專利名稱：具有表面紋路的研磨墊的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種具有表面紋路的研磨墊，具體而言，涉及一種具有孔洞以儲存研磨 漿液的研磨墊。
背景技術：
拋光一般指化學機械研磨(CMP)制程中，對于初為粗糙表面的磨耗控制，其利用含 研磨粒子的研磨漿液平均分散于一研磨墊的上表面，同時將一待拋光物件抵住所述研磨 墊后以重復規律動作搓磨。所述待拋光物件是諸如半導體、儲存媒體基材、集成電路、 LCD平板玻璃、光學玻璃與光電面板等物體。為了維持所述研磨漿液的分布與流動，和 化學機械研磨后的平坦化和研磨效率，所述研磨墊的上表面上通常會開設有復數個溝槽 或形成一表面紋路。因此，所述研磨墊對于所述待拋光物件的拋光效果，易受到所述溝 槽或所述表面紋路的影響。
參考圖l，顯示中國臺灣公告第504429號專利所揭示的具有表面紋路的研磨墊的俯 視示意圖。所述研磨墊1的表面紋路包括復數個同心的圓形溝槽U，其中所述圓形溝槽 ll的深度和寬度是根據所需而設計。所述研磨墊l的缺點為研磨過程中所產生的雜質不 易快速地離開所述研磨墊l,因而影響研磨精度和所述研磨墊l的使用壽命。
參考圖2，顯示中國臺灣公告第562716號專利所揭示的具有表面紋路的研磨墊的俯 視示意圖。所述研磨墊2的表面紋路包括復數個放射狀的溝槽21，其中所述放射狀的溝 槽21連接所述研磨墊2的中心22和所述研磨墊2的邊緣23。所述研磨墊2的優點為研磨過 程中所產生的雜質容易快速地離開所述研磨墊2，但是其缺點為研磨漿液內的研磨粒子 也快速地離開所述研磨墊2，因而影響研磨精度和所述研磨墊2的使用壽命。
因此，有必要提供一種創新且具進步性的具有表面紋路的研磨墊，以解決上述問題。
發明內容
本發明的主要目的在于提供一種具有表面紋路的研磨墊，其包括一表面紋路，所述 表面紋路位于所述研磨墊的一拋光面上，所述表面紋路包括至少一第一溝槽、至少一第 二溝槽和復數個孔洞。所述第二溝槽連接到所述研磨墊邊緣，且所述第一溝槽和所述第 二溝槽交錯而形成復數個交錯點。所述孔洞位于所述交錯點上，且所述孔洞的深度大于 所述第一溝槽的深度。
藉此，所述第二溝槽可使懸浮于研磨漿液的雜質快速地離開所述研磨墊，而所述孔 洞則可以儲存研磨漿液以延長所述研磨漿液內的研磨粒子離開所述研磨墊的時間。
圖1顯示中國臺灣公告第504429號專利所揭示的具有表面紋路的研磨墊的俯視示意
圖2顯示中國臺灣公告第562716號專利所揭示的具有表面紋路的研磨墊的俯視示意
圖3顯示本發明實例1的研磨墊的俯視示意圖； 圖4顯示本發明實例2的研磨墊的俯視示意圖； 圖5顯示本發明實例3的研磨墊的俯視示意圖6顯示本發明實例4的研磨墊的俯視示意圖； 圖7顯示本發明實例5的研磨墊的俯視示意圖；和
圖8顯示本發明實例6的研磨墊的俯視示意圖。
具體實施例方式
本發明提供一種具有表面紋路的研磨墊，所述研磨墊應用于化學機械研磨(CMP)制 程中對一待拋光物件進行研磨或拋光。所述待拋光物件包括但不限于半導體、儲存媒體 基材、集成電路、LCD平板玻璃、光學玻璃與光電面板等物體。
本發明具有表面紋路的研磨墊包括一表面紋路，所述表面紋路位于所述研磨墊的--拋光面上，所述表面紋路包括至少一第一溝槽、至少一第二溝槽和復數個孔洞。在一優 選實施例中，所述第一溝槽由俯視觀看為包括復數圈不同半徑的圓形溝槽且所述圓形溝 槽為同心，然而所述第一溝槽由俯視觀看還可以是復數圈不同邊長的方形溝槽且所述方 形溝槽為同心，或是所述第一溝槽還可以是一螺旋狀溝槽或是其它形狀的溝槽。
