藥物合成裝置的制作方法

本發明涉及一種藥物合成裝置，尤其是一種具有清潔功能的藥物合成裝置。

背景技術：

藥物合成過程中如果混入雜質將會嚴重影響藥物質量而達不到藥物質量標準，藥物還包括放射性藥物，在放射性藥物合成過程中，放射性射線將會危害環境或操作人員的健康，為解決藥物合成過程中被污染的問題和防止放射性藥物的危害，目前常用的方法是在密閉的具有一定清潔度的環境中完成藥物的合成過程。

一般情況下，提供該密閉環境的密閉裝置具有放入原料或取出藥物的開口部，在藥物合成過程中外部的雜質會通過開口部和密閉裝置的間隙進入該密閉環境中，從而會污染合成的藥物；同樣的，藥物/放射性物質/雜質會通過開口部和密閉裝置的間隙滲出該密閉環境，一方面會造成藥物的損失，另一方面滲出的藥物/放射性物質可能會危害環境或操作人員的健康，滲出的異物可能會影響環境的清潔度，目前尚未發現有針對提高藥物合成清潔度并防止藥物泄露至藥物合成室以外的技術。

技術實現要素：

本發明的目的在于提供一種藥物合成裝置，所述藥物合成裝置一方面通過抑制藥物合成裝置外部的雜質進入所述藥物合成裝置內從而有效提高合成藥物的清潔度；另一方面有效抑制藥物從藥物合成裝置擴散出去，不僅能夠降低藥物的損失，還可以防止擴散出去的藥物/放射性物質對環境和操作人員造成危害。

為了實現上述目的，本發明提供了一種藥物合成裝置，所述藥物合成裝置包括正壓室和負壓室，其中正壓室是由相互連接的壁構成的箱體，所述正壓室的正面壁上設置有第一開口部，所述正壓室的內部設置有用于合成和容納藥物的藥物合成組件，所述正壓室的內部具有高于大氣壓的第一氣壓；負壓室位于正壓室的外部，并且至少覆蓋第一開口部，所述負壓室內具有低于第一氣壓的第二氣壓，正壓室內的氣體通過壓力差進入負壓室。

其中，藥物合成過程發生在所述正壓室內，正壓室具有高于大氣壓的第一氣壓，因此可以抑制所述藥物合成裝置外部的雜質進入正壓室內，從而避免了雜質對藥物的污染；所述負壓室至少覆蓋第一開口部，相對于外部環境中的雜質可以直接接觸第一開口部與正面壁之間的縫隙而有可能直接進入正壓室內，負壓室一方面起到阻擋雜質的第一屏障的作用，另一方 面，可以通過控制負壓室內的第二氣壓以增加第一氣壓和第二氣壓之間的壓力差，以增加縫隙中存在的雜質進入負壓室的壓力，從而更進一步地避免了藥物合成過程中受到污染。負壓室除了可以僅覆蓋第一開口部而阻止雜質從第一開口部與正面壁之間的縫隙進入正壓室外，本領域技術人員熟知地，負壓室被這樣的設置：一方面能夠避免將正壓室內的雜質擴散到外部環境；另一方面避免將外部環境的雜質滲入到正壓室。因此，負壓室還可以作為一個連通的結構覆蓋正壓室其他有縫隙的地方，甚至可以根據實際應用的需要，負壓室全包圍整個正壓室。

進一步地，所述正壓室和負壓室之間設置有一個鄰接于所述正面壁的獨立空間，正壓室內的氣體通過所述獨立空間進入負壓室內。

所述獨立空間有繼負壓室作為第一屏障后更進一步地阻擋藥物合成裝置外部雜質進入所述正壓室的第二屏障的作用，所述獨立空間內的氣壓可以為第一氣壓，也可以為高于第二氣壓但低于第一氣壓的第三氣壓，由此可以抑制外界的雜質通過壓力差進入正壓室內，從而避免了藥物合成過程中受到污染。所述獨立空間靠近負壓室并和所述正面壁平行的壁上設置第二開口部，所述第二開口部不僅可以用來向正壓室放入原料或從正壓室取出藥物，也可以使正壓室流入所述獨立空間的氣體根據獨立空間和負壓室的壓力差通過第二開口部和與其鄰接的壁之間的縫隙流入負壓室。

更進一步地，所述藥物合成裝置中，所述正壓室具有排氣口，用于排出正壓室內的氣體，以避免正壓室內壓力過大而降低設備使用期限，需要說明的是，雖然正壓室具有排氣口，但是正壓室內仍需要維持高于大氣壓的第一氣壓。

