基板旋轉裝置的制作方法

本實用新型涉及一種基板旋轉(spinning)裝置，更為詳細地涉及一種基板旋轉裝置，所述基板旋轉裝置能夠防止基板的變形及損傷并提升清洗均勻度。

背景技術：

通過在晶元等的基板上進行蒸鍍工藝、光刻工藝、蝕刻工藝等多項工藝來制成半導體元件。并且，在進行所述工藝之后，進行對殘留于基板上的不必要的薄膜、粒子等異物進行去除的清洗工藝。

尤其，結束化學機械研磨工藝的基板因為表面殘留有很多異物，所以為了去除異物而進行多步驟的清洗工藝，其中，正在探索能夠對基板的上面和下面同時進行清洗的方案。

例如，用于刷式(brush)清洗裝置的基板旋轉裝置1的構成如圖1及圖2所示，所述刷式清洗裝置通過清洗刷子(brush)99同時對圓形盤(disc)形狀的基板W的上面和下面進行接觸清洗。換句話說，基板旋轉裝置1如果得到圓形盤形狀的基板W的供給，則使得固定一對A1、A2的驅動支撐體10、20的支撐架(未示出)中的任意一個進行移動，從而在將基板W收納至驅動支撐體10、20的接觸支撐體15、25的狀態下，對接觸支撐體15進行旋轉驅動，從而使得基板W進行水平旋轉。

在基板水平旋轉的同時，能夠向旋轉的同時接觸于基板的表面的刷子99供給清洗液及藥液等，同時去除殘留于基板W的表面的異物。

通常，基板旋轉裝置1的驅動支撐體10、20形成為三個以上，并且驅動支撐體10、20中的一部分作為對基板W進行旋轉驅動的驅動支撐體10而設置，剩余的其他部分作為對基板W的旋轉數進行測量的空轉輪(idler)支撐體20而設置。

如圖3所示，驅動支撐體10包括：驅動旋轉軸12，其通過驅動馬達M得到旋轉驅動，且在上、下側通過軸承(bearing)12b得到旋轉支撐；中空殼體(housing)13，其包裹驅動旋轉軸12的外圍；接觸支撐體15，其結合于驅動旋轉軸12的上端部，從而對基板W進行支撐。

接觸支撐體15結合于驅動旋轉軸12，從而與驅動旋轉軸12共同進行旋轉。如圖3及圖4所示，接觸支撐體15可分割形成為多個支撐體15a、15b、15b，并且通過連接螺栓(bolt)77x、78x、79x得以結合。根據情況的不同，接觸支撐體也能夠只設置為一個主體。保持接觸支撐體15接觸基板W的邊緣位置的狀態，隨著接觸支撐體15得到旋轉驅動，與接觸支撐體15接觸的基板W也同時得到旋轉驅動。

如圖5所示，空轉輪(idler)支撐體20也包括：驅動旋轉軸22，其上、下側通過軸承(bearing)22b得到旋轉支撐；中空殼體23，其包裹驅動旋轉軸22的外圍；接觸支撐體25，其結合于驅動旋轉軸22的上端部，從而對基板W進行支撐。并且，不是驅動馬達連接于驅動旋轉軸22，而是對旋轉數進行感知的編碼器(encoder)等傳感器S連接設置于驅動旋轉軸22，從而對與空轉輪接觸支撐體25共同進行旋轉的驅動旋轉軸22的旋轉數進行測量，進而對基板W的旋轉數進行感知。

另外，在現有旋轉裝置1中，為了通過刷子99得以實現基板W的清洗均勻度，在刷子99接觸于基板W的期間，基板W應能夠以沒有變形且保持水平配置的狀態進行旋轉。

換句話說，由于制造公差或組裝誤差等而相面對地進行配置的支撐體(驅動支撐體或空轉輪支撐體)接觸于基板W的接觸應力不相同的情況下，基板W的特定部位(例如，中央部)以朝上部或下部凸出的變形的狀態進行旋轉。如上所述，在以基板W變形的狀態進行旋轉的期間刷子99接觸于基板W的表面，則按照基板W的變形量而刷子99接觸的接觸面積及接觸壓力在基板W的各部位均不同，由此存在如下問題：難以實現通過刷子99在基板W的表面進行整體上均勻地清洗，并且無法準確地計算基板W的清洗量。

具體地，參照圖6，在各支撐體以40psi的接觸壓力支撐基板W的條件下，在從基板W的中心間隔40mm的地點利用位移傳感器測量基板W的表面高度的結果，可知產生大約0.3mm的高度偏差。如上所述，在基板W的表面高度產生偏差的條件(變形的狀態)下，刷子99接觸于基板W的表面，則按照基板W的表面高度偏差而刷子99接觸的接觸面積及接觸壓力在基板W的各部位均不同，由此存在如下問題：難以實現通過刷子99在基板W的表面進行整體上均勻地清洗，并且無法準確地算出基板W的清洗量。

