解用底盤。
【背景技術】
[0002]在PCB板制作過程中，經常需要對電路板的銅表面進行微蝕刻，以提高銅表面與其他工序等的結合力，微蝕刻后產生的廢液中含有大量的銅離子，如果將這些廢液直接排放，則勢必造成很大的污染，且廢液中大量的銅也沒有得到充分的利用而浪費掉，為此，一般采用電解方式將溶液中的銅提取出來，而傳統所采用的電解技術是將陰、陽極放置在緩慢流動或者停滯的槽體內，在電場作用下，銅離子向陰極定向移動，但該種方式生產效率低，電解裝置結構復雜，且電解出的銅其物質結構性差，為此，目前已逐漸采用環渦電解技術來取代傳統的電解方式。環渦電解又稱為旋流電解，是一種有效分離和提純金屬的方法，主要應用在銅、鋅、鎳、鈷、鉛、金、銀、貴金屬及廢水處理等多個方面。環渦電解技術是基于各金屬離子理論析出電位的差異，即欲被提取的金屬只要與溶液體系中其他金屬離子有較大的電位差，則電位較正的金屬易于在陰極優先析出，其關鍵是通過高速液流消除濃差極化等對電解的不利影響。但現有技術中使得電解液產生渦流的裝置結構復雜，成本高，渦流效果較差，已不能滿足日益更新的行業發展需求。
實用新型內容
[0003]為了克服現有技術的不足，本實用新型提供一種環渦電解用底盤，其具有結構簡單、實施成本低、能有效形成潤流等特點。
[0004]本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是:
[0005]一種環渦電解用底盤，包括底盤，所述底盤的下端設置有凹腔，在凹腔的敞口位置設置有法蘭，所述底盤內設置有環形空腔，在底盤的上端面上設置有入液口與所述環形空腔相通，所述凹腔的腔壁上設置有出液口，所述出液口在底盤徑向方向傾斜設置并與所述環形空腔連通。
[0006]作為上述技術方案的改進，所述出液口與底盤徑向呈30-45°角傾斜設置。
[0007]作為上述技術方案的進一步改進，所述入液口徑向尺寸大于所述出液口。
[0008]進一步，所述出液口為3個且周向均布在所述凹腔的腔壁上。
[0009]進一步，所述凹腔的腔壁自下往上逐漸收窄形成倒錐形壁。
[0010]進一步，所述法蘭上周向均布有螺栓連接孔。
[0011]本實用新型的有益效果是:本實用新型通過在底盤內設置環形空腔，底盤的上端面和凹腔的腔壁上分別設置與環形空腔連通的入液口和出液口，出液口與底盤徑向方向傾斜設置，使得當電解液通過入液口大量導入環形空腔時，環形空腔內部的壓力逐漸增大，環形空腔內部的電解液就會從出液口沿著空腔腔壁進入電解桶內，使得電解桶內的電解液旋轉起來形成漩渦，很好的滿足了環渦電解的渦流需求，具有結構簡單合理緊湊、安裝方便、實施成本低、產生渦流效果好等特點。【專利附圖】
【附圖說明】
[0012]圖1是本實用新型的結構示意圖；
[0013]圖2是本實用新型的另一角度示意圖；
[0014]圖3是本實用新型從上往下方向看得到的投影視圖；
[0015]圖4是圖3中A-A截面的剖視圖。
【具體實施方式】
[0016]下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步詳細的說明。
[0017]參照圖f圖4，本實用新型的一種環渦電解用底盤，包括底盤1，所述底盤I的下端設置有凹腔11，在凹腔11的敞口位置設置有法蘭12，法蘭12 —體成型在所述底盤I上，法蘭12上設置有螺栓連接孔13，配合螺栓將底盤I與環渦電解桶緊密相連，在本實施例中，優選螺栓連接孔13周向均布在法蘭12表面。
[0018]所述底盤I內設置有環形空腔14，在底盤I的上端面上設置有入液口 15與所述環形空腔14相通，其中入液口 15與外部電解液輸送管道相連接，所述凹腔11的腔壁上設置有出液口 16，所述出液口 16在底盤I徑向方向傾斜設置并與所述環形空腔14連通，即使得出液口 16噴出的電解液并不直接噴向凹腔11的中心軸，而是以與中心軸傾斜方式噴入，出液口 16優選為3個且周向均布在所述凹腔11的腔壁上。
[0019]在本實施例中，為能夠產生較好的渦流效果，優選所述出液口 16與底盤I徑向呈30?45°角傾斜設置。
[0020]在本實施例中，為加快渦流流速，優選所述入液口 15徑向尺寸大于所述出液口16，如此可使得出液口 16的壓力較大，有利于漩渦的產生。
[0021]作為本實施例的優選，所述凹腔11的腔壁自下往上逐漸收窄形成倒錐形壁，倒錐形壁的設置有利于減小電解液自出液口 16噴出后沿凹腔11的腔壁運動時受到的阻力，進一步提聞了游潤的廣生。
[0022]另外，可在底盤I上設置上下貫通的通孔17，以用于安裝陽極棒，當然，陽極棒也可安裝在其他部件上。
[0023]本實用新型所述底盤的工作原理如下:底盤通過法蘭12與環渦電解桶緊密相連，入液口 15與外部電解液輸送管道相連接，電解液通過入液口 15進入到環形空腔14內部，隨著電解液大量導入到環形空腔14內，使得環形空腔14的內部壓力越來越大，環形空腔14內部的電解液通過出液口 16進入到環渦電解桶內，并從出液口 16沿著凹腔11的倒錐形壁切線方向進入電解桶內，使得環渦電解桶內的電解液旋轉起來形成漩渦，以滿足環渦電解的需求。
[0024]本實用新型采用上述結構，具有結構簡單合理緊湊、安裝方便、實施成本低、產生潤流效果好等特點。
[0025]以上所述，只是本實用新型的較佳實施方式而已，但本實用新型并不限于上述實施例，只要其以任何相同或相似手段達到本實用新型的技術效果，都應落入本實用新型的保護范圍之內。
【權利要求】
1.一種環渦電解用底盤，其特征在于:包括底盤，所述底盤的下端設置有凹腔，在凹腔的敞口位置設置有法蘭，所述底盤內設置有環形空腔，在底盤的上端面上設置有入液口與所述環形空腔相通，所述凹腔的腔壁上設置有出液口，所述出液口在底盤徑向方向傾斜設置并與所述環形空腔連通。
2.根據權利要求1所述的一種環渦電解用底盤，其特征在于:所述出液口與底盤徑向呈30~45°角傾斜設置。
3.根據權利要求1所述的一種環渦電解用底盤，其特征在于:所述入液口徑向尺寸大于所述出液口。
4.根據權利要求1所述的一種環渦電解用底盤，其特征在于:所述出液口為3個且周向均布在所述凹腔的腔壁上。
5.根據權利要求1-4中任一項權利要求所述的一種環渦電解用底盤，其特征在于:所述凹腔的腔壁自下往上逐漸收窄形成倒錐形壁。
6.根據權利要求5所 述的一種環渦電解用底盤，其特征在于:所述法蘭上周向均布有螺栓連接孔。
【文檔編號】C23F1/46GK203451636SQ201320545205
【公開日】2014年2月26日 申請日期:2013年9月3日 優先權日:2013年9月3日
【發明者】王曉波 申請人:王曉波