優選的是，所述藥物合成裝置中，所述正壓室具有：

升壓機構，用于增加正壓室內部的壓力；和

第一過濾器，用于凈化升壓機構注入正壓室的氣體。

其中升壓機構具有使所述正壓室維持高于大氣壓的第一氣壓的作用，為了避免藥物合成過程中藥物被由升壓機構注入正壓室的氣體污染，在氣體被注入正壓室之前需要通過第一過濾器除去雜質達到一定的潔凈級別后再注入正壓室。

優選的是，所述藥物合成裝置中，所述正壓室的排氣口上連接有限壓閥和第二過濾器，限壓閥用于控制正壓室內的壓力，在維持正壓室內的第一氣壓高于大氣壓的同時，降低第一氣壓對正壓室結構的損害；而第二過濾器用于過濾通過限壓閥排出的氣體，避免藥物顆粒從所述排氣口排出藥物合成裝置而污染環境或對操作人員造成危害，并且第二過濾器過濾下來的藥物可以通過物理或化學的處理繼續利用，降低藥物的流失。

優選的是，所述藥物合成裝置中，所述負壓室具有減壓機構和與減壓機構連接的第三過濾器，所述減壓機構包括氣體減壓閥、抽氣泵或排氣用的鼓風機，用以使負壓室的第二氣壓低于正壓室內的第一氣壓，第三過濾器用于過濾通過減壓機構排出的氣體。

負壓室上與減壓機構連接的第三過濾器可以過濾滲入負壓室內的藥物，防止藥物泄露至藥物合成裝置外部，并且所述第三過濾器過濾下的藥物顆粒可以通過二次回收而降低藥物的流失，減少浪費。

其中優選的是，所述藥物合成裝置中，所述第二氣壓低于大氣壓，當第二氣壓高于第一氣壓時可以使負壓室內的氣體向藥物合成裝置外部流動，避免雜質通過負壓室進入正壓室；當第二氣壓低于第一氣壓時，正壓室和負壓室的壓力差變大，能更好的抑制雜質從負壓室進入正壓室污染藥物。

優選的是，所述藥物合成裝置中，所述正壓室的排氣口與負壓室連通，使正壓室與負壓室共用一個減壓機構，用以將正壓室內的氣體排放到負壓室內。正壓室內的氣體分別經過位于正壓室排氣口處的第一過濾器第一次過濾和經過位于負壓室第二過濾器的第二次過濾使排出藥物合成裝置的氣體更純凈，提高藥物的二次回收程度。

優選的是，所述藥物合成裝置中，所述正壓室的排氣口位于負壓室外部，使正壓室與負壓室設置有相互獨立的減壓機構，用以分別將正壓室和負壓室內的氣體排放出去。獨立的排氣途徑和減壓機構可以使所述藥物合成裝置的維修更加方便。

優選的是，所述藥物合成裝置中，構成所述正壓室的相互連接壁包括正面壁、背面壁、左側壁、右側壁、頂壁和底壁，其中正面壁和背面壁分別與頂壁、右側壁、底壁和左側壁相連；所述負壓室覆蓋所有構成所述正壓室的相互連接的壁。本領域技術人員熟知地，負壓室也可以只覆蓋上述六壁中的至少兩個壁。

當負壓室覆蓋所有構成所述正壓室的相互連接的壁時，能夠避免在正壓室內的壓力小于或等于大氣壓時，藥物合成裝置外部的雜質從所述相互連接的壁之間的縫隙進入正壓室而污染正壓室內的藥物，起到進一步凈化的作用。

優選的是，所述藥物合成裝置中，構成所述正壓室或所述負壓室的壁由能夠抑制放射性射線穿透的放射線屏蔽材料組成。合成放射性藥物時除了需要通過過濾器抑制放射性藥物顆粒滲出藥物合成裝置外，還需要抑制正壓室內的放射性藥物的射線穿透藥物合成裝置的壁而對周圍環境造成危害，而用放射線屏蔽材料做正壓室或負壓室的壁可以有效的解決放射性射線泄露的問題。

本發明通過正壓室和負壓室室內的壓力差來實現凈化藥物合成環境的效果，并且通過分 別在正壓室的排氣口和負壓室的減壓閥處設置過濾器來實現藥物顆粒的二次回收，在防止藥物或放射性物質泄露造成環境污染的同時還能降低藥物的流失。本發明提供的技術方案可以有效的解決現有技術中藥物合成過程中容易出現藥物泄露以及藥物污染的問題。

附圖說明

圖1為藥物合成裝置的側面剖視示意圖。

圖2為藥物合成裝置的正面剖視示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明進一步描述，應當理解，下文中的描述僅為說明性的，而非限制性的。