由此，最近雖然存在針對基板的防止由于接觸壓力偏差而產生基板變形且用于提供基板的清洗均勻度的多種研究，但是仍存在不足，從而需要對其進行開發。

技術實現要素：

本實用新型的目的在于提供一種基板旋轉裝置，其能夠防止基板的變形及損傷，并能夠提升清洗均勻度。

尤其，本實用新型的目的在于防止由于支撐部的接觸壓力偏差而產生基板的變形及破損，并得以提升通過清洗刷子的基板的清洗均勻度。

此外，本實用新型的目的在于能夠均衡地控制基板和支撐部接觸壓力，并能夠提升穩定性及信賴性。

此外，本實用新型的目的在于通過對基板正確地控制旋轉，從而利用不過度也不缺乏的適當的清洗量控制清洗工藝并能夠確保清洗的信賴性。

根據用于達成所述的本實用新型的目的的本實用新型的優選的實施例，支撐圓形盤(disc)形狀的基板的同時進行旋轉的基板旋轉裝置，包括：固定支撐部，其固定設置以便支撐基板的邊緣位置一側；可動支撐部，其以可朝與基板接近及分離的方向移動的方式設置并支撐相面對固定支撐部的基板的邊緣位置另一側；位置控制部，其在清洗刷子接觸于基板的表面期間使可動支撐部從基板分離開來并在清洗刷子未接觸于基板的表面期間使可動支撐部接近于基板。

其為，就利用清洗刷子清洗旋轉的基板而言，用于防止在基板變形的狀態下清洗刷子接觸而產生基板的損傷，并防止基板的清洗均勻度下降。

換句話說，本實用新型利用固定支撐部和可動支撐部以可旋轉的方式支撐基板，在清洗刷子接觸于基板的表面期間通過使可動支撐部從基板分離開來，能夠得到如下效果：防止由于可動支撐部和固定支撐部的制造公差或組裝誤差等而產生基板的變形，并防止由于基板的表面高度偏差而產生清洗刷子的清洗均勻地降低。

換句話說，在可動支撐部和固定支撐部從相面對的兩側支撐基板的結構中，由于可動支撐部和固定支撐部的制造公差及組裝誤差等可能在基板產生變形且可能產生表面高度偏差。如上所述，清洗刷子在基板變形的狀態下進行接觸，則按照基板的變形量而清洗刷子接觸的接觸面積及接觸壓力在基板的各部位均不同，由此難以實現通過清洗刷子在基板的表面進行整體上均勻地清洗，并無法準確地算出基板的清洗量。但是，本實用新型中在清洗刷子接觸于基板的期間，基板僅僅通過固定支撐部得到支撐并進行旋轉(由于能夠進行朝向可動支撐部的基板的部分移動)，由此防止由于可動支撐部和固定支撐部的制造公差及組裝誤差而產生基板的變形，并能夠預防在基板的表面產生高度偏差。

此外，可動支撐部在從基板分離開來的狀態下，由于通過固定支撐部的接觸應力，和隨著清洗刷子旋轉接觸于基板而作用于基板的水平荷重，從相面對的方向同時作用于基板，由此即便可動支撐部從基板分離開來也能夠穩定地維持基板的水平配置狀態。

另外，本實用新型中根據基板的處理工藝而只在必要時選擇性地使用可動支撐部，相比同時使用固定支撐部和可動支撐部的情況，能夠得到如下有利效果：更加易于控制基板的旋轉，并且能夠降低電力消耗。

并且，通過設置為使得可動支撐部從與通過清洗刷子施加于基板的水平荷重方向相同的方向支撐基板的邊緣位置，能夠得到更加穩定地維持基板的配置狀態的效果。

并且，固定支撐部，包括：第一固定支撐體，其從與由清洗刷子施加于基板的水平荷重方向相面對的方向支撐基板的邊緣位置；第二固定支撐體，其配置為從第一固定支撐體分離開來并從與由清洗刷子施加于基板的水平荷重方向相面對的方向支撐基板的另一邊緣位置。

此時，將第一固定支撐體和第二固定支撐體由用于使基板進行旋轉驅動的驅動支撐體構成，僅僅利用固定支撐部能夠得到使基板以充分條件進行旋轉的效果。根據情況，在第一固定支撐體和第二固定支撐體之中剩余的另一個也能夠用作根據基板的旋轉而進行空轉(idle)旋轉的空轉支撐體。

并且，可動支撐部包括第一可動支撐體和第二可動支撐體之中至少任意一個，所述第一可動支撐體通過清洗刷子在與施加于基板的水平荷重方向相同的方向支撐基板的邊緣位置，所述第二可動支撐體以從第一可動支撐體分離開的方式配置，并通過清洗刷子在與施加于基板的水平荷重方向相同的方向支撐基板的邊緣位置。

此時，通過將第一可動支撐體和第二可動支撐體之中至少任意一個設置為用于使基板進行旋轉驅動的驅動支撐體，能夠得到在清洗刷子未接觸于基板的期間使基板以充分的條件進行旋轉的效果。

并且，固定支撐部和可動支撐部，包括：旋轉軸，其以柱形態直立設置并旋轉；接觸體，其結合于旋轉軸的上端并接觸基板的邊緣位置。

優選地，空轉支撐部設置為可朝與基板接近及分離的方向移動，并且包括彈性部件，所述彈性部件彈性支撐相對于基板的空轉支撐部的移動。如上所述，空轉支撐部通過彈性部件的彈力使得朝與基板接近及分離的方向進行彈性移動，由此能夠得到如下有利效果：抵銷由于空轉支撐部的接觸應力并防止由于空轉支撐部的接觸應力而產生基板變形。

