專利名稱：：搪瓷殘次品的瓷釉去除及回收方法
技術領域：
：本發明屬于搪瓷制造領域，特別是涉及搪瓷殘次品的瓷釉去除及回收方法。
背景技術：
：搪瓷制備工藝包含很多工序，瓷釉層的質量取決于很多因素，即使對每個生產工段嚴格控制也不能完全避免瓷釉生產中'出現殘次品，也就是有缺陷的搪瓷制品。對于這些產品，要完全去除搪瓷坯件表面的瓷釉才能重新涂搪。目前主要的瓷釉去除方法有機械方法和化學方法。實際應用中一般是配合使用，開始用機械法除去一部分瓷釉，然后再用化學方法進行處理。機械方法主要是用手綞和鑿子先進行簡單預處理，然后進行噴砂處理。這種方法除瓷極不均勻，制品壁最薄的部位極易受到損壞，并且容易導致坯件變形，導致坯件報廢，無法回收再利用。在擊落瓷釉時，制品往往被油污和鐵銹所污染，所以在再次涂搪前需將坯件進行焙燒而去污。化學方法主要包括酸液處理法和融堿處理法。Si02作為瓷釉的網絡形成劑，即基體劑，搪瓷主要成分的含量見下表。搪瓷的主要成分(重量％)Si023070Ti02010B203020PbO060.Na20(K20)1230ZnO015F015BaO015A1A012MgO03CaO010Zr02010酸液法主要利用酸液中的氫氟酸與瓷釉中的二氧化硅進行劇烈的反應，除瓷時間需68小時。操作過程中會產生HF，H2S等有害氣體，除瓷不均勻時制品金屬也可能溶解在酸液中。融堿法是較為有效的方法。瓷釉中的Si02可與NaOH反應，氫氧化鈉熔融物在50(TC能夠在幾分鐘內完全去除瓷層。將制品裝入盛有熔堿的鋼槽中，處理后從熔融物中取出并放在熱水槽中洗滌，然后長時間保持在冷水中除去殘余的堿。熔融物要定期的清除沉渣。過程操作簡單有效，但成本高，沉渣難于清理，過程產生的低濃度堿液處理困難。
發明內容本發明的目的是克服現有技術中的不足，提供一種搪瓷殘次品的瓷釉去除及回收方法。本發明的技術方案概述如下搪瓷殘次品的瓷釉去除及回收方法，包括如下步驟將反應釜中放入質量比為0.350.50:1的質量濃度為40%60%的氫氧化鈉水溶液和搪瓷殘次品，通入水蒸汽直接加熱，壓力達到0.70.8MPa后停止通水蒸汽，間接加熱，在15(TC16(TC，反應35小時，取出搪瓷殘次品的坯件，得到溶液1;所述坯件經5°C2(TC的水猝冷，打砂處理除去瓷層，水洗、干燥后重新涂搪使用；將所述溶液1過濾，濾液用酸中和至pH為9.010.5，得到溶液2;向所述溶液2中加入溶液2體積的5%15%的pH為9.010.5的硅溶膠母液，得到溶液3，所述硅溶膠母液用模數2.4的硅酸鈉制得，其中Si02質量濃度為7.5%8.5%;向溶液3中加入質量百分濃度為8%12%的鹽酸水溶液，使pH為9.010.5得到溶液4;所述溶液4在70°C80°C，反應1.03.0小時，調節pH為3.54.5，陳化0.51小時,將沉淀物洗滌，干燥得到二氧化硅。所述搪瓷的坯件材質為銅v鑄鐵、不銹鋼、金或銀。本發明的搪瓷殘次品的瓷釉去除及回收方法，通過用濃氫氧化鈉溶液加壓高溫處理搪瓷殘次品，使得搪瓷殘次品的瓷釉層從坯件表面完全去除，然后將過程中產生的硅酸鈉溶液和剩余的氫氧化鈉溶液用鹽酸處理生產沉淀出二氧化硅。