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[0048]
[0049] Wf為關于輪胎的N個數據點的每一數據點i的每一輪胎k的測得的均勻性數據。 數學模型建模輪胎諧波均勻性效應t=l到T A為輪胎諧波均勻性效應的特定諧波。數學模 型建模過程諧波P= 1到P Ap為特定過程諧波均勻性效應的諧波數目。ath和bth為與輪胎諧波 均勻性效應相關聯的系數。ajPbP為與過程諧波均勻性效應相關聯的系數。所述模型除輪胎 諧波均勻性效應和過程諧波均勻性效應項之外還包含瞬態效應項。瞬態效應項在不同輪胎 間變化。
為與瞬態效應項相關聯的系數。k表示所述組中的輪胎序列的索引（非 指數為殘余項。 ￡
[0050] 可至少部分地基于這些模型的方面從均勻性測量值識別瞬態均勻性效應。更確切 地說，在圖2的（206)處，所述方法可任選地包含從均勻性測量值移除一或多個均勻性效應 以識別殘余均勻性測量值。被移除的均勻性效應可為妨害效應，例如可歸因于特定加工元 件的過程諧波均勻性效應和非瞬態輪胎均勻性效應。在特定實施方案中，可使用例如第 PCT/US12/57864號PCT申請案中所揭示的加工簽名分析技術等加工簽名分析識別妨害效 應，所述PCT申請案以引用的方式并入本文中。
[0051] 實例加工簽名分析可將均勻性測量值建模為加工元件項和非加工元件項的總和。 加工元件項可與由于輪胎制造期間使用的加工元件產生的效應相關聯。非加工元件項可與 可對輪胎的均勻性產生貢獻的所有其它諧波(不論是輪胎諧波還是過程諧波)相關聯。可使 用回歸分析或編程分析估計與加工元件項相關聯的系數。可隨后基于使用(例如)方差分析 分析(AN0VA分析)估計的與加工元件項相關聯的系數產生加工簽名。
[0052] 可執行ANOVA分析技術，其中加工簽名的波形點由一組N個偏移量擬合，其中N為加 工簽名的數據點的數目，例如256個數據點。為執行此ANOVA分析技術，必須存在使用相同加 工元件制造的輪胎的多個測得的均勻性波形。下文提供加工元件的ANOVA方法的實例數學 語句：
[0053]
[0054] Wji為第j輪胎的第i波形點。α為恒定項或截距。Pqi為加工簽名（1到N)的每一點與 每一加工元件q的擬合常數。i3 ql項是基于回歸或編程分析期間確定的所估計系數確定。 ANOVA分析可使用最小平方分析確定Pqi項。特定來說，可選擇一組Pqi項以最小化跨越所有 波形點的平方誤差的總和。通常對于擬合的加工元件中的每一者存在N個此類β項。特定來 說，此公式允許針對加工元件中的每一者存在N(例如256)個可能唯一系數(針對加工簽名 數據點中的每一者存在一個）。這N個唯一系數提供加工元件的綜合加工簽名的數據點。
[0055] -旦識別各種加工元件的加工簽名，就可從均勻性測量值移除加工簽名以識別殘 余均勻性測量值。隨后分析殘余均勻性測量值以將瞬態均勻性效應與瞬態均勻性效應分 離，如圖2的（208)處所示。特定來說，可分析殘余均勻性測量值以識別在所述組輪胎中的不 同輪胎間變化的效應。在一個實施方案中，殘余可建模為非瞬態項與瞬態項的總和。瞬態項 可在模型中不同輪胎間變化。與非瞬態項和瞬態項相關聯的系數可(例如)使用回歸分析或 編程分析來估計。可基于瞬態項在不同輪胎間的預期改變(例如線性或其它關系)而確定所 估計系數。可至少部分地基于與瞬態項相關聯的所估計系數識別瞬態均勻性效應的一或多 個參數(例如瞬態均勻性效應的變化速率）。
[0056]在(210)處，可至少部分地基于所識別的瞬態均勻性效應修改輪胎制造。動態效應 可提供膜片徑向偏心或膜片徑向力的間接逐輪胎評估，其在硫化工藝期間可能極其難以直 接測量乃至不可能直接測量。此效應還在無過程中斷的情況下完成，過程中斷可能使硫化 膜片效應的估計變得偏置。瞬態效應可用于確定何時維修或更換輪胎制造期間使用的特定 瞬態工具(例如硫化膜片、具有可充氣元件的柔性成型鼓等）以減小可歸因于工具的均勻性 效應。因為瞬態效應常常以平穩且可預測模式改變，所以其也可為一件有用的輪胎均勻性 優化工藝。下文更詳細論述至少部分地基于所識別的動態均勻性效應修改輪胎制造以改進 輪胎均勻性的實例。
