206)與高壓水管相連，所述外筒體B(201)的筒壁上設置有出料口 B(208)，所述出料口 B(208)位于轉盤B(203)所在水平面之上，所述去皮空腔B(2011)內設置有環形套筒B(209)，所述環形套筒B(209)的外徑與外筒體B(201)的內徑相匹配，環形套筒B(209)的內壁表面為研磨面，環形套筒B(209)的上端設置有升降裝置B(210)，當環形套筒B(209)的下端靠進轉盤B(203)時，環形套筒B(209)將出料口B(208)擋住，當環形套筒B(209)向上移動至最高點時，出料口B(208)與去皮空腔B(2011)連通，所述轉盤B(203)上設置有多個過水孔B(211)，所述過水孔B(211)將去皮空腔B(2011)與儲水空腔B(2012)連通，所述外筒體B(201)的底部設置有排水口 B( 212)，排水口 B( 212)上連接有第一排污管B( 213)，第一排污管B( 213)上設置有第一導通閥B(214)，第一排污管B(213)的末端連接有密閉的過渡水箱B(215)，所述過渡水箱B(215)的底部連接有與之連通的第二排污管B(216)，所述第二排污管B(216)上設置有第二導通閥B(217)，所述外筒體B(201)上方設置有過渡筒體B(218)，所述過渡筒體B(218)的下端與外筒體B(201)的上端密封連接且在過渡筒體B(218)的下端設置有第一控制閥B(219)，過渡筒體B(218)的上端設置有第二控制閥B(220); 所述切片裝置(3)包括密閉的殼體C(301)，所述殼體C(301)內設置有水平壓板C(302)、伸縮氣缸C(303)、多個條形刀片C(304)組成的刀陣C(305)、多塊擋料板C(306)，所述伸縮氣缸C (303)固定在殼體C( 301)的頂部，伸縮氣缸C (303)的推拉桿C( 307)朝下，所述水平壓板C(302)固定在推拉桿C(307)的末端，多個條形刀片C(304)互相平行設置且位于水平壓板C(302)正下方，多個條形刀片C(304)的刀刃均處于同一水平面且朝向水平壓板C(302)，多塊擋料板C(306)設置在刀陣C(305)的四周，所述刀陣C(305)的橫截面大小與水平壓板C(302)的橫截面大小相同，所述殼體C(301)上連接有導料管C(308)，所述導料管C(308)的一端與出料口 B(208)密封連接，另一端穿過殼體C(301)延伸至擋料板C(306)的上邊緣，所述水平壓板C(302)上固定有擋板C(309)，當水平壓板C(302)向下移動至水平壓板C(302)的下表面與條形刀片C(304)的刀刃相接觸時，所述擋板C(309)位于導料管C(308)的出料口處且將其堵住，當水平壓板C(302)向上移動至最高點時，所述擋板C(309)位于導料管C(308)的出料口上方，所述導料管C(308)上設置有截止閥C(310)，所述殼體C(301)底部設置有出料口 C(311)，所述出料口 C(311)位于刀陣C(305)正下方； 所述熟化裝置(4)包括蒸汽發生器D(401)、內筒體D(402)與外筒體D(403)，所述內筒體D(402)設置在外筒體D(403)內，所述外筒體D(403)與內筒體D(402)之間形成一個密閉的夾層空間D(404)，所述內筒體的筒壁上設置有蒸汽通孔D(405)，蒸汽發生器D(401)與夾層空間D(404)通過蒸汽管D連通，所述內筒體D(402)的上端設置有第一截止閥D(406)，內筒體D(402)的下端設置有第二截止閥D(407)，所述內筒體D(402)的上端連接有過渡筒體D(408)，所述過渡筒體D(408)的上端連接有料斗D(409)，所述料斗D(409)的出料口設置有第三截止閥D (410)，所述料斗D (409)的進料口與出料口 C (311)密封連接； 所述冷卻裝置(5)包括密閉的真空箱體E( 501)，所述真空箱體E (501)上連接有真空栗E(502),所述真空箱體E(501)的底部設置有出料口E(503)，所述出料口E(503)上密封連接有第一過渡筒體E(504),所述第一過渡筒體E(504)的上端設置有第一截止閥E(505)，所述第一過渡筒體E(504)的下端設置有第二截止閥E(506)，所述真空箱體E(501)上方設置有第二過渡筒體E(507)，所述第二過渡筒體E(507)的下端與真空箱體E(501)密封連接且與真空箱體E(501)內部連通，所述第二過渡筒體E(507)的下端設置有第三截止閥E(508)，所述第二過渡筒體E (507)的上端與內筒體D (402)的下端密封連接； 所述微波干燥裝置(7)包括密閉的箱體G(701)，所述箱體G(701)內設置有微波發射器G(702)、微波接收器G(703)、加熱筒體G(704)，所述加熱筒體G(704)的上端密封連接有過渡筒體G(705)，所述過渡筒體G(705)的上端延伸至箱體G(701)外且與第一過渡筒體E(504)的末端密封連接，所述加熱筒體G(704)的下端延伸至箱體G外且在加熱筒體G(704)的下端設置有第二截止閥G(707)，所述微波發射器G(702)、微波接收器G(703)分別設置在加熱筒體G(704)的兩側； 