[0269] 本發明的薄膜可以用于透明導電性薄膜中。
[0270] 透明導電層可以形成為層狀，但優選以具有間歇部的方式形成。間歇部是指未設 置透明導電層的部分，優選間歇部的外周被透明導電層包圍。本發明中，將以具有間歇部的 方式形成透明導電層也稱為以圖案狀形成透明導電層或者以網狀形成透明導電層。作為透 明導電層，例如可以例示出日本特開2013-1009號公報、日本特開2012-216550號公報、日本 特開2012-151095號公報、日本特開2012-25158號公報、日本特開2011-253546號公報、日本 特開2011-197754號公報、日本特開2011-34806號公報、日本特開2010-198799號公報、日本 特開2009-277466號公報、日本特開2012-216550號公報、日本特開2012-151095號公報、國 際公開2010/140275號小冊子、國際公開2010/114056號小冊子中所記載的透明導電層。
[0271] 本發明中所使用的透明導電層更優選含有銀和親水性樹脂。透明導電層中可使用 的親水性樹脂的優選方式與透明導電層用的感光材料中可使用的親水性樹脂的優選方式 相同。
[0272] 尤其優選在本發明中所使用的透明導電層中使用源自鹵化銀感光材料的層。如上 所述，本發明的透明導電性薄膜的透明導電層可以是通過對本發明的薄膜的透明導電層形 成用的感光材料層(優選銀鹽感光材料層)進行曝光及顯影來形成的層。當使用鹵化銀感光 材料時，根據感光材料和顯影處理的方式，透明導電層的制造方法包含以下三種方式。
[0273] (1)對不含物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料進行化學顯影或熱顯影，從 而使金屬銀部（以下，也稱為"顯影銀"。）形成于該感光材料上的方式。
[0274] (2)對在鹵化銀乳劑層中含有物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料進行溶解 物理顯影，從而使金屬銀部形成于該感光材料上的方式。
[0275] (3)將不含物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料與具有含有物理顯影核的非 感光性層的受像片材重疊來進行擴散轉印顯影，從而使金屬銀部形成于非感光性受像片材 上的方式。
[0276] 上述（1)的方式為一體型黑白顯影型，在感光材料上形成光透過性導電膜等透光 性導電性膜。所得到的顯影銀是化學顯影銀或熱顯影銀，并且是高比表面積的細絲 (filament)，因此在后續的電鍍或物理顯影過程中活性較高。
[0277] 上述(2)的方式中，在曝光部中，物理顯影核附近的鹵化銀粒子被溶解并沉積在顯 影核上，由此在感光材料上形成光透過性導電性膜等透光性導電性膜。該方式也是一體型 黑白顯影型。由于顯影作用是在物理顯影核上的析出，因此活性高，但顯影銀為比表面積較 小的球形。
[0278]上述(3)的方式中，在未曝光部中，鹵化銀粒子被溶解而擴散并沉積在受像片材上 的顯影核上，由此在受像片材上形成光透過性導電性膜等透光性導電性膜。該方式為所謂 的分離型，是將受像片材從感光材料上剝離下來使用的方式。
[0279] 在任何方式中均能夠選擇負型顯影處理及反轉顯影處理中的任何顯影。另外，在 擴散轉印顯影方式的情況下，通過使用直接正片型感光材料作為感光材料，能夠進行負型 顯影處理。
[0280]在此所說的化學顯影、熱顯影、溶解物理顯影、擴散轉印顯影的含義為本領域中通 常使用的術語的含義，在攝影化學的一般教科書、例如菊地真一著"攝影化學"（Kyoritsu Shuppan Co. ,Ltd.，1955 年刊行）、C.E.K.Mees 編"The Theory of Photographic Processes,4th ed."（McmiIIan公司，1977年刊行）中有解說。本案件是涉及液體處理的發 明，但也可以參考適用熱顯影方式的技術作為其他顯影方式。例如，可以適用日本特開 2004-184693號、日本特開2004-334077號、日本特開2005-010752號的各公報、日本特開 2006-154700號公報的各說明書中所記載的技術。
[0281] [觸摸面板]
[0282] 另外，上述透明導電性薄膜適于觸摸面板用途，例如能夠按照日本特開2009-176608的<0073>~<0075>段落的記載來制作觸摸面板。
[0283] 本發明的觸摸面板具有本發明的透明導電性薄膜。
[0284] 實施例
