基于雙光源加工的反射鏡溫度控制系統的制作方法

本公開涉及數據處理和溫度控制，具體涉及一種基于雙光源加工的反射鏡溫度控制系統。

背景技術：

1、相關技術中，雙光源加工的反射鏡，其兩路激光需迅速切換，反射鏡溫變速度快。以水為介質，水冷機制冷的反射鏡冷卻方式，通過入水、出水管與反射鏡支架水腔相連，反射鏡通過反射鏡支架進行整體散熱，因水冷機容量大及反射鏡模塊緊湊等原因，反射鏡冷卻遲滯，無法實現設定溫度的精確控制。另外，通過光敏傳感器檢測反射鏡溫度的方式，無法反應反射鏡的各區域溫度分布。

2、因此，如何提高反射鏡的降溫速度，精準控制反射鏡的溫度，實時反饋反射鏡的溫度，已經成為重要的研究方向之一。

技術實現思路

1、本公開旨在至少在一定程度上解決相關技術中的技術問題之一。

2、本公開第一方面實施例提出了一種基于雙光源加工的反射鏡溫度控制系統，包括反射鏡、n個半導體制冷片、m個熱敏傳感器、控制器，每個半導體，分別和反射鏡、控制器連接，控制器和多個熱敏傳感器連接，其中：

3、半導體制冷片，用于對反射鏡進行散熱；

4、熱敏傳感器，用于測量反射鏡的溫度數據，并發送給控制器；

5、控制器，用于接收熱敏傳感器發送的溫度數據，并根據溫度數據對每個半導體制冷片分別進行控制；

6、其中，n、m為大于2的整數，且m≥n。

7、在一些實施方式中，n個半導體制冷片，包括一個圓形半導體制冷片和n-1個環形半導體制冷片，圓形半導體制冷片部署在反射鏡中心，環形半導體制冷片依次嵌套在圓形半導體制冷片上。

8、在一些實施方式中，反射鏡分為n個圈區，n個圈區呈高斯分布，n個圈區分別連接n個半導體制冷片。

9、在一些實施方式中，每個半導體制冷片與反射鏡之間具有一個或多個熱敏傳感器，熱敏傳感器與半導體制冷片之間存在間隙。

10、在一些實施方式中，圓形半導體制冷片與反射鏡之間具有一個熱敏傳感器，該熱敏傳感器部署在反射鏡中心，環形半導體制冷片與反射鏡之間具有多個熱敏傳感器，多個熱敏傳感器在環形半導體制冷片所在的圈區內均勻分布。