并且，可以包括清洗水噴射部，其在清洗刷子未接觸的期間噴射清洗水于基板的表面。

根據本實用新型的另一優選實施例，支撐圓形盤形狀的基板的同時使基板進行旋轉的基板旋轉裝置，包括：固定支撐部，其固定設置以便支撐基板的邊緣位置一側；空轉支撐部，其以可朝與基板接近及分離的方向移動的方式設置并支撐相面對于固定支撐部的基板的邊緣位置另一側，并通過基板的旋轉進行空轉(idle)旋轉；彈性部件，其彈性支撐相對于基板的空轉支撐部的移動。

如上所述，通過空轉支撐部支撐相面對于固定支撐部的基板的相反側，由此空轉支撐部通過彈性部件的彈力使得朝與基板接近及分離的方向進行彈性移動，能夠得到如下有利效果：抵銷由于空轉支撐部所致的接觸應力，并防止由于空轉支撐部的接觸應力而產生基板變形。

并且，通過固定支撐部支撐基板的一側，并且相面對于固定支撐部的基板的相反側通過空轉支撐部得到支撐，由此即使在清洗刷子未接觸的期間(在清洗水噴射部噴射清洗水的期間)，無需額外的可動支撐部也能得到穩定地維持基板的水平配置狀態的有利效果，并能夠將構造簡化且將設備制作的較為小型。

根據本實用新型的其他領域，支撐圓形盤形態的基板的同時使基板進行旋轉的基板旋轉裝置可進行操作，利用固定支撐部和可動支撐部進行包括如下步驟的操作：基板支撐步驟，其支撐基板；位置控制步驟，其控制相對于基板的可動支撐部的位置，以便保持可動支撐部接觸于基板的狀態或與基板分離，所述固定支撐部固定設置以便支撐基板的邊緣位置一側；所述可動支撐部設置為可朝與基板接近及分離的方向移動并支撐相面對于固定支撐部的基板的邊緣位置另一側。

如上所述，通過控制相對于基板的可動支撐部的位置以便可動支撐部選擇性地維持接觸于基板的狀態或與基板分離，由此能夠根據基板的處理工藝自由地決定是否使用可動支撐部。換句話說，根據基板的處理工藝僅在需要可動支撐部時選擇性地使用可動支撐部，由此相比同時使用固定支撐部和可動支撐部時，能夠得到更加易于控制基板的旋轉的有利效果。

更重要的是，在位置控制步驟中，在清洗刷子接觸于基板的表面期間，使可動支撐部從基板分離開，并在清洗刷子未接觸于基板的表面期間使可動支撐部接近于基板，由此能夠得到如下效果：防止由于可動支撐部和固定支撐部的制造公差或組裝誤差等，并且防止由于基板的表面高度偏差而產生清洗刷子的清洗均衡度降低。

優選地，在基板支撐步驟中，固定支撐部根據與通過清洗刷子施加于基板的水平荷重方向相面對的第一方向支撐基板的邊緣位置一側，并且可動支撐部在與第一方向相面對的第二方向支撐基板的邊緣位置另一側，由此在清洗刷子未接觸于基板的表面期間，即使可動支撐部從基板分離開來，也能夠得到穩定地維持基板的水平配置狀態的效果。

此外，支撐基板的邊緣位置，并包括利用根據基板的旋轉而空轉(idle)旋轉的空轉支撐部并檢測出基板的旋轉數的旋轉數檢出步驟，由此能夠得到如下效果：以適當的清洗量控制清洗工藝而確保清洗的信賴性，并且均衡地控制基板的清洗狀態。

此時，在旋轉數檢出步驟中空轉支撐部彈性地接觸于基板，并根據空轉支撐部的彈性移動而抵銷作用于基板的接觸應力，由此能夠得到如下有利效果：抵銷由于空轉支撐部的接觸應力而防止由于空轉支撐部的接觸應力產生基板變形。

優選地，在旋轉數檢出步驟中空轉支撐部在與通過清洗刷子施加于基板的水平荷重方向相同的方向支撐基板的邊緣位置，由此能夠得到穩定地維持基板的配置狀態的效果。

根據如上所述的本實用新型，能夠防止基板的變形及損傷，并提升清洗均勻度。

尤其，根據本實用新型，利用固定支撐部和可動支撐部可旋轉地支撐基板，從而在清洗刷子接觸于基板的表面期間可動支撐部從基板分離開來，由此能夠得到如下效果：防止由于可動支撐部和固定支撐部的制造公差或組裝誤差而產生基板的變形，并防止由于基板的表面高度偏差而清洗刷子的清洗均勻度降低。

換句話說，可動支撐部和固定支撐部在相面對的兩側支撐基板的構造中，由于可動支撐部和固定支撐部的制造公差及組裝誤差等而能夠產生基板變形且產生表面高度差。如上所述，清洗刷子在基板變形的狀態下接觸，則按照基板的變形量而清洗刷子接觸的接觸面積及接觸壓力在基板的各部位都互不相同，由此難以使通過清洗刷子的清洗整體上均衡地在基板表面實現，并且無法準確地計算基板的清洗量。但是，在本實用新型中的清洗刷子在接觸于基板的期間，因為基板僅通過固定支撐部進行支撐并旋轉，由此防止由于可動支撐部和固定支撐部的制造公差及組裝誤差而產生基板變形，并能夠預防基板的表面產生高度偏差。

另外，本實用新型中的根據基板的處理工藝的可動支撐部僅在必要時選擇性地使用可動支撐部，相比同時使用固定支撐部和可動支撐部時，能夠得到更加易于控制基板的旋轉的有利效果，并能夠得到降低電力消耗的有利效果。

