1.基于激光控制納米結構硅基表面形態的研究方法，其特征是按如下步驟：
一、分別用不同導熱率的材料接觸納米結構的硅基板；
二、激光照射納米結構的硅基板表面；
三、觀察硅基表面形態，并測量硅基表面凸起的長徑比。
四、總結硅基表面形態的變化規律。
2.如權利要求1所述基于激光控制納米結構硅基表面形態的研究方法，其特征是：不同導熱率的材料選用：絕熱材料、同種材料、導熱材料。
3.如權利要求2所述基于激光控制納米結構硅基表面形態的研究方法，其特征是：絕熱材料選用石棉、同種材料選用硅、導熱材料選用鋁。
4.基于激光控制納米結構硅基表面形態的研究方法，其特征是按如下步驟：
步驟一,用不同導熱率的材料接觸納米結構的硅基板四周；
步驟二,激光對納米結構的硅基板進行照射；
步驟三,關閉激光，觀察激光照射后的硅基板；
步驟四,測量硅基板的表面形態。
5.如權利要求4所述基于激光控制納米結構硅基表面形態的研究方法，其特征是：不同導熱率的材料選用：絕熱材料、同種材料、導熱材料。
6.如權利要求5所述基于激光控制納米結構硅基表面形態的研究方法，其特征是：絕熱材料為石棉，同種材料為硅，導熱材料為鋁。
7.如權利要求5或6所述基于激光控制納米結構硅基表面形態的研究方法，其特征是：步驟一，用絕熱材料、導熱材料和絕熱材料接觸硅基板的左右面，用絕熱材料、同種材料、絕熱材料去接觸硅基板前后面。
8.如權利要求4所述基于激光控制納米結構硅基表面形態的研究方法，其特征是：步驟二，激光的功率P＝75mW,激光照射時間t＝10s。
9.如權利要求4所述基于激光控制納米結構硅基表面形態的研究方法，其特征是：步驟三，硅基表面形態呈現棱錐形。
10.如權利要求4或9所述基于激光控制納米結構硅基表面形態的研究方法，其特征是：步驟四，硅基表面最大直徑D與最短直徑W的比值是0.74，最大高度H＝950nm。