提高了搪瓷坯件的回收率，同時對瓷釉中的二氧化硅進行再利用，即達到了節約資源的目的，同時消除了原工藝廢堿液的排放問題。圖l為本發明搪瓷殘次品的瓷釉去除及回收方法的工藝流程圖。具體實施例方式下面結合附圖實施例對本發明作進一步的說明實施例1搪瓷殘次品的瓷釉去除及回收方法，包括如下步驟(見圖l)將搪瓷次品放入反應釜中，加入50%的氫氧化鈉溶液，然后通入水蒸汽加壓至0.7MPa后停止通氣；間接加熱，在15(TC反應時間4小時；反應結束后取出搪瓷殘次品的坯件，坯件經5'C水猝冷，打砂處理除去瓷層，水洗、干燥后重新涂搪使用；將反應釜內溶液過濾打入中和反應釜內，然后加入10%的工業鹽酸中和，使pH在9.010.5左右；4然后加入硅溶膠母液，硅溶膠母液pH為9.010.5，用量約為反應釜內溶液體積的10%，再向中和反應釜內加入10%的鹽酸，使為pH為9.010.5;沉淀反應時間為2.0小時，溫度控制在75。C;反應結束后繼續加入10%的鹽酸，使pH為3.54.5，陳化1.0小時，溫度控制在75。C;將上述過程產生沉淀物通入漂洗池經漂洗，過濾，焙燒千燥，然后用沖擊磨粉碎，旋風分離機分離得到產品二氧化硅；漂洗池母液可重復使用洗滌沉淀物，達到一定濃度后富集濃縮，生產工業NaCl。實施例2將反應釜中放入質量比為0.40:1的質量濃度為50%的氫氧化鈉水溶液和搪瓷殘次品，搪瓷的坯件材質為銅，通入水蒸汽直接加熱，壓力達到0.8MPa后停止通水蒸汽，間接加熱，在155。C，反應4小時，取出搪瓷殘次品的坯件，得到溶液l;所述坯件經5t:的水猝冷，'打砂處理除去瓷層，水洗、干燥后重新涂搪使用；將所述溶液l過濾，濾液用酸中和至pH為9.0，得到溶液2;向所述溶液2中加入溶液2體積的10%的pH為9.0的硅溶膠母液，得到溶液3，所述硅溶膠母液用模數2.4的硅酸鈉制得，其中SiOs質量濃度為7.5%;向溶液3中加入質量百分濃度為10%的鹽酸水溶液，使pH為9.0得到溶液4;所述溶液4在75°C，反應2.0小時，調節pH為3.5，陳化0.6小時，將沉淀物洗滌，干燥得到二氧化硅。實施例3搪瓷殘次品的瓷釉去除及回收方法，包括如下步驟將反應釜中放入質量比為0.35:1的質量濃度為60%的氫氧化鈉水溶液和搪瓷殘次品，搪瓷的坯件材質為鑄鐵，通入水蒸汽直接加熱，壓力達到0.7MPa后停止通水蒸汽，間接加熱，在15(TC，反應5小時，取出搪瓷殘次品的坯件，得到溶液l;所述坯件經8'C的水猝冷，打砂處理除去瓷層，水洗、干燥后重新涂搪使用；將所述溶液l過濾，濾液用酸中和至pH為10.5，得到溶液2;向所述溶液2中加入溶液2體積的5%的pH為10.5的硅溶膠母液，得到溶液3，所述硅溶膠母液用模數2.4的硅酸鈉制得，其中Si02質量濃度為8.5X;向溶液3中加入質量百分濃度為12%的鹽酸水溶液，使pH為10.5得到溶液4;所述溶液4在7CTC，反應3.0小時，調節pH為4.5，陳化1小時，將沉淀物洗滌，干燥得到二氧化硅。