此外，根據本實用新型能夠均衡地控制基板和支撐部的接觸壓力，并準確地控制基板的旋轉條件，從而能夠得到提升穩定性及信賴性的效果。

此外，根據本實用新型能夠得到如下效果：防止由于支撐部的接觸壓力偏差而產生基板的變形及破損，并以不過度也不缺乏的適當的清洗量控制清洗工藝而確保清洗的信賴性，并均衡且一貫地控制基板的清洗狀態。

附圖說明

圖1是示出常規的基板旋轉裝置的構成的立體圖，

圖2是示出使得基板安放于圖1的狀態的平面圖，

圖3是沿著圖1的截斷線Ⅲ-Ⅲ的驅動支撐體的縱截面圖，

圖4是圖3的'A'部分的放大圖，

圖5是圖1的感知支撐體的縱截面圖，

圖6是示出根據圖1的基板旋轉裝置的基板旋轉時晶元的表面高度變形量的圖表，

圖7是用于說明根據本實用新型的基板旋轉裝置的圖，

圖8是用于說明圖7的固定支撐部和可動支撐部的圖，

圖9至圖11是用于說明圖7的可動支撐部的操作構造的圖，

圖12是示出圖7的第一固定支撐體的圖，

圖13是示出圖7的第一可動支撐體的圖，

圖14是用于說明根據本實用新型的另一實施例的基板旋轉裝置的圖，

圖15及圖16是用于說明圖14的可動支撐部的操作構造的圖，

圖17是示出圖14的空轉支撐部的圖，

圖18及圖19是用于說明根據本實用新型的又另一實施例的基板旋轉裝置的圖，

圖20是用于說明根據本實用新型的基板旋轉裝置的操作方法的框圖。

具體實施方式

以下，參照附圖對本實用新型的優選實施例進行詳細說明，但本實用新型并非受到實施例的限制或限定。作為參考，本說明中，相同的標號實質指代相同的要素，在這種規則下，可引用記載于其他附圖的內容進行說明，并且省略對從業人員來說顯而易見或重復的內容。

圖7是用于說明根據本實用新型的基板旋轉裝置的圖，圖8是用于說明圖7的固定支撐部和可動支撐部的圖，圖9至圖11是用于說明圖7的可動支撐部的操作構造的圖。此外，圖12是示出圖7的第一固定支撐體的圖，圖13是示出圖7的第一可動支撐體的圖。

參照圖7至圖12，使得根據本實用新型的使圓形盤(disc)形狀的基板W進行旋轉的基板旋轉裝置10，包括：固定支撐部210，其固定設置以便支撐基板W的邊緣位置一側；可動支撐部240，其以可朝與基板W接近及分離的方向移動的方式設置并支撐相面對于固定支撐部210的基板W的邊緣位置另一側；位置控制部270，其在清洗刷子300接觸于基板W的表面期間使可動支撐部240從基板W分離開來并在清洗刷子300未接觸于基板W的表面期間使可動支撐部240接近于基板W。

固定支撐部210固定設置以便支撐基板W的邊緣位置一側。在此，所謂固定支撐部210支撐基板W的邊緣位置一側，可以理解為基板W的邊緣位置一側直接相接地接觸于固定支撐部210并得到支撐的狀態。

固定支撐部210根據所要求的條件及設計樣式可設置為能夠以多種構造支撐基板W的邊緣位置。作為一個例子，固定支撐部210可設置為包括：第一固定支撐體220，其在與從清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相面對的方向支撐基板W的邊緣位置；第二固定支撐體230，其以從第一固定支撐體220分離開來的方式配置，并在與從清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相面對的方向支撐基板W的另一邊緣位置。根據情況，固定支撐部能夠設置為僅由一個固定支撐體構成或者也能夠設置為包括三個以上的固定支撐體。

參照圖12，第一固定支撐體220和第二固定支撐體230設置為包括：旋轉軸212，其分別以柱形態直立設置并旋轉；接觸體214，其結合于所述旋轉軸212的前端并直接接觸于基板W的邊緣位置。

作為一個例子，所述接觸體214可分割設置為多個接觸支撐體，通過連接螺栓可結合為單一主體形態。根據情況，接觸體能夠設置為僅一個的接觸支撐體，并且接觸支撐體的個數及構造并非限制或限定于本實用新型。

并且，第一固定支撐體220和第二固定支撐體230用作用于使基板W進行旋轉驅動的驅動支撐體。以下，對于將構成所述固定支撐部210的第一固定支撐體220和第二固定支撐體230全部用作用于使基板W進行旋轉驅動的驅動支撐體的例子進行說明。根據情況，第一固定支撐體和第二固定支撐體之中任意一個用作驅動支撐體，第一固定支撐體和第二固定支撐體之中剩余另一個能夠用作通過基板的旋轉進行空轉(idle)旋轉的空轉支撐體。

所述第一固定支撐體220及第二固定支撐體230用作驅動支撐體的情況下，第一固定支撐體220及第二固定支撐體230的旋轉軸212分別通過驅動馬達進行旋轉驅動，各接觸體214能夠與旋轉軸212同時進行旋轉。隨著接觸體214、224的旋轉，以接觸于各接觸體214、224的狀態得到支撐的基板W能夠同時進行旋轉。

