顯示面板及其制作方法和顯示裝置與流程

本技術涉及顯示，尤其涉及一種顯示面板及其制作方法和顯示裝置。

背景技術：

1、oled（organic?light?emitting?diode，有機發光二極管）顯示器件由于具有輕巧、廣視角、響應快、耐低溫、發光效率高，且能制備彎曲的柔性顯示屏，被廣泛應用在各個領域。由于量產技術日益成熟，使得oled顯示面板逐漸成為主流現實面板。

2、但是由于oled發光單元在對陽極進行刻蝕的時候，由于制程原因，會存在保護層去除不干凈，導致殘留的問題。上述問題會導致陽極與發光功能層中的有機材料接觸電阻增大，從而導致發光單元驅動電壓升高或者壽命快速下降的問題。

技術實現思路

1、本技術的目的是提供一種顯示面板及其制作方法和顯示裝置，通過在陽極與發光功能層之間增加陽極輔助電極，來改善陽極與發光功能層之間膜層界面，提升發光單元的發光效率和壽命。

2、本技術公開了一種顯示面板，所述顯示面板包括襯底基板、像素定義層、發光單元和第一隔斷結構，所述像素定義層設置在所述襯底基板上，且設置有多個開口區，所述發光單元設置在所述襯底基板上，且位于所述開口區內；所述發光單元包括陽極、發光功能層和陰極，所述陽極設置在所述襯底基板上，所述發光功能層設置在所述陽極上，所述陰極設置在所述發光功能層上；所述發光單元還包括陽極輔助電極，所述陽極輔助電極設置在所述陽極與所述發光功能層之間，所述陽極輔助電極采用金屬或金屬合金或金屬氧化物的一種或多種形成；所述第一隔斷結構設置在所述像素定義層上，所述第一隔斷結構包括導電部和隔斷部，所述隔斷部設置在所述導電部上，所述隔斷部的徑向寬度大于所述導電部的徑向寬度；所述第一隔斷結構用于在所述陽極輔助電極、所述發光功能層整面沉積時，隔斷相鄰兩個發光單元的陽極輔助電極和/或發光功能層。

3、可選地，所述第一隔斷結構用于在所述陽極輔助電極、所述發光功能層整面沉積時，隔斷相鄰兩個發光單元的陽極輔助電極和發光功能層；所述陽極輔助電極、所述發光功能層分別不與所述導電部連接；所述陰極連接至相鄰的所述第一隔斷結構的導電部。

4、可選地，所述顯示面板還包括第二隔斷結構，所述第二隔斷結構設置在所述第一隔斷結構下；所述第二隔斷結構用于在所述陽極輔助電極整面沉積時，隔斷相鄰兩個發光單元的陽極輔助電極；所述第一隔斷結構用于在所述發光功能層整面沉積時，隔斷相鄰兩個發光單元的發光功能層；所述第一隔斷結構的導電部還用于連接相鄰兩個發光單元的陰極。

5、可選地，所述顯示面板還包括隔斷層，所述隔斷層設置在所述像素定義層下，且位于所述陽極上，與所述陽極直接接觸；在所述襯底基板的正投影下，所述隔斷層的邊界在所述像素定義層的投影范圍內，且與所述像素定義層的投影邊界具有一預設距離，所述像素定義層與所述隔斷層形成第二隔斷結構；所述隔斷層還用于在所述陽極的圖案化制程中保護陽極。

6、可選地，所述隔斷層采用金屬或金屬合金材料形成，且所述隔斷層與所述陽極采用不同材料形成；所述預設距離大于等于5000埃米小于等于50000埃米，所述隔斷層的厚度大于等于100埃米至10000埃米。

7、可選地，所述陽極包括第一透明電極層、第一反射電極層和第二透明電極層，所述第一反射電極層設置在所述第一透明電極層與所述第二透明電極層之間；所述第一反射電極層采用反射金屬材料形成；其中，所述陽極輔助電極包括第一輔助電極層，所述第一輔助電極層設置在所述第二透明電極層上，且與所述第二透明電極層直接接觸；其中，所述第一輔助電極層的厚度在10埃米至300埃米；所述第二隔斷結構用于隔斷相鄰兩個所述發光單元的第一輔助電極層；其中，在所述襯底基板的正投影下，所述陽極輔助電極的投影在所述陽極的投影范圍內。