[0285] 以下，舉出實施例和比較例對本發明的特征進一步進行具體的說明。以下實施例 所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理步驟等只要不脫離本發明的宗旨，則可以適當變 更。因此，本發明的范圍不應通過以下所示的具體例作限定性解釋。
[0286] 實施例中的略號表示以下含義。
[0287] CTFE:三氟氯乙烯。
[0288] EVE:乙基乙烯基醚。
[0289] CHVE:環己基乙烯基醚。
[0290] HBVE :4_羥基丁基乙烯基醚。
[0291] < 合成例1-1 >
[0292] 使ASAHI GLASS CO. ,LTD.制LUMIFL0N薄片（CTFE:EVE:CHVE:HBVE = 50:15:15:20) 溶解于甲乙酮(MEK)中而得到固體成分60質量％的清漆。
[0293] < 合成例 1-2>
[0294]向所得到的清漆300g中加入4.8g的琥珀酸酐及作為催化劑的0.072g的三乙胺，并 在70°C下反應6小時來進行酯化。測定反應液的紅外吸收光譜的結果，反應前觀測到的酸酐 的吸收光譜（1850011'1780CHT 1)在反應后消失，觀測到羧酸（mOcnf1)及酯（1735(^1)的吸 收光譜。下述表1中所記載的酯化后的含氟共聚物（1-2)的羥值為85mg/K0H，酸值為 15mgK0H/g〇
[0295] < 合成例 1-3>
[0296]接著，向酯化后的含氟共聚物（1-3)中加入4.9g的三乙胺并在室溫下攪拌20分鐘， 由此中和羧酸。接著，向其中緩慢加入160g的離子交換水。最后，減壓餾去甲乙酮。進而加入 20g的離子交換水，得到固體成分濃度50質量％的含氟聚合物溶液(A)，所述含氟聚合物溶 液(A)含有下述表1中所記載的式(al)所表示的源自單體的結構單元50摩爾％、式(a2)所表 示的源自單體的結構單元30摩爾％、式(a3)所表示的源自單體的結構單元18摩爾％及下述 表1中未表示的琥珀酸酐酯的中和物即式(a4)所表示的結構單元2摩爾％。
[0297] <合成例2>
[0298] 向內容積2500ml的帶有不銹鋼制攪拌機的耐壓反應器中加入590g的二甲苯、170g 的乙醇、79g的EVE、14g的HBVE、llg的碳酸鈣及作為聚合引發劑的3.5g的過氧化新戊酸叔丁 酯（以下，PBPV)，通過基于氮的脫氣來去除液體中的溶解氧。接著，加入1287g的CTFE，緩慢 升溫，一邊將反應溫度維持為65°C-邊持續反應。10小時后，對反應器進行水冷來停止反 應。將該反應液冷卻至室溫之后，清除未反應單體，將所得到的反應液用硅藻土進行過濾來 去除固形物。接著，通過減壓餾去來去除二甲苯的一部分和乙醇，得到下述表1中所記載的 含氟聚合物溶液(2-1)。該含氟聚合物的羥值為50mgK0H/g，該含氟聚合物溶液的固體成分 濃度為60 %。
[0299] 代替LUMIFL0N薄片而使用含氟聚合物溶液(2-1)，除此以外，與合成例1-2及1-3同 樣地進行操作，得到含氟聚合物溶液(B)，所述含氟聚合物溶液(B)含有式(al)所表示的源 自單體的結構單元90摩爾％、式(a2)所表示的源自單體的結構單元9摩爾％、式(a3)所表示 的源自單體的結構單元0.8摩爾％及下述表1未表示的琥珀酸酐酯的中和物即式(a4)所表 示的結構單元0.2摩爾％。該含氟聚合物溶液的固體成分濃度為50%。
[0300] <合成例3>
[0301]向內容積6 ,OOOml的帶有不銹鋼制攪拌機的高壓釜中放入去離子水3 ,OOOml，向其 中添加乳化劑(CF3CF2CF2C(CF3) 2CH2CH2C00NH4)12g，接著添加作為引發劑的過硫酸銨(APS) 1.2g。對高壓釜內部充分進行氮取代之后，壓入CTFE，直至高壓釜內部成為0.8MPa。將高壓 釜內的溶液加熱至70°C來引發聚合。由于隨著聚合的進行，聚合體系內的壓力會下降，因此 追加壓入CTFE，一邊將高壓釜內的壓力保持為0.8MPa，一邊經24小時滴加丙烯酸(AA)80g來 進行聚合。其后，使容器內的壓力恢復至1氣壓，將溫度下降至25°C，以結束聚合，得到表1中 所記載的含氟聚合物溶液(3-1)。
[0302]使用NH40H，將所得到的含氟聚合物溶液（3-1)的pH調節為9,接著用400目的濾布 來過濾PH調節后的含氟聚合物溶液(3-1)，得到含有式(al)所表示的源自單體的結構單元 及源自丙烯酸的結構單元的含氟聚合物溶液(C)。該含氟聚合物溶液的固體成分濃度為25 質量％。
[0303] <合成例4>