所述第二溝槽由所述研磨墊的一中央部延伸到所述研磨墊的一邊緣，且所述第一溝 槽和所述第二溝槽交錯而形成復數個交錯點。優選地，所述第二溝槽由俯視觀看為復數 條放射狀的溝槽，每一第二溝槽可以是直線狀溝槽或是弧狀溝槽。所述孔洞位于所述交 錯點上，且所述孔洞的深度大于所述第一溝槽和所述第二溝槽的深度。藉此，所述第二 溝槽可使懸浮于研磨漿液的雜質快速地離開所述研磨墊，而所述孔洞則可以儲存研磨漿 液以延長所述研磨漿液內的研磨粒子離開所述研磨墊的時間。
現以下列實例予以詳細說明本發明，但并不意味本發明僅局限于這些實例所揭示的 內容。
實例l:
參考圖3，顯示本發明實例l的研磨墊的俯視示意圖。本實例的研磨墊3的表面紋路 包括復數個第一溝槽31、復數個第二溝槽32和復數個孔洞33。所述第一溝槽31由俯視觀 看為復數圈不同半徑的圓形溝槽，且所述圓形溝槽為同心。所述第二溝槽32為復數條放 射狀的溝槽，每一第二溝槽32為直線狀溝槽且由所述研磨墊3的一中央部延伸到所述研 磨墊3的邊緣34。所述第一溝槽31和所述第二溝槽32交錯而形成復數個交錯點。所述孔 洞33位于所述交錯點上，且所述孔洞33的深度大于所述第一溝槽31和所述第二溝槽32的 深度。
實例2:
參考圖4，顯示本發明實例2的研磨墊的俯視示意圖。本實例的研磨墊4的表面紋路 包括復數個第一溝槽41、復數個第二溝槽42和復數個孔洞43。所述第一溝槽41為復數個 同心圓形溝槽。所述第二溝槽42為復數條放射狀的溝槽，每一第二溝槽42為直線狀溝槽 且由所述研磨墊4的一中央部延伸到所述研磨墊4的邊緣44。所述第一溝槽41和所述第二 溝槽42交錯而形成復數個交錯點。所述孔洞43位于所述交錯點上，且所述孔洞43的深度 大于所述第一溝槽41和所述第二溝槽42的深度。本實例的研磨墊4的表面紋路與所述實 例1的研磨墊3的表面紋路的不同處僅在于，所述研磨墊4最內圈的第一溝槽411并未與所 述第二溝槽42交錯。
實例3:
參考圖5，顯示本發明實例3的研磨墊的俯視示意圖。本實例的研磨墊5的表面紋路 包括復數個第一溝槽51、復數個第二溝槽52、復數個第一孔洞53和復數個第二孔洞55。 所述第一溝槽51為復數個同心圓形溝槽。所述第二溝槽52為復數條放射狀的溝槽，每一 第二溝槽52為直線狀溝槽且由所述研磨墊5的-一中央部延伸到所述研磨墊5的邊緣54。所 述第一溝槽51和所述第二溝槽52交錯而形成復數個交錯點。所述第一孔洞53位于所述交 錯點上，且所述第一孔洞53的深度大于所述第一溝槽41和所述第二溝槽42的深度。所述 第二孔洞55位于所述第二溝槽52上但是不在所述交錯點的位置，且所述第二孔洞55的深 度與所述第一孔洞53的深度相同。
實例4:
參考圖6，顯示本發明實例4的研磨墊的俯視示意圖。本實例的研磨墊6的表面紋路 包括復數個第一溝槽61、復數個第二溝槽62和復數個孔洞63。所述第一溝槽61以俯視觀 看為復數圈不同邊長的方形溝槽，且所述方形溝槽為同心。所述第二溝槽62為復數條放 射狀的溝槽，每一第二溝槽62為直線狀溝槽且由所述研磨墊6的一中央部延伸到所述研
磨墊6的邊緣64。所述第一溝槽61和所述第二溝槽62交錯而形成復數個交錯點。所述孔 洞63位于所述交錯點上，且所述孔洞63的深度大于所述第一溝槽61和所述第二溝槽62的深度。
實例5:
參考圖7，顯示本發明實例5的研磨墊的俯視示意圖。本實例的研磨墊7的表面紋路 包括一第-一溝槽71、復數個第二溝槽72和復數個孔洞73。所述第一溝槽71以俯視觀看為 一螺旋狀溝槽。所述第二溝槽72為復數條放射狀的溝槽，每一第二溝槽72為直線狀溝槽 且由所述研磨墊7的 一 中央部延伸到所述研磨墊7的邊緣74。所述第一溝槽71和所述第二 溝槽72交錯而形成復數個交錯點。所述孔洞73位于所述交錯點上，且所述孔洞73的深度 大于所述第一溝槽71和所述第二溝槽72的深度。
實例6:
參考圖8，顯示本發明實例6的研磨塾的俯視示意圖。本實例的研磨墊8的表面紋路 包括復數個第一溝槽81、復數個第二溝槽82和復數個孔洞83。所述第一溝槽81為復數個 同心圓形溝槽。所述第二溝槽82為復數條放射狀的溝槽，每一第二溝槽82為弧狀溝槽且 由所述研磨墊8的一中央部延伸到所述研磨墊8的邊緣84。所述第一溝槽81和所述第二溝 槽82交錯而形成復數個交錯點。所述孔洞83位于所述交錯點上，且所述孔洞83的深度大 于所述第一溝槽81和所述第二溝槽82的深度。
但上述實施例僅為說明本發明的原理和其功效，而非用以限制本發明。因此，所屬 領域的技術人員可在不違背本發明的精神的情況下對上述實施例進行修改和變化。本發 明的權利范圍應如所附的權利要求書所列。
權利要求
1.一種具有表面紋路的研磨墊，包括一表面紋路，所述表面紋路包括至少一第一溝槽；至少一第二溝槽，由所述研磨墊的一中央部延伸到所述研磨墊的一邊緣，且所述第一溝槽和所述第二溝槽交錯而形成復數個交錯點；和復數個孔洞，位于所述交錯點上，且所述孔洞的深度大于所述第一溝槽的深度。
2. 根據權利要求l所述的研磨墊，其中所述第一溝槽由俯視觀看為包括復數圈不同半 徑的圓形溝槽，且所述圓形溝槽為同心。
3. 根據權利要求l所述的研磨墊，其中所述第一溝槽由俯視觀看為包括復數圈不同邊 長的方形溝槽，且所述方形溝槽為同心。
4. 根據權利要求l所述的研磨墊，其中所述第一溝槽由俯視觀看為一螺旋狀溝槽。
5. 根據權利要求l所述的研磨墊，其中所述第二溝槽由俯視觀看為包括復數條放射狀 的溝槽。
6. 根據權利要求5所述的研磨墊，其中每一所述第二溝槽為一直線溝槽。
7. 根據權利要求5所述的研磨墊，其中每一所述第二溝槽為一弧狀溝槽。
8. —種具有表面紋路的研磨墊，包括一表面紋路，所述表面紋路包括復數圈不同半徑的圓形溝槽，所述圓形溝槽為同心；復數條放射狀溝槽，由所述研磨墊的一中央部延伸到所述研磨墊的一邊緣，且所述圓形溝槽和所述放射狀溝槽交錯而形成復數個交錯點；和復數個第一孔洞，所述第一孔洞位于所述交錯點上，且所述第一孔洞的深度大于所述圓形溝槽的深度。
9. 根據權利要求8所述的研磨墊，
10. 根據權利要求8所述的研磨墊，
11. 根據權利要求8所述的研磨墊， 形溝槽t。其中每--所述放射狀溝槽為一直線溝槽。 其中每一 所述放射狀溝槽為 一 弧狀溝槽。 更包括復數個第二孔洞，所述第二孔洞位于所述圓
全文摘要
本發明涉及一種具有表面紋路的研磨墊，所述表面紋路位于所述研磨墊的一拋光面上，所述表面紋路包括至少一第一溝槽、至少一第二溝槽和復數個孔洞。所述第二溝槽由所述研磨墊的一中央部延伸到所述研磨墊的邊緣，且所述第一溝槽和所述第二溝槽交錯而形成復數個交錯點。所述孔洞位于所述交錯點上，且所述孔洞的深度大于所述第一溝槽的深度。藉此，所述第二溝槽可使懸浮于研磨漿液的雜質快速地離開所述研磨墊，而所述孔洞則可以儲存研磨漿液以延長所述研磨漿液內的研磨粒子離開所述研磨墊的時間。
文檔編號B24B29/00GK101100048SQ20061009017
公開日2008年1月9日 申請日期2006年7月3日 優先權日2006年7月3日
發明者馮崇智, 姚伊蓬, 宋坤政, 趙征祥 申請人:三芳化學工業股份有限公司