11、在一些實施方式中，該系統還包括上位機，上位機和控制器連接，用于接收控制器發送的報警信息并進行展示，報警信息由控制器在溫度數據超過預設溫度范圍時發送。

12、在一些實施方式中，上位機包括顯示器，上位機基于顯示器對報警信息進行展示。

13、在一些實施方式中，控制器包括信號調理電路、邏輯控制器和驅動電路，邏輯控制器分別和信號調理電路、驅動電路連接，其中：

14、信號調理電路，用于對輸入的溫度數據進行信號處理，包括濾波、放大、增益調節、模數轉換操作；

15、邏輯控制器，用于根據溫度數據生成每個半導體制冷片對應的調節指令；

16、驅動電路，用于將調節指令轉換成半導體制冷片的冷卻溫度，以對反射鏡的溫度進行控制。

17、本公開第二方面實施例提出了一種基于雙光源加工的反射鏡溫度控制方法，包括：

18、接收m個熱敏傳感器發送的候選溫度數據，并獲取m個熱敏傳感器和n個半導體制冷片的關聯關系，m、n為大于2的整數，且m大于或等于n；

19、針對每個半導體制冷片，基于半導體制冷片關聯的一個或多個熱敏傳感器的候選溫度數據，獲取半導體制冷片的目標溫度值；

20、獲取反射鏡的參考溫度值，基于參考溫度值、每個半導體制冷片的目標溫度值，對每個半導體制冷片進行差異化溫度控制。

21、在一些實施方式中，每個半導體制冷片與反射鏡之間具有一個或多個熱敏傳感器，獲取m個熱敏傳感器和n個半導體制冷片的關聯關系，包括：

22、針對每個半導體制冷片，將屬于半導體制冷片的一個或多個熱敏傳感器，確定為和半導體制冷片具有關聯關系的熱敏傳感器。

23、在一些實施方式中，基于參考溫度值、每個半導體制冷片的目標溫度值，對每個半導體制冷片進行差異化溫度控制，包括：

24、針對每個半導體制冷片，響應于半導體制冷片的目標溫度值與參考溫度值的差值大于預設的第一溫度閾值，基于差值生成第一調節指令并發送給半導體制冷片，第一調節指令用于控制半導體制冷片降低溫度；

25、響應于半導體制冷片的目標溫度值與參考溫度值的差值小于預設的第二溫度閾值，基于差值生成第二調節指令并發送給半導體制冷片，第二調節指令用于控制半導體制冷片增加溫度；

26、其中，第一溫度閾值大于或等于第二溫度閾值。

27、在一些實施方式中，對每個半導體制冷片進行差異化溫度控制之后，還包括：

28、生成報警信息，并將報警信息發送給上位機。

29、本公開第三方面實施例提出了一種基于雙光源加工的反射鏡溫度控制裝置，包括：

30、獲取模塊，用于接收m個熱敏傳感器發送的候選溫度數據，并獲取m個熱敏傳感器和n個半導體制冷片的關聯關系，m、n為大于2的整數，且m大于或等于n；

31、確定模塊，用于針對每個半導體制冷片，基于半導體制冷片關聯的一個或多個熱敏傳感器的候選溫度數據，獲取半導體制冷片的目標溫度值；

32、溫度控制模塊，用于獲取反射鏡的參考溫度值，基于參考溫度值、每個半導體制冷片的目標溫度值，對每個半導體制冷片進行差異化溫度控制。

33、在一些實施方式中，獲取模塊，還用于：

34、針對每個半導體制冷片，將屬于半導體制冷片的一個或多個熱敏傳感器，確定為和半導體制冷片具有關聯關系的熱敏傳感器。

35、在一些實施方式中，溫度控制模塊，還用于：

36、針對每個半導體制冷片，響應于半導體制冷片的目標溫度值與參考溫度值的差值大于預設的第一溫度閾值，基于差值生成第一調節指令并發送給半導體制冷片，第一調節指令用于控制半導體制冷片降低溫度；

37、響應于半導體制冷片的目標溫度值與參考溫度值的差值小于預設的第二溫度閾值，基于差值生成第二調節指令并發送給半導體制冷片，第二調節指令用于控制半導體制冷片增加溫度；

38、其中，第一溫度閾值大于或等于第二溫度閾值。

39、在一些實施方式中，基于雙光源加工的反射鏡溫度控制裝置，還包括報警模塊，用于：

40、生成報警信息，并將報警信息發送給上位機。

41、本公開第四方面實施例提出了一種電子設備，包括：

42、至少一個處理器；以及

43、與至少一個處理器通信連接的存儲器；其中，

44、存儲器存儲有可被至少一個處理器執行的指令，指令被至少一個處理器執行，以使至少一個處理器能夠執行本公開第一方面實施例中提供的基于雙光源加工的反射鏡溫度控制方法。

45、本公開第五方面實施例提出了一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機指令，其中，計算機指令用于使計算機執行根據本公開第一方面實施例中提供的基于雙光源加工的反射鏡溫度控制方法。

46、本公開第六方面實施例提出了一種計算機程序產品，包括計算機程序，計算機程序在被處理器執行時實現本公開第一方面實施例中提供的基于雙光源加工的反射鏡溫度控制方法。