[0304]向內容積2500ml的帶有不銹鋼制攪拌機的耐壓反應器中加入590g的二甲苯、170g 的乙醇、74g的EVE、124g的CHVE、155g的HBVEUlg的碳酸鈣及3.5g的PBPV，通過基于氮的脫 氣來去除液體中的溶解氧。接著，加入924g的CTFE，緩慢升溫，一邊將反應溫度維持為65°C， 一邊持續反應。10小時后，對反應器進行水冷來停止反應。將該反應液冷卻至室溫之后，清 除未反應單體，將所得到的反應液用硅藻土進行過濾，以去除固形物。接著，通過減壓餾去 來去除二甲苯的一部分和乙醇，得到表1中所記載的含有單體單元的含氟聚合物溶液(4-1)。該含氟聚合物溶液的固體成分濃度為60%。
[0305] 代替LUMIFL0N薄片而使用含氟聚合物溶液(4-1)，除此以外，與合成例1-2及1-3同 樣地進行操作，得到含氟聚合物溶液(D)，所述含氟聚合物溶液(D)含有式(al)所表示的源 自單體的結構單元70摩爾％、式(a2)所表示的源自單體的結構單元18摩爾％、式(a3)所表 示的源自單體的結構單元11摩爾％及下述表1中未表示的琥珀酸酐酯的中和物即式(a4)所 表示的結構單元1摩爾％。該含氟聚合物溶液的固體成分濃度為50%。
[0306] 將原料成分與各原料的酯化前的混合比示于下述表1。
[0308] [實施例1]
[0309] <易粘接層的層疊>
[0310] 在作為用作基材的環狀烯烴類樹脂薄膜的ARTON D4540( JSR Corporation制，膜 厚40μπι)的一表面上，在8kJ/m2的條件下進行電暈放電處理。對基材的進行了電暈放電處理 的一側的表面，以干燥后的膜厚成為70nm的方式涂布以下述表2所示的組合來混合各成分 而得到的易粘接層用涂布液，并在60°C下干燥1分鐘，從而得到形成有易粘接層的帶易粘接 層的薄膜。
[0311] <層六與感光材料層(乳劑層)的層疊>
[0312](層A;防光暈(AH)層）
[0313]制備相對于明膠100g而言含有下述固體分散染料A 84g的涂布液(層A形成用涂布 液）。另外，另行進行實驗而測定的水相對于層A(AH層)的接觸角為52度。
[0314] ?固體分散染料A
[0315][化學式 14]
[0316]
[0317] 消化銀乳劑的制備）
[0318] 向保持為38°C、pH4.5的下述液體1，一邊攪拌一邊經20分鐘同時加入相當于下述 液體2及液體3的各90%的量，在混合液中形成0.16μπι的核粒子。接著，向所得到的混合液中 經8分鐘加入下述液體4及液體5，進而經2分鐘加入下述液體2及液體3的余量的10 %的量， 使核粒子生長至〇. 2 Ιμπι。進而，向其中加入碘化鉀0.15g之后，熟化5分鐘，并結束粒子形成。
[0319] 液體 1: 水 750ml 明膠 8.6g
[0320] 氯化鈉 3g 1，3-二甲基咪唑烷-2-硫酮 20mg 苯硫代磺酸鈉 IOmg
[0321] 檸檬酸 0· 7g
[0322] 液體 2:
[0323] 水 300ml
[0324] 硝酸銀 150g
[0325] 液體 3: 水 300ml 氯化鈉 38g
[0326] 溴化鉀 32g 六氯銥（m)酸鉀（0. 005%KC1 20%水溶液） 5ffil 六氯銠酸銨（0. 001%NaCl 20%水溶液） 7ml
[0327] 液體 4:
[0328] 水 100mL
[0329] 硝酸銀 50g
[0330] 液體 5: 水 100ml 氯化鈉 13g
[0331] 溴化鉀 Ilg 黃血鹽 Smg
[0332] 其后，按照常規方法，通過絮凝法進行水洗。具體而言，將粒子形成后的溶液的溫 度下降至35°C，并使用硫酸使pH下降直至粒子(鹵化銀)沉降(pH在3.6 ± 0.2的范圍）。
[0333] 接著，去除約3升上清液(第一水洗）。進而，加入3升蒸餾水之后，加入硫酸直至鹵 化銀沉降。再次去除3升上清液(第二水洗）。進一步重復一次與第二水洗相同的操作(第三 水洗)來得到乳劑。（將包含第一水洗至第三水洗的工序也稱作"水洗/脫鹽工序"。）
[0334] 將水洗/脫鹽工序后的乳劑調整為pH6.4、pAg7.5，向其中加入明膠2.5g、苯硫代磺 酸鈉 IOmg、苯硫代亞磺酸鈉3mg、硫代硫酸鈉15mg及氯金酸IOmg，并在55 °C下實施化學敏化， 以得到最佳靈敏度。接著，向其中加入作為穩定劑的1，3，3a，7-四氮茚IOOmg、作為防腐劑的 PROXEL(商品名，ICI Co. ,Ltd.制）100mg。
[0335] 最終得到的乳劑為含有碘化銀0.08摩爾％且氯溴化銀的比率為氯化銀70摩爾％、 溴化銀30摩爾％的、平均粒徑0.22μπι、變動系數9%的碘氯溴化銀立方體粒子乳劑。
[0336](感光材料層形成用組合物的制備）
[0337] 向上述乳劑中添加1，3，3a，7-四氮茚1.2 X HT4摩爾/摩爾Ag、對苯二酚1.2 X 10一2 摩爾/摩爾Ag、檸檬酸