可動支撐部240支撐相面對于固定支撐部210的基板W的邊緣位置另一側，并設置為可朝與基板W接近及分離的方向移動。

換句話說，可動支撐部240為了在基板W的一側通過固定支撐部210而支撐的狀態下選擇性地支撐基板W的相反側而設置，沿著朝與基板W接近及分離的方向進行移動，由此能夠選擇性地接觸(支撐)于基板W或者與基板W分離。

在此，所謂可動支撐部240支撐基板W的邊緣位置另一側是指，在與通過清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相同的方向(相面對于固定支撐部210的方向)使基板W的邊緣位置另一側直接相接地接觸于可動支撐部240并得到支撐的狀態。

此外，本實用新型中所謂可動支撐部240支撐基板W的相反側以便相面對于固定支撐部210是指，定義為全部包括如下情況：通過可動支撐部240得到支撐的基板W的支撐位置與通過固定支撐部210得到支撐的基板W的支撐位置配置于相同的水平線上或者配置于相鄰的不同水平線上。

可動支撐部240根據所要求的條件及設計樣式可設置為能夠支撐基板W的邊緣位置的多種構造。作為一個例子，可動支撐部240設置為能夠朝與基板W接近及分離的方向移動并包括第一可動支撐部250和第二可動支撐體260之中至少任意一個，所述第一可動支撐體250選擇性地支撐基板W的邊緣位置，所述第二可動支撐體260配置為從第一可動支撐體250分離開來并在與通過清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相同的方向支撐基板W的邊緣位置。

以下，可動支撐部240設置為僅包括第一可動支撐體250，舉例說明通過第一可動支撐體250、第一固定支撐體220、第二固定支撐體使得基板W以三點支撐方式而支撐的構成。優選地，通過將第一可動支撐體250配置為沿著基板W的圓周方向與第一固定支撐體220及第二固定支撐體230實現等間距地間隔，由此得到僅通過一個第一可動支撐體250就能穩定地支撐基板W的邊緣位置另一側的效果。

第一可動支撐體250根據所要求的條件及設計樣式可設置為以多種方式能夠以朝與基板W接近及分離的方向移動的形式構成。作為一個例子，第一可動支撐體250可設置為通過氣缸、螺線管、馬達等一樣的常規的直線驅動工具而進行直線移動并以朝與基板W接近及分離的方向移動的形式構成。根據情況，也能夠設置為第一可動支撐體及第二可動支撐體以一個地點為基準進行旋轉并朝與基板接近及分離的方向進行移動，或者第一可動支撐體及第二可動支撐體同時進行直線移動及旋轉移動并以朝與基板接近及分離的方向移動的形式構成。

參照圖13，第一可動支撐體250可設置為包括：旋轉軸252，其以柱形態直立設置并進行旋轉；接觸體254，其結合于旋轉軸的前端并直接接觸基板W的邊緣位置。

作為一個例子，第一可動支撐體250的接觸體254可分割設置為多個接觸支撐體254a、254b、254c，并通過連接螺栓可結合為單一主體形態。根據情況，接觸體能夠設置為僅一個的接觸支撐體，并且本實用新型并非通過接觸支撐體的個數及構造受到限制或限定。

作為參考，第一可動支撐體250可使用用于使基板W進行旋轉驅動的驅動支撐體。第一可動支撐體250用作用于使基板W旋轉驅動的驅動支撐體的情況下，第一可動支撐體250的旋轉軸252通過驅動馬達能夠得到旋轉驅動，第一可動支撐體250的接觸體254可與旋轉軸252同時進行旋轉。隨著第一可動支撐體250的接觸體254的旋轉，以接觸于接觸體254的狀態得到支撐的基板W能夠同時進行旋轉。

位置控制部270根據清洗刷子300是否接觸于基板W而控制相對于基板W的可動支撐部240的位置，以便使得可動支撐部240與基板W維持接觸狀態或者分離。

更為具體地，位置控制部270設置為在清洗刷子300接觸于基板W的表面的期間使得可動支撐部240從基板W分離開來，在清洗刷子300未接觸于基板W的表面的期間使得可動支撐部240接近于基板W。

例如，如圖9及圖10所述，在清洗刷子300接觸于基板W的表面期間，使得可動支撐部240從基板W分離開來，并且基板W以通過固定支撐部210僅一側(例如，以清洗刷子300為基準的基板W的兩側之中的某一側)得到支撐的狀態進行旋轉，由此能夠得到如下效果：防止由于可動支撐部240和固定支撐部210的制造公差或組裝誤差等而產生基板W的變形，并防止由于基板W的表面高度偏差而產生清洗刷子300的清洗均勻度降低。

換句話說，在可動支撐部240和固定支撐部210在基板W相面對的兩側進行支撐的構造中，由于可動支撐部240和固定支撐部210的制造公差及組裝誤差等而能夠在基板W產生變形并產生表面高度偏差。如上所述，清洗刷子300在基板W變形的狀態下進行接觸，則按照基板W的變形量根據清洗刷子300接觸的接觸面積及接觸壓力在基板W的各部位均互不相同，由此通過清洗刷子300的清洗在基板W的表面整體上難以均勻地實現，并無法準確地算出基板W的清洗量。但是，在本實用新型中在清洗刷子300接觸于基板W的期間，由于基板W僅通過固定支撐部210得到支撐并進行旋轉(因為允許朝向可動支撐部的基板的部分移動)，能夠防止由于可動支撐部240和固定支撐部210的制造公差及組裝誤差而產生基板W的變形，并能夠預防基板W的表面高度產生偏差。此時，根據通過固定支撐部210的接觸應力(P1)和，隨著清洗刷子300旋轉接觸于基板W而作用于基板W的水平荷重從相面對的方向同時作用于基板W，由此可動支撐部240即使從基板W分離開來也能夠穩定地維持基板W的水平配置狀態。

