技術特征：
技術總結
本公開提供一種基座以及物理氣相沉積裝置。該基座包括：基座本體，具有一支撐面；支撐柱，位于所述基座本體的所述支撐面的中部區域；以及支撐件，位于所述基座本體的圍繞所述支撐面的中部區域的周邊區域，其中，所述支撐柱被配置為支撐待加工件，所述支撐件被配置為支撐蓋環，在所述待加工件被所述支撐柱支撐且所述蓋環被所述支撐件支撐時，所述蓋環的至少靠近內側的部分位于所述待加工件的上側，且所述蓋環與所述待加工件彼此分離。該基座或物理沉積裝置通過支撐件支撐蓋環，從而使得蓋環不與待加工件接觸，減小了待加工件所受的外部零件的壓力。
技術研發人員：武學偉;王桐;董博宇;張軍;郭冰亮;王軍;張鶴南;徐寶崗;馬懷超;劉紹輝;趙康寧;耿玉潔;王慶軒;崔亞欣
受保護的技術使用者：北京北方華創微電子裝備有限公司
技術研發日：2017.06.30
技術公布日：2017.10.03