所述油炸裝置(6)包括箱體E(601)，所述箱體E(601)內盛裝有高溫食用油，所述箱體E(601)內設置有第一輸送帶E (602),第一被動滾筒E (603),第一驅動滾筒E (604),第一輸送帶E(602)的表面設置有多塊第一刮料板(605)，多塊第一刮料板(605)互相平行設置且與第一輸送帶E(602)的輸送方向互相垂直，所述第一輸送帶E(602)水平設置且上層的第一輸送帶E(602)被高溫食用油淹沒，加熱筒體G(704)的下端朝向第一輸送帶E(602)，所述第一被動滾筒E(603)、第一驅動滾筒E(604)將第一輸送帶E(602)繃緊，第一驅動滾筒E(604)上連接有用于使其轉動第一驅動電機E(606)，所述箱體E(601)內還設置有第二驅動滾筒E(607)、第二輸送帶E(608)，第二驅動滾筒E(607)上連接有用于使其轉動的第二驅動電機E(609)，所述箱體E(601)的上方設置有第二被動滾筒E(610)，所述第二驅動滾筒E(607)設置在第一被動滾筒E(603)的右下方，第二被動滾筒E(610)設置在第二驅動滾筒E(607)的右側，所述第二被動滾筒E (610)、第二驅動滾筒E (607)將第二輸送帶E (608)繃緊，所述第二輸送帶E(608)的表面設置有多塊第二刮料板(611)，多塊第二刮料板(611)互相平行設置且與第二輸送帶E(608)的輸送方向互相垂直，所述第一刮料板(605)的高度與第二刮料板(611)的高度之和等于第一被動滾筒E(603)與第二驅動滾筒E(607)之間的最小間距，所述第二被動滾筒E(610)的右下方設置有第三驅動滾筒E(612)，所述箱體E(601)的右上方設置有第三被動滾筒E(613)、第三輸送帶E(614)，第三輸送帶E(614)水平設置，所述第三被動滾筒E(613)、第三驅動滾筒E(612)將第三輸送帶E(614)繃緊； 所述調味裝置(8)包括調味滾筒(801)，所述第三被動滾筒E(613)位于調味滾筒(801)內，所述調味滾筒(801)從左至右傾斜設置，所述調味滾筒(801)的左側設置有裝有調料的漏斗(802)，所述漏斗(802)的出料口朝向第三輸送帶E(614)。2.如權利要求1所述的油炸土豆片加工裝置，其特征在于:所述水池A(1067)內設置有多個濾網A(107)，多個濾網A(107)依次設置在入水口A與出水口A之間；所述輸送帶A(101)上方設置有料斗A (108)，料斗A(108)的出料口朝向輸送帶A (101),料斗A (108)位于一次清洗槽A (105)的外側;所述二次清洗槽A (106)的外側設置有接料槽A (109)，過渡筒體B (218)的上端與接料槽A(109)的下端密封連接，所述接料槽A(109)上連接有導料槽A(IlO)，所述導料槽A( 110)的一端與接料槽A( 109)相連，另一端延伸至被動滾筒A( 102)的外側且與輸送帶A(1l)相接觸。3.如權利要求1所述的油炸土豆片加工裝置，其特征在于:所述水平壓板C(302)的下表面設置有一層緩沖膠墊C(312)。4.如權利要求1所述的油炸土豆片加工裝置，其特征在于:所述調味滾筒(801)的右端下方設置有收集槽(803)。5.如權利要求1所述的油炸土豆片加工裝置，其特征在于:所述外筒體B(201)上連接有用于向外筒體B(201)內充入氮氣的氮氣管B(221);所述殼體C(301)上連接有用于向殼體C(301)內充入氮氣的氮氣管C(313);所述外筒體D(403)上連接有用于向外筒體D(403)內充入氮氣的氮氣管D(411);所述箱體G(701)上連接有用于向箱體G(701)內充入氮氣的氮氣管G(714)0
【專利摘要】本發明公開了一種避免土豆在加工過程中發生褐變的油炸土豆片加工裝置。該加工裝置由依次設置的清洗裝置、去皮裝置、切片裝置、熟化裝置、冷卻裝置、微波干燥裝置、油炸裝置、調味裝置組成，除清洗裝置、油炸裝置和調味裝置外，其他裝置均在密閉的環境中工作，且各個裝置之間均密封連接，使得土豆除了清洗工序、油炸工序、調味工序外，其他工序均在密封的環境中進行，從保證土豆片在整個加工過程中與氧氣接觸的幾率大大降低，可以有效防止在加工過程土豆中的多酚氧化酶(PPO)與空氣中的氧接觸，避免發生氧化聚合，可以有效防止土豆褐變，從而保證最后生產出的油炸土豆片品質較高。適合在土豆加工技術領域推廣應用。
【IPC分類】A23L5/10, A23L19/18
【公開號】CN105639538
【申請號】
【發明人】李靜, 鞏發永, 臧海波, 劉曉燕, 劉洋, 江文世
【申請人】西昌學院
【公開日】2016年6月8日
【申請日】2016年1月1日