8、可選地，所述陽極包括第一電極層，所述第一電極層采用金屬或金屬合金或金屬氧化物的一種或多種形成；所述陽極輔助電極包括第二反射電極層和第二輔助電極層，所述第二反射電極層采用銀材料或銀合金材料形成，所述第二反射電極層設置在所述陽極上，與所述陽極直接接觸；所述第二輔助電極層采用金屬氧化物形成；所述第二輔助電極層設置在所述第二反射電極層上，且與所述第二反射電極層直接接觸；所述第二隔斷結構用于隔斷相鄰兩個所述發光單元的第二反射電極層；其中，所述第二反射電極層的厚度在1000埃米至5000埃米；其中，所述第二輔助電極層通過等離子處理所述第一反射電極層遠離所述襯底基板一側的表面形成金屬氧化物膜層以作為第二輔助電極層。

9、本技術還公開了一種顯示面板的制作方法，包括步驟：

10、提供一襯底基板；

11、在襯底基板上沉積并圖案化形成陽極；

12、沉積并圖案化形成像素定義層，并形成多個開口區；

13、在所述像素定義層上依次沉積導電部材料和隔斷部材料，圖案化工藝后形成第一隔斷結構；

14、依次整面沉積陽極輔助電極材料、發光功能層材料，利用所述第一隔斷結構在所述開口區形成陽極輔助電極、發光功能層；

15、形成陰極以在多個所述開口區形成多個發光單元；

16、形成顯示面板。

17、可選的，所述在襯底基板上沉積并圖案化形成陽極的步驟中包括：

18、在所述襯底基板上依次沉積整面陽極材料層和整面隔斷層材料層；

19、在非開口區位置刻蝕所述隔斷層材料層形成圖案化隔斷層后，利用隔斷層對所述陽極材料層進行刻蝕，以形成圖案化陽極，且在刻蝕位置形成隔斷槽；

20、所述沉積并圖案化形成像素定義層，并形成多個開口區的步驟中包括：

21、在所述隔斷層上沉積整面像素定義層材料，且填充所述隔斷槽；

22、圖案化形成像素定義層，并形成多個開口區，其中，所述像素定義層的徑向寬度大于所述隔斷槽的寬度；

23、利用像素定義層為保護層刻蝕所述隔斷層，以使所述像素定義層與所述隔斷層形成第二隔斷結構；

24、其中，在所述襯底基板的正投影下，所述隔斷層的邊界在所述像素定義層的投影范圍內，且與所述像素定義層的投影邊界具有一預設距離；

25、所述依次整面沉積陽極輔助電極材料、發光功能層材料，利用所述第一隔斷結構在所述開口區形成陽極輔助電極、發光功能層的步驟中包括：

26、整面沉積陽極輔助電極材料，利用所述第二隔斷結構在所述開口區形成陽極輔助電極；

27、整面沉積發光功能層材料，利用所述第一隔斷結構在所述開口區形成發光功能層。

28、本技術還公開了一種顯示裝置，包括驅動電路和上述的顯示面板，其中，所述驅動電路用于驅動所述顯示面板顯示。

29、本技術通過在陽極與發光功能層上增加陽極輔助電極，陽極輔助電極在沉積過程中，與陽極有較好的接觸界面，即使陽極存在殘留的問題，但由于陽極輔助電極也具有導電性能，且與陽極充分接觸的情況下，不會存在接觸電阻變大的問題。該陽極輔助電極的優勢在于可以通過第一隔斷結構對陽極輔助電極進行隔斷，而不需要通過刻蝕的方式，使得每一發光單元的陽極輔助電極獨立設置，從而避免刻蝕對陽極輔助電極造成的一系列例如刻蝕殘留、刻蝕氧化等問題。重要的是，利用了該第一隔斷結構，來使得陽極輔助電極與后續的發光功能層在同一環境下進行制程，在形成陽極輔助電極后，不需要刻蝕制程，直接沉積發光功能層，避免了中間制程對陽極輔助電極與發光功能層之間的膜層界面的影響，從而提升了發光單元的發光效率和使用壽命。