相反，如圖11所述，在清洗刷子300未接觸于基板W的期間(例如，漂洗(rinse)工藝)，例如，在通過清洗刷子300的清洗完成后(或者通過清洗刷子300的清洗進行之前)，可動支撐部240和固定支撐部210在相面對的兩側同時支撐基板W，并且清洗水噴射部將清洗水噴射于進行旋轉的基板W的表面，從而能夠去除殘留于基板W的表面的異物。

此外，在清洗刷子300未接觸于基板W的期間，即使由于可動支撐部240和固定支撐部210的制造公差及組裝誤差而產生基板W的部分變形，也因為清洗刷子300未直接接觸于基板W，由此不會產生由于清洗刷子300的接觸而基板W損傷及清洗均勻度降低。

作為清洗水噴射部可以噴射純水或者清洗液一樣的流體，并且本實用新型并非根據從清洗水噴射部噴射出的流體的種類及特性而得到限制或限定。

另外，圖14是用于說明根據本實用新型的另一實施例的基板旋轉裝置的圖，圖15及圖16是用于說明圖14的可動支撐部的操作構造的圖，圖17是示出圖14的空轉支撐部的圖。并且，針對與所述構成相同，以及相當于相同的部分賦予相同或相當于相同的參照標號，并省略對其的詳細說明。

參照圖14，根據本實用新型的另一實施例，基板旋轉裝置10，包括：固定支撐部210，其固定設置以便支撐基板W的邊緣位置一側；可動支撐部240，其設置為可朝與基板W接近及分離的方向移動并支撐相面對于固定支撐部210的基板W的邊緣位置另一側；位置控制部270，其在清洗刷子300接觸于基板W的表面的期間使可動支撐部240從基板W分離開來，并在清洗刷子300未接觸于基板W表面的期間使可動支撐部240接近于基板W；空轉支撐部，其支撐基板W的邊緣位置并通過基板W的旋轉進行空轉(idle)旋轉。

空轉支撐部設置為接觸于基板W的邊緣位置，并通過基板W的旋轉進行空轉(idle)旋轉。

空轉支撐部根據所要求的條作件及設計樣式能夠設置為可支撐基板W的邊緣位置的多種構造。作為一個例子，空轉支撐部設置為包括：旋轉軸，其以柱形態直立設置并進行旋轉；空轉接觸體，其結合于空轉旋轉軸的上端從而接觸基板W的邊緣位置。

所述空轉接觸體214設置為在空轉旋轉軸的上端可進行旋轉，并設置為在直接相接觸地接觸于基板W的邊緣位置的狀態下隨著基板W的旋轉而通過基板W進行旋轉。

所述空轉接觸體314和空轉旋轉軸之間的旋轉結合構造根據所要求的條件及設計樣式能夠進行多種變更。作為一個例子，在空轉接觸體314的內部可設置用于收容空轉旋轉軸的端部的旋轉軸收容部(未示出)，并以空轉旋轉軸的端部收容于旋轉軸收容部的狀態，使得空轉接觸體314相對于空轉旋轉軸可進行旋轉。根據情況，不形成額外的旋轉軸收容部，也能夠設置為空轉接觸體相對于空轉旋轉軸進行旋轉。

空轉接觸體314根據所要求的條件及設計樣式可設置為多種構造。參照圖17，空轉接觸體284可分割形成為多個接觸體主體284a、284b、284c，并通過連接螺栓可結合為單一主體形態。根據情況，空轉接觸體可設置為僅一個的接觸體主體，本實用新型并非通過接觸體主體的個數及構造而受到限制或限定。

在空轉旋轉軸不是連接驅動馬達而是連接如感知旋轉數的編碼器一樣的傳感器S，從而能夠測量與空轉接觸體同時進行旋轉的空轉旋轉軸的旋轉數并感知基板W的旋轉數。

優選地，空轉支撐部設置為可朝與基板W接近及分離的方向移動，并且可包括彈性部件，所述彈性部件彈性支撐相對于基板W的空轉支撐部的移動。

作為彈性部件使用常規的彈簧或可使用其他不同的彈性工具，彈性部件根據所要求的條件及設計樣式而可安裝為能夠彈性支撐空轉支撐部的移動的多種構造。

如上所述，空轉支撐部通過彈性部件的彈力而朝與基板W接近及分離的方向進行彈性移動，由此抵銷由于空轉支撐部的接觸應力，從而能夠得到防止由于空轉支撐部的接觸應力而產生基板W變形的有利效果。

更優選地，空轉支撐部在與通過清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相同的方向(面對通過固定支撐部210的接觸應力的方向)支撐基板W的邊緣位置，由此能夠得到使得由于空轉支撐部的基板W的變形及流動最小化的效果。作為參考，本實用新型的實施例中雖然對于空轉支撐部在基板W的九點鐘方向支撐基板W的邊緣位置進行舉例說明，但是根據情況，空轉支撐部也能夠在基板的十二點鐘方向、六點鐘方向或者三點鐘方向等支撐基板的邊緣位置，也能夠使用兩個以上的空轉支撐部。