實施例4搪瓷殘次品的瓷釉去除及回收方法，包括如下步驟將反應釜中放入質量比為0.50:1的質量濃度為40%的氫氧化鈉水溶液和搪瓷殘次品，搪瓷的坯件材質為不銹鋼，通入水蒸汽直接加熱，壓力達到0.8MPa后停止通水蒸汽，間接加熱，在16(TC，反應3小時，取出搪瓷殘次品的坯件，得到溶液l;所述坯件經1(TC的水猝冷，打砂處理除去瓷層，水洗、干燥后重新涂搪使用；將所述溶液1過濾，濾液用酸中和至pH為10.0，得到溶液2;向所述溶液2中加入溶液2體積的15%的pH為10.0的硅溶5膠母液，得到溶液3，所述硅溶膠母液用模數2.4的硅酸鈉制得，其中SiOz質量濃度為8.0%;向溶液3中加入質量百分濃度為8%的鹽酸水溶液，使pH為10.0得到溶液4;所述溶液4在8(TC,反應1.0小時，調節pH為3.0，陳化0.5小時，將沉淀物洗滌，干燥得到二氧化硅。實施例5搪瓷殘次品的瓷釉去除及回收方法，包括如下步驟將反應釜中放入質量比為0.45:1的質量濃度為45%的氫氧化鈉水溶液和搪瓷殘次品，搪瓷的坯件材質為金(或銀)，通入水蒸汽直接加熱，壓力達到0.7MPa后停止通水蒸汽，間接加熱，在155'C，反應4小時，取出搪瓷殘次品的坯件，得到溶液l;所述坯件經2(TC的水猝冷，打砂處理除去瓷層，水洗、干燥后重新涂搪使用；將所述溶液1過濾，濾液用酸中和至pH為9.010.5，得到溶液2;向所述溶液2中加入溶液2體積的12%的pH為9.010.5的硅溶膠母液，得到溶液3，所述硅溶膠母液用模數2.4的硅酸鈉制得，其中Si02質量濃度為7.8%;向溶液3中加入質量百分濃度為9%的鹽酸水溶液，使pH為9.010.5得到溶液4;所述溶液4在75'C，反應1.5小時，調節pH為3.54.5，陳化1小時，將沉淀物洗滌，干燥得到二氧化硅。實施例6對一日用白色鑄鐵搪瓷件去釉實例對于日用器具，要求釉質無毒并且有良好的裝飾效果，賦予制品白度、光澤度、色彩等美麗外貌。這類搪瓷要求較高，加工復雜，次品率相對其他制品較高。本類一種搪瓷件瓷釉配方如下白色鑄鐵瓷釉配方(重量份)<table>tableseeoriginaldocumentpage6</column></row><table>經過計算得釉層中含二氧化硅質量分數約為37.4%。一噸該搪瓷品的瓷釉重量為340千克左右。設計一次處理本類搪瓷制品一噸，理論要用50%氫氧化鈉堿液340千克，按堿液過量20%計算需堿液407千克，體積為267升。用10%鹽酸中和并將溶液PH調整到3.54.5,理論要10%工業鹽酸1.86噸，體積為1.77立方米。硅溶膠母液加入量為70升。理論Na2SiO，產量為127.5千克。將一噸搪瓷次品放入反應釜中，然后加入50%的氫氧化鈉溶液267升，然后通入水蒸汽加壓至0.70.8MPa后停止通氣，然后用蒸汽加熱保溫在15(TC16(TC，反應時間約為4小時；'反應結束后將釜內溶液經過濾打入中和反應釜，然后加入10%的工業鹽酸約440升，使pH在9.010.5左右；然后慢慢加入硅溶膠母液70升，再向中和反應釜內加入10%的約鹽酸1.30m'，使pH在9.010.5，沉淀反應時間約為2.0小時，溫度控制在70°C80°C。反應結束后，加入鹽酸調整pH為3.54.5，陳化1小時，溫度控制在7(TC8(TC。將鑄件從反應釜內取出，然后用深井水猝冷，搪瓷件表面的瓷釉層大部分已經脫落，殘余部分經打砂處理即可除去瓷層，然后將鑄件洗滌、干燥后入庫存放。