[0057]用以識別膜片效應的均勻性測量值的實例分析
[0058] 現參看圖3,現將陳述用于識別可歸因于硫化膜片的瞬態均勻性效應的實例方法 (300)。在(302)處，所述方法包含獲得所述組輪胎的均勻性波形。所述組輪胎可包含已經使 用相同硫化膜片連續硫化的多個輪胎。可通過使用均勻性測量機器測量均勻性波形或通過 存取存儲(例如)在存儲器中的先前測得的均勻性波形來獲得均勻性波形。
[0059] 所述均勻性波形可包含輪胎的方位角周圍的多個數據點的所測的均勻性參數。舉 例來說，波形可根據采樣分辨率(例如，每輪胎旋轉的128、256、512或其它數目的數據點)在 輪胎的一次旋轉期間由在等間隔點中測得的若干數據點建構。應了解，均勻性波形可以在 多種條件下獲得。可以獲得用于輪胎在任一方向（直接和/或間接)的旋轉的均勻性波形。另 外，可以獲得在被裝載或卸載的條件下的均勻性波形。
[0060] 在(304)處，任選地從均勻性波形移除一或多個均勻性效應以獲得殘余波形。更確 切地說，均勻性波形被清除除可歸因于硫化膜片的效應之外的均勻性效應，例如過程諧波 均勻性效應和可歸因于輪胎制造期間使用的其它加工元件的加工元件效應。舉例來說，可 使用加工簽名分析識別各種加工元件的加工簽名。用以移除非動態效應的數據的此預處理 是任選的，但其對于減少可影響最終估計的分散可能是有益的。
[0061] 圖4描繪可獲得的加工元件(例如配制操作者元件）的實例加工簽名402。圖4描繪 加工簽名402,其具有沿著橫坐標的加工元件周圍的方位角和沿著縱坐標的對均勻性參數 的貢獻。加工簽名402可表示輪胎制造期間使用的一或多個加工元件。
[0062] 可從均勻性波形移除所識別的加工簽名和其它均勻性效應(例如所識別的過程諧 波均勻性效應）以識別與硫化膜片相關聯的殘余波形。圖5描繪針對一組6個輪胎獲得的6個 殘余均勻性波形。圖5描繪沿著橫坐標的輪胎周圍的方位角和沿著縱坐標的均勻性參數的 量值。
[0063] 殘余波形可包含來自非暫時性效應以及瞬態效應的貢獻。舉例來說，殘余波形可 包含來自經由連續硫化保持固定的硫化機效應和經由連續硫化為瞬態的膜片效應的貢獻。 如果硫化機效應例如從加工簽名分析已知，那么可從殘余波形移除硫化機效應以識別每一 輪胎的瞬態膜片效應。每一輪胎的瞬態效應可隨后經分析以評估瞬態效應的一或多個參 數，例如瞬態效應的變化速率。
[0064] 如果硫化機效應并不已知，那么每一殘余波形可建模為如圖3的（306)處所示的硫 化機效應煩與臘片效應煩的總和。舉例來說，殘僉波形可津樽如下：
[0065]
[0066] ^可為殘余波形的N個數據點數據點i的均勻性參數。p和q可表示與硫化機效應相 關聯的系數。膜片效應可由系數g和h俘獲。注意，膜片效應對表示硫化膜片的硫化的輪胎次 序t的相依性。g和h可為t的較復雜的功能，而不背離本發明的范圍。
[0067] 在(308)處，可使用所述模型確定膜片效應的一或多個參數。舉例來說，可使用回 歸或編程分析識別所述組輪胎的膜片效應的變化速率。因為對于特定波形來說，t的精確值 可能不是已知的，所以可關注殘余波形的差異。此可減去硫化機效應(因為其對于所有輪胎 為固定的)且隔離膜片改變的斜率。此可表示為如下：
[0068] dt = g*s+h*s
[0069] 其中dt表示連續硫化輪胎之間的逐點差異。s表示t+1與t之間的時間間隔。g和h系 數表示隨著時間值之間(硫化之間）的持續時間而變的膜片效應。
[0070] 在本發明的一個特定實施方案中，可(例如)使用傅里葉分析識別個別殘余波形