并且，可動支撐部240可包括：第一可動支撐體250，其設置為可朝與基板W接近及分離的方向移動并選擇性地支撐基板W的邊緣位置；第二可動支撐體260，其配置為從第一可動支撐體250分離開來并在與通過清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相同的方向支撐基板W的邊緣位置。

優選地，第一可動支撐體250和第二可動支撐體260通過共用支撐部可連接為一體，并且通過單一驅動源移動共用支撐部，從而第一可動支撐體250和第二可動支撐體260同時進行移動，由此能夠得到構造簡化且能夠將設備制作得較為小型的有利效果。根據情況，也能夠設置為第一可動支撐體和第二可動支撐體通過分別不同的驅動源而進行移動。

如圖15所述，通過所述的構成，在清洗刷子300接觸于基板W的表面期間，使可動支撐部240從基板W分離開來，并且基板W在通過固定支撐部210而僅一側(例如，以清洗刷子300為基準的基板W的兩側之中某一側)得到支撐的狀態下進行旋轉，由此能夠得到如下效果：防止由于可動支撐部240和固定支撐部210的制造公差或組裝誤差等而產生基板W的變形，并且防止由于基板W的表面高度偏差而產生清洗刷子300的清洗均勻度降低。此時，空轉支撐部在維持彈性接觸于基板W的狀態的同時，可隨著基板W旋轉而與基板W同時進行旋轉，并感知空轉支撐部的旋轉并能夠檢測出基板W的旋轉數。

相反，如圖16所示，在清洗刷子300未接觸于基板W的期間，例如，通過清洗刷子300的清洗完成后(或在通過清洗刷子300的清洗進行之前)，可動支撐部240和固定支撐部210在相面對的兩側同時支撐基板W，并且清洗水噴射部將清洗水噴射于進行旋轉的基板W的表面，從而能夠去除殘留于基板W的表面的異物。此時，空轉支撐部維持彈性接觸于基板W的狀態的同時，隨著基板W旋轉而與基板W同時進行旋轉。根據情況，清洗刷子未接觸于基板的期間，也能夠配置為空轉支撐部從基板分離開來的構成。

此外，圖18及圖19是用于說明根據本實用新型的又另一實施例的基板旋轉裝置的圖。并且，針對與所述構成相同，以及相當于相同的部分賦予相同或相當于相同的參照標號，并省略對其的詳細說明。

參照圖18及圖19，基板旋轉裝置10，包括：固定支撐部210，其固定設置以便支撐基板W的邊緣位置一側；空轉支撐部，其設置為可朝與基板W接近及分離的方向移動并支撐相面對于固定支撐部210的基板W的邊緣位置另一側，并且通過基板W的旋轉進行空轉(idle)旋轉；彈性部件，其彈性支撐相對于基板W的空轉支撐部的移動。

固定支撐部210根據所要求的條件及設計樣式可設置為能夠支撐基板W的邊緣位置的多種構造。作為一個例子，固定支撐部210可設置為包括：第一固定支撐體220，其在與從清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相面對的方向支撐基板W的邊緣位置；第二固定支撐體230，其配置為從第一固定支撐體220分離開來并在與從清洗刷子300施加于基板W的水平荷重方向相面對的方向支撐基板W的另一邊緣位置。根據情況，固定支撐部能夠僅由一個的固定支撐體構成，也能設置為包括三個以上的固定支撐體的構成。

空轉支撐部支撐相面對于固定支撐部210的基板W的邊緣位置另一側，設置為可朝與基板W接近及分離的方向移動。

空轉支撐部根據所要求的條件及設計樣式可設置為能夠支撐基板W的邊緣位置的多種構造。作為一個例子，空轉支撐部設置為包括：旋轉軸，其以柱形態直立設置并進行旋轉；空轉接觸體，其結合于空轉旋轉軸的上端并接觸基板W的邊緣位置。

所述空轉接觸體314設置為在空轉旋轉軸的上端可進行旋轉，并設置為在直接相接觸地接觸于基板W的邊緣位置的狀態下隨著基板W旋轉而通過基板W進行旋轉。

在空轉旋轉軸不是連接驅動馬達而是連接如感知旋轉數的編碼器一樣的傳感器S，從而能夠測量與空轉接觸體同時進行旋轉的空轉旋轉軸的旋轉數并感知基板W的旋轉數。

彈性部件設置為相對于基板W而空轉支撐部進行彈性移動。在此，所謂相對于基板而空轉支撐部進行彈性移動是指，定義為如下構造：空轉支撐部在支撐基板W的狀態(接觸的狀態)下通過作用于基板W的外力等能夠進行移動。

作為彈性部件可使用常規的彈簧或者可使用其他不同彈性工具，本實用新型并非根據彈性部件的種類及安裝構造而受到限制或限定。

如圖18及圖19所示，相面對于固定支撐部210的基板W的相反側通過空轉支撐部得到支撐，空轉支撐部通過彈性部件的彈力而朝與基板W接近及分離的方向彈性移動，由此能夠得到如下有利效果：抵銷由于空轉支撐部的接觸應力，并防止由于空轉支撐部的接觸應力而產生基板W變形。