將洗滌鑄件后的含有微量堿的水過濾后通入清洗池，清洗絮凝沉淀物，堿液也會與鹽酸中和；將沉淀物洗滌后送入焙燒爐中進行干燥，然后用沖擊磨粉碎，，定風分離機分離得到產品二氧化硅；該產品應按照HG/T30623072-1999中沉淀水合二氧化硅行業標準檢測。漂洗池中母液循環利用一段時間后NaCl濃度較高，將母液富集后可加熱濃縮制取工業'NaCl。本發明的方法用濃氫氧化鈉溶液溶解瓷釉中的二氧化硅，將得到的水玻璃溶液和殘余的氫氧化鈉溶液用工業鹽酸處理來制取二氧化硅，不僅解決了廢堿液的排放問題，也充分利用了釉質。同時用洗滌鑄件后含有微量氫氧化鈉的水加入漂洗池中，中和漂洗池中的微量鹽酸，并將得到的母液重復利用來漂洗沉淀的二氧化硅，充分利用水資源并較好的解決了環保問題。本發明的方法處理搪瓷殘次品，搪瓷坯件回收率可達90%以上，大大高于機械噴砂法回收率，同時解決了薄壁搪瓷件無法用機械噴砂法回收處理的問題并減少了噴砂處理后還需要對鑄件進行除油除鐵銹處理的工藝環節。權利要求1.搪瓷殘次品的瓷釉去除及回收方法，其特征是包括如下步驟將反應釜中放入質量比為0.35～0.50∶1的質量濃度為40％～60％的氫氧化鈉水溶液和搪瓷殘次品，通入水蒸汽直接加熱，壓力達到0.7～0.8MPa后停止通水蒸汽，間接加熱，在150℃～160℃，反應3～5小時，取出搪瓷殘次品的坯件，得到溶液1；所述坯件經5℃～20℃的水猝冷，打砂處理除去瓷層，水洗、干燥后重新涂搪使用；將所述溶液1過濾，濾液用酸中和至pH為9.0～10.5，得到溶液2；向所述溶液2中加入溶液2體積的5％～15％的pH為9.0～10.5的硅溶膠母液，得到溶液3，所述硅溶膠母液用模數2.4的硅酸鈉制得，其中SiO2質量濃度為7.5％～8.5％；向溶液3中加入質量百分濃度為8％～12％的鹽酸水溶液，使pH為9.0～10.5得到溶液4；所述溶液4在70℃～80℃，反應1.0～3.0小時，調節pH為3.5～4.5，陳化0.5～1小時，將沉淀物洗滌，干燥得到二氧化硅。2.根據權利要求1所述的搪瓷殘次品的瓷釉去除及回收方法，其特征是所述搪瓷的坯件材質為銅、鑄鐵、不銹鋼、金或銀。全文摘要本發明公開了一種搪瓷殘次品的瓷釉去除及回收方法，包括如下步驟將反應釜中放入氫氧化鈉水溶液和搪瓷殘次品，通入水蒸汽直接加熱，壓力達到0.7～0.8MPa后停止通水蒸汽，間接加熱，反應，取出搪瓷殘次品的坯件，得到溶液1；坯件經水猝冷，打砂處理除去瓷層，水洗、干燥后重新涂搪使用；將溶液1過濾，濾液用酸中和，得到溶液2；向溶液2中加入硅溶膠母液，得到溶液3；向溶液3中加入鹽酸水溶液，得到溶液4；在70℃～80℃，反應，調節pH，陳化，將沉淀物洗滌，干燥得到二氧化硅。本發明的方法，提高了搪瓷坯件的回收率，同時對瓷釉中的二氧化硅進行再利用，即達到了節約資源的目的，同時消除了原工藝廢堿液的排放問題。文檔編號B09B5/00GK101507968SQ200910068300公開日2009年8月19日申請日期2009年3月30日優先權日2009年3月30日發明者張旭斌,王富民,蔡旺峰,峰辛,郭煥祖申請人:天津大學