如圖1和圖2所示，所述藥物合成裝置包括有正壓室100、負壓室200和位于正壓室和負壓室中間的獨立空間300，正壓室100是由相互連接的壁120構成的箱體，用以作為藥物合成的空間，這些相互連接的壁120分別為正面壁155、背面壁157、左側壁154、右側壁152、頂壁151和底壁153，其中正面壁155上有第一開口部156。所述箱體內部可以根據需要由透氣的材料隔斷成不同的空間以充分利用該箱體合成藥物，每個空間里可以根據需要設置有藥物合成組件130用以提供藥物合成的環境。正壓室100內具有高于大氣壓的第一氣壓，為了維持正壓室100內的氣壓，在本實施例的技術方案中，正壓室具有升壓機構111和第一過濾器112，其中升壓機構111用以對所述正壓室100進行加壓以維持正壓室100內高于大氣壓的第一氣壓，第一過濾器112用于過濾升壓機構111注入正壓室100內的氣體，以維持正壓室100內的潔凈級別。與升壓機構111相對應，正壓室還具有排氣口140，排氣口140上有限壓閥141和第二過濾器142，其中，限壓閥141和第二過濾器142的位置可以根據實際應用進行調換。排氣口140的作用是通過限壓閥141使正壓室內維持一定壓力，當正壓室100內壓力過大時，排氣口140上的限壓閥141可以排放部分氣體，以提高藥物合成裝置的使用期限，排氣口140上的第二過濾器142具有收集限壓閥141排出的氣體里的藥物的作用，一方面防止藥物130泄露至藥物合成裝置外部的環境中對環境的污染，另一方面，第二過濾器142過濾下來的藥物通過二次回收可以防止藥物的流失。另外，通過正壓室正面壁155上的第一開口部156可以向正壓室100內放入合成藥物的原料或從正壓室內取出已經合成的藥物。正壓室100外部的雜質可能通過正壓室正面壁155與第一開口部156之間的縫隙以及構成正壓室的相互連接的壁120之間的縫隙進入正壓室，但是正壓室具有高于外部氣壓的第一氣壓，因此，即便正壓室存在如上所述的縫隙，正壓室外部的雜質也不會通過所述縫隙進入正壓室內污染藥物合成環境。

為了防止雜質通過正壓室的相互連接的壁120之間的縫隙進入正壓室100，本實施例中負壓室200不僅覆蓋了第一開口部156，而且包圍了整個正壓室100，也就是說負壓室200覆蓋了構成正壓室100的六個壁120；在負壓室200作為正壓室100的屏障使用之前可以先對負壓室200進行凈化，除去其中雜質，當負壓室200內的雜質濃度低于外部環境雜質的濃度時，負壓室200首先起到了凈化正壓室100內部環境的屏障的作用；負壓室200具有減壓機構211和第三過濾器212，減壓機構211和第三過濾器212的位置可以根據實際應用的需要進行更換，其中減壓機構211用于使負壓室內的第二氣壓低于正壓室內的第一氣壓，優選地，減壓機構211使第二氣壓低于大氣壓以增加正壓室100和負壓室200之間的壓力差，從而更好的避免了雜質通過上述縫隙進入正壓室100內。構成負壓室200連通空間的壁可以是獨立于正壓室和獨立空間以外的壁，也可以直接利用正壓室和獨立空間的壁作為負壓室壁的一部分。另外，位于正壓室和負壓室中間的獨立空間300起到類似于負壓室的屏障的作用。

本實施例的技術方案中正壓室的排氣口140和負壓室200連通，從正壓室排氣口140排出的氣體可以經過負壓室中與減壓機構211連接的第三過濾器212再次過濾，進一步避免了正壓室內的藥物隨著氣流排出藥物合成裝置。正壓室的排氣口140也可以根據實際應用的需要設置在負壓室200外部(省略圖示)。

藥物合成裝置合成放射性藥物時，除了需要通過三個過濾器過濾放射性藥物顆粒以避免放射性藥物擴散到空氣中對環境造成危害外，還需要用放射線屏蔽材料作為正壓室、獨立空間或負壓室的壁，以避免放射性射線透過藥物合成裝置對環境或操作人員造成危害。

本發明通過提供一個具有第一氣壓的正壓室以及可以操控其內部氣壓以使其內部氣壓低于第一氣壓的負壓室來為藥物合成提供一個更加潔凈的環境，并通過分別位于正壓室和負壓室上的三個過濾器過濾排出的氣體中的藥物，以免藥物污染藥物合成裝置外部的環境。

本發明揭示的藥物合成裝置并不局限于以上實施例所述的內容以及附圖所表示的結構。在本發明的基礎上對其中構件的材料、形狀及位置所做的顯而易見地改變、替代或者修改，都在本發明要求保護的范圍之內。