輪胎600通過接觸、非接觸或近接觸定位操作，以便在輪胎圍繞中心線旋轉時在多個數據 點（例如，128個點）處確定輪胎表面的相對位置。均勻性測量機器604還可以包含用于裝載 輪胎以在輪胎600旋轉時獲得力測量值的輪。
[0096]可中繼由測量機器604獲得的測量值使得其在一或多個可分別含有一或多個處理 器608的計算裝置606處被接收，但出于說明的簡單和清楚的目的，圖10中僅展示一個計算 機和處理器。處理器608可以經配置以接收來自輸入裝置614的輸入數據或存儲在存儲器 612中的數據。處理器608隨后可以根據所揭示的方法分析此些測量值，且經由輸出裝置616 向用戶提供可使用的輸出（例如數據)或者向過程控制器618提供信號。均勻性分析可以替 代地由一或多個服務器610或跨越多個計算和處理裝置實施。
[0097]可提供各種存儲器/媒體元件612a、612b、612c(統稱為"612"）作為一或多個種類 的非暫時性計算機可讀媒體的單一或多個部分，包含但不限于RAM、R0M、硬盤驅動器、快閃 驅動器、光學媒體、磁性媒體或其它存儲器裝置。圖10的計算/處理裝置可以適合于充當專 用機器，所述專用機器通過存取存儲在存儲器/媒體元件中的一或多者中的以計算機可讀 形式渲染的軟件指令來提供所需功能性。當使用軟件時，任何適合的編程、腳本或其它類型 的語言或語言的組合可以用于實施本文中包含的教示。
[0098] 在一個實施方案中，處理器608可執行存儲于存儲器元件612a、612b和612c中的計 算機可讀指令以致使處理器執行操作。所述操作可包含獲得一組多個輪胎中的每一輪胎的 均勻性參數的均勻性測量值，以及分析所述均勻性測量值以識別例如膜片效應等瞬態均勻 性效應。
[0099] 實例應用結果
[0100] 獲得一組50個連續制造的輪胎的一組50個均勻性波形。均勻性波形各自包含256 個數據點。除波形數據之外，例如配制操作者、表面處理操作者、硫化機和硫化裝載角度以 及硫化機內硫化的次序等其它變量可用于所述組中的每一輪胎。依據此數據，存在在7個不 同硫化機中的每一者中連續硫化的近似7個輪胎。
[0101] 均勻性波形被清除由配制和表面處理操作者使用加工簽名分析所導致均勻性效 應。使用傅里葉分析將來自加工簽名分析的殘余波形分解為前10個相應諧波分量。前10個 諧波中的每一者的量值建模為硫化機效應項與瞬態膜片效應項的總和。針對每一諧波確定 可歸因于瞬態膜片效應的量值的變化速率。下文表1中提供結果：
[0102] 藍
Lm 〇4」所述趨勢估計值提供經由里復硫化的膜片效應的所估計改變。膜片效應的變化速 率并不經由所有諧波相等。此暗示膜片接合形狀以及其總體厚度在改變。圖6描繪基于提供 于表1中的數據確定的改變的接合形狀的實例曲線。
[0105]盡管已關于本發明的特定示范性實施例及其方法詳細地描述本發明標的物，但應 了解，在獲得對前述內容的理解之后所屬領域的技術人員可以容易地產生對此類實施例的 改變、變型及等效物。因此，本發明的范圍是作為舉例而非作為限制，并且本發明并不排除 包含所屬領域的一般技術人員使用本文所揭示的教示將容易明白的對本發明標的物的此 類修改、變型和/或添加。
【主權項】
1. 一種用于改進輪胎的均勻性的方法，所述方法包括： 獲得一組多個輪胎中的每一輪胎的均勻性參數的均勻性測量值； 利用一或多個處理裝置分析所述均勻性測量值以識別瞬態均勻性效應，所述瞬態均勻 性效應在所述組輪胎中的不同輪胎間改變;以及 至少部分地基于所述瞬態均勻性效應修改一或多個輪胎的所述制造。2. 根據權利要求1所述的方法，其中利用一或多個處理裝置分析所述均勻性測量值以 識別瞬態均勻性效應包括： 利用所述一或多個處理裝置從所述均勻性測量值移除一或多個均勻性效應以確定殘 余均勻性測量值;以及 利用所述一或多個處理裝置分析所述殘余均勻性測量值以識別在所述組輪胎中的不 同輪胎間變化的效應。