1.一種磁控濺射臺，其特征在于，包括掩膜板、升降機構以及待成膜基片；
所述待成膜基片位于所述升降機構的承載面上，且所述掩膜板位于所述待成膜基片背離所述升降機構的一側；所述升降機構用于根據升降指令上升或下降，以對所述待成膜基片和所述掩膜板之間的距離進行調整。
2.根據權利要求1所述的磁控濺射臺，其特征在于，所述升降機構包括多個均勻分布的升降組件；
所述升降組件包括升降桿，以及與所述升降桿相連接的驅動器，所述驅動器用于驅動所述升降桿運動。
3.根據權利要求2所述的磁控濺射臺，其特征在于，所述升降組件還包括設置于所述升降桿靠近所述待成膜基片一側的壓力感應部；
所述壓力感應部與所述升降桿相連接，用于對升降桿的支撐力進行采集。
4.根據權利要求3所述的磁控濺射臺，其特征在于，所述驅動器還與所述壓力感應部相連接，所述驅動器包括處理單元、驅動控制單元以及執行單元；
所述處理單元與所述壓力感應部相連接，用于根據所述壓力感應部的采集結果計算出所述升降桿的位移補償值；
所述驅動控制單元與所述處理單元相連接，用于根據所述位移補償值生成所述升降指令；其中所述升降指令與所述位移補償值相匹配；
所述執行單元與所述驅動控制單元和所述升降桿相連接，用于根據所述升降指令控制所述升降桿的位移。
5.根據權利要求3所述的磁控濺射臺，其特征在于，所述升降組件還包括連接所述升降桿和所述壓力感應部的緩沖部；所述緩沖部用于在所述升降桿上升或下降的過程中，對所述升降桿施加至所述壓力感應部件的作用力進行緩沖。
6.根據權利要求4所述的磁控濺射臺，其特征在于，所述執行單元為旋轉電機，所述升降桿為絲杠；
所述升降機構還包括固定安裝的固定板；所述固定板與所述待成膜基片平行；每一個所述絲杠穿過所述固定板，并與所述固定板相配合以構成絲杠螺母副；
所述升降組件還包括安裝于所述固定板上的導軌，所述導軌的延伸方向與所述絲杠的延伸方向一致，所述旋轉電機的機殼安裝于所述導軌上，所述絲杠在上升或下降的過程中帶動所述旋轉電機沿所述導軌運動。
7.根據權利要求4所述的磁控濺射臺，其特征在于，所述執行單元為液壓缸，所述升降桿與所述液壓缸的活塞桿相連接。
8.根據權利要求3所述的磁控濺射臺，其特征在于，所述壓力感應部包括封裝蓋、滾珠、杠桿支架以及安裝于所述杠桿支架上的多個傾斜設置的杠桿；
所述多個杠桿設置于所述滾珠周邊，每一個所述杠桿的一端與所述滾珠相接觸；所述封裝蓋上設置有用于露出所述滾珠的開孔，以使得所述滾珠與所述待成膜基片相接觸；
所述壓力感應部還包括安裝于所述封裝蓋背離所述待成膜基片一側的多個壓電感應器，所述壓電感應器與所述杠桿一一對應，且所述壓電感應器設置于所述杠桿的另一端。
9.根據權利要求5所述的磁控濺射臺，其特征在于，所述緩沖部包括套筒以及彈簧；
所述彈簧的一端與所述套筒相連接，另一端與所述升降桿相連接；所述套筒扣合與所述升降桿上，且所述套筒背離所述升降桿的一端與所述壓力感應部相連接。
10.一種磁控濺射裝置，其特征在于，包括如權利要求1-9任一項所述的磁控濺射臺；
所述磁控濺射裝置還包括磁控濺射腔室，所述磁控濺射臺位于所述磁控濺射腔室內。