可完全去疤的可逆末端終止功能核苷酸及其應用的制作方法

技術特征：

1.一種可完全去疤的可逆末端終止功能核苷酸，其由含有C-C糖苷鍵的核苷酸、連接堿基與熒光基團的鄰二醇基可切割連接臂和熒光基團三部分構成。

2.根據權利要求1所述的可完全去疤的可逆末端終止功能核苷酸，其中所述含有C-C糖苷鍵的核苷酸中的核苷酸為選自由dATP、dTTP、dGTP和dCTP組成的組中的至少之一。

3.根據權利要求1或2所述的可完全去疤的可逆末端終止功能核苷酸，其中所述鄰二醇基可切割連接臂具有如下所述的結構式：

-(CH₂)m(CHOH)₂(CH₂)n-

其中m和n分別為1至5的整數。

4.根據權利要求1或2所述的可完全去疤的可逆末端終止功能核苷酸，其中所述鄰二醇基可切割連接臂與所述熒光基團通過下述基團之一進行連接：NH-CO、CO-NH、CO-NH-NH、NH-NH-CO、NH-CO-NH或CO-NH-NH-CO。

5.根據權利要求1或2所述的可完全去疤的可逆末端終止功能核苷酸，其中所述熒光基團選自由Cy3、Cy5、Cy5.5、Cy7、FITC、Alexa 488、Alexa 568、JOE、ROX、羅丹明6G、四甲基羅丹明、麗絲胺、德克薩斯紅、BODIPY 576/589、BODIPY 630/650和BODIPY 650/665組成的組的至少之一。

6.根據權利要求1或2所述的可完全去疤的可逆末端終止功能核苷酸，其具有下式所示的化學結構式之一：

7.根據權利要求1至6任一項所述的可完全去疤的可逆末端終止功能核苷酸在在基因測序技術中的應用。

8.根據權利要求7所述的應用，其中所述基因測序為高通量測序。

9.根據權利要求7或8所述的應用，其包括下述具體步驟：

1)測序DNA模板及引物的固定；

2)引物延伸；

3)延伸終止；

4)堿基讀取；

5)切除連接臂及與其相連的熒光基團：先加入NaIO₄溶液切斷鄰二醇基連接臂去除熒光基團，然后加入胺類催化劑將剩余的丙醛基完全去除；

6)重復步驟2-5；

7)序列判讀。

10.根據權利要求9所述的應用，其中步驟5)所述的胺類催化劑為選自氨基乙酸、嗎啉和吡咯烷的至少一種。