3. 根據權利要求1所述的方法，其中所述瞬態均勻性效應可歸因于輪胎諧波均勻性效 應。4. 根據權利要求1所述的方法，其中所述瞬態均勻性效應包括可歸因于硫化膜片的膜 片效應。5. 根據權利要求4所述的方法，其中使用相同硫化膜片連續硫化所述組輪胎。6. 根據權利要求4所述的方法，其中所述方法包括估計所述硫化膜片的膜片接合形狀。7. 根據權利要求4所述的方法，其中所述均勻性測量值包括所述組輪胎中的每一輪胎 的均勻性波形，所述均勻性波形包括關于所述輪胎的多個數據點的所測得的均勻性參數。8. 根據權利要求7所述的方法，其中利用一或多個處理裝置分析所述均勻性測量值以 識別瞬態均勻性效應包括： 從所述均勻性波形移除一或多個均勻性效應以識別一或多個殘余波形； 將所述一或多個殘余波形建模為硫化機效應項與膜片效應項的總和； 估計與所述膜片效應項相關聯的系數；以及 至少部分地基于所述所估計的系數確定所述硫化膜片的所述膜片效應的一或多個參 數。9. 根據權利要求4所述的方法，其中所述均勻性測量值包括針對所述組輪胎中的每一 輪胎測得的所述均勻性參數的多個諧波分量中的每一者的量值。10. 根據權利要求9所述的方法，其中利用一或多個處理裝置分析所述均勻性測量值以 識別瞬態均勻性效應包括： 從所述多個諧波分量中的每一諧波分量移除一或多個均勻性效應以識別與所述組輪 胎相關聯的多個殘余諧波； 將所述殘余諧波中的每一者建模為硫化機量值效應項與膜片效應項的總和，所述膜片 效應項隨著所述組輪胎中的每一輪胎改變； 估計與所述膜片效應項相關聯的系數；以及 至少部分地基于所述所估計的系數確定所述膜片效應的一或多個參數。11. 根據權利要求1所述的方法，其中修改一或多個輪胎的所述制造包括修改對所述瞬 態均勻性效應產生貢獻的過程元件。12. 根據權利要求4所述的方法，其中修改一或多個輪胎的所述制造包括至少部分地基 于所述膜片效應的所述一或多個參數更換硫化機的硫化膜片。13. 根據權利要求4所述的方法，其中修改一或多個輪胎的所述制造包括至少部分地基 于所述膜片效應設計硫化膜片的膜片接合。14. 根據權利要求4所述的方法，其中修改輪胎制造包括至少部分地基于所述膜片效應 改變硫化機中生胎的裝載角度。15. -種用于改進輪胎的均勻性的系統，所述系統包括： 測量機器，其經配置以獲得一組多個輪胎中的每一輪胎的均勻性測量值；以及 計算系統，其耦合到所述測量機器，所述計算裝置包括一或多個處理器和至少一個非 暫時性計算機可讀媒體，所述至少一個非暫時性計算機可讀媒體存儲計算機可讀指令，所 述計算機可讀指令在由所述一或多個處理器執行時致使所述一或多個處理器執行操作，所 述操作包括分析所述均勻性測量值以識別瞬態均勻性效應，所述瞬態均勻性效應在所述組 輪胎中的不同輪胎間改變。
【專利摘要】本發明提供用于經由識別對輪胎的非均勻性產生貢獻的瞬態效應來改進輪胎均勻性的系統和方法。更確切地說，可獲得一組多個輪胎的均勻性測量值。所述均勻性測量值可包含來自輪胎諧波均勻性效應(例如可歸因于輪胎制造期間使用的加工元件的效應)以及過程諧波均勻性效應(例如可歸因于輪胎制造期間使用的過程元件的效應)的貢獻。所述輪胎諧波均勻性效應中的某些可為在不同輪胎間改變的瞬態效應。舉例來說，可歸因于硫化工藝期間使用的硫化膜片的效應可在不同輪胎間瞬時地改變。本發明的各方面是針對識別對均勻性測量值的瞬態效應貢獻，以及使用所述所識別的瞬態效應貢獻改進所述輪胎的所述均勻性。
【IPC分類】B29D30/06
【公開號】CN105682910
【申請號】
【發明人】W·D·馬夫布伊, J·M·特雷勒, C·阿普爾曼
【申請人】米其林集團總公司, 米其林研究和技術股份有限公司
【公開日】2016年6月15日
【申請日】2013年11月8日