此外，通過固定支撐部210支撐基板W的一側，并且相面對于固定支撐部210的基板W的相反側通過空轉支撐部得到支撐，由此即使在清洗刷子300未接觸的期間(在清洗水噴射部噴射清洗水的期間)，無需額外的可動支撐部240也能得到穩定地維持基板W的水平配置狀態的有利效果，并能夠將構造簡化且將設備制作為較為小型。

另外，圖20是用于說明根據本實用新型的基板旋轉裝置的操作方法的框圖。并且，針對與所述構成相同，以及相當于相同的部分賦予相同或相當于相同的參照標號，并省略對其的詳細說明。

參照圖20，根據本實用新型的支撐圓形盤形狀的基板W的同時進行旋轉的基板旋轉裝置，利用固定支撐部210和可動支撐部240進行操作，包括如下步驟：基板W支撐步驟S10，支撐基板W；位置控制步驟S20，控制相對于基板W的可動支撐部240的位置，以便可動支撐部240維持與基板W接觸的狀態或者與基板W分離，所述固定支撐部210固定設置以便支撐基板W的邊緣位置一側；所述可動支撐部240以可朝與基板W接近及分離的方向移動的方式設置并支撐相面對固定支撐部210的基板的邊緣位置另一側。

步驟1：

首先，利用固定支撐部210和可動支撐部240支撐相面對于基板W的一側及另一側。S10

在基板W支撐部步驟S10中使用的固定支撐部210固定設置以便支撐基板W的邊緣位置一側，可動支撐部240支撐相面對固定支撐部210的基板W的邊緣位置另一側并設置為可朝與基板接近及分離的方向移動。

并且，在基板W支撐步驟S10中基板W通過固定支撐部210和可動支撐部240而可得到三點支撐，或四點支撐。根據情況，與用于檢測出基板的旋轉數的空轉支撐部一同也能夠得到五點支撐。

步驟2：

其后，控制相對于基板W的可動支撐部240的位置，以便可動支撐部240維持與基板W接觸狀態或與基板W分離。S20

在位置控制步驟(S20)中，選擇性地控制相對于基板W的可動支撐部240的位置，以便可動支撐部240維持與基板W接觸的狀態或與基板W分離，由此根據基板W的處理工藝能夠自由地決定是否使用可動支撐部240。

換句話說，根據基板W的處理工藝可在僅需要可動支撐部240時選擇性地使用可動支撐部240，由此相比于同時使用固定支撐部210和可動支撐部240時，能夠得到更加易于控制基板W的旋轉的有利效果。

具體地，在位置控制步驟S20中，在清洗刷子300接觸于基板W的表面的期間，使可動支撐部240從基板W分離開來S22，并在清洗刷子300未接觸于基板W的表面期間，使可動支撐部240接近于基板W(S24)。

例如，在清洗刷子300接觸于基板W的表面期間，使可動支撐部240從基板W分離開來，基板W通過固定支撐部210僅一側(例如，以清洗刷子300為基準的基板W的兩側之中某一側)得到支撐的狀態下進行旋轉，由此能夠得到如下效果：防止由于可動支撐部240和固定支撐部210的制造公差或組裝誤差等而產生基板W變形，并防止由于基板W的表面高度偏差而產生清洗刷子300的清洗均勻度降低。

換句話說，在可動支撐部240和固定支撐部210在相面對的兩側支撐基板W的構造中，由于可動支撐部240和固定支撐部210的制造公差及組裝誤差等可能在基板W產生變形且可能產生表面高度偏差。如上所述，清洗刷子300在基板W變形的狀態下進行接觸，則按照基板W的變形量而清洗刷子300接觸的接觸面積及接觸壓力在基板W的各部位均互不相同，由此通過清洗刷子300在基板W的表面整體上難以實現均勻地清洗，并無法準確地算出基板W的清洗量。但是，本實用新型中在清洗刷子300接觸于基板W的期間，由于基板W僅通過固定支撐部210得到支撐并進行旋轉，由此防止由于可動支撐部240和固定支撐部210的制造公差及組裝誤差而產生基板W的變形，并能夠預防在基板W的表面產生高度偏差。此時，由于通過固定支撐部210的接觸應力P1，和隨著清洗刷子300旋轉接觸于基板W而作用于基板W的水平荷重，從相面對的方向同時作用于基板W，由此即便可動支撐部240從基板W分離開來也能夠穩定地維持基板W的水平配置狀態。(參照圖9及圖10)

相反，在清洗刷子300未接觸于基板W的期間，例如，在通過清洗刷子300的清洗完成后(或者通過清洗刷子300的清洗進行之前)，使可動支撐部240與基板W接近(或維持接近的狀態)并使可動支撐部240和固定支撐部210在相面對的兩側同時支撐基板W，并且清洗水噴射部將清洗水噴射于進行旋轉的基板W的表面，從而能夠去除殘留于基板W的表面的異物。(參照圖11)

如上所述，雖然參照本實用新型的優選實施例進行了說明，但可以理解為如果是所屬技術領域的熟練的從業人員，則在不脫離下述權利要求所記載的本實用新型的思想及領域的范圍內可對本實用新型進行多種修改及變更。

標號說明

10：基板旋轉裝置 210：固定支撐部

220：第一固定支撐體 230：第二固定支撐體

240：可動支撐部 250：第一可動支撐體

260：第二可動支撐體 270：位置控制部

300：清洗刷子