專利名稱：日用陶瓷弧形淋釉裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于輕工機械設備，尤其是一種日用陶瓷弧形淋釉裝置。
技術背景 在現用的閉環式日用陶瓷淋釉生產線中，淋釉裝置是平面形式，這種形式對平盤 類、淺湯盤類淋釉效果很好，但對一些盤葉與水平面角度較大(如超過45° )的盤類、斗碗 類產品淋釉效果則較差。主要是淋釉后坯體正面、背面的前端、后端的盤葉曲面處薄釉、缺 釉。原因是單位時間內，淋釉器垂直淋下的釉量只能滿足坯體盤葉投影面積的釉量，而實際 上釉水淋在與水平面有較大傾角的盤葉上，盤葉的面積大于投影面積，故盤葉上的釉量不 足而形成薄釉。
發明內容 本實用新型針對上述問題，提供一種能滿足一些盤葉與水平傾角較大的盤類、斗 碗類的產品，能夠在閉環淋釉生產線上進行淋釉的日用陶瓷弧形淋釉裝置。 本實用新型技術解決方案如下 1、一種日用陶瓷弧形淋釉裝置，在現有的閉環淋釉線生產線的基礎上，對淋釉器 下方的輸送帶部份進行改造，使坯體在淋釉時改變坯體盤葉面與水平面的角度，特征是所 述的背面淋釉器下方一段輸送帶設置有拱形皮帶導向條，拱形皮帶導向條的支架連接機 架，正面淋釉器下方一段凸形皮帶設置有凹弧形皮帶導向條，凹弧形皮帶導向條的支架連 接機架。 2、如技術方案1所述的日用陶瓷弧形淋釉裝置，其中，所述的背面淋釉器的釉幕 正對拱形皮帶導向條的最高點。 3、如技術方案l所述的日用陶瓷弧形淋釉裝置，其中，所述的正面淋釉器的釉幕 正對凹弧形皮帶導向條的最低點。 本實用新型克服了現有淋釉線淋盤葉與水平面角度較大的盤類、斗碗類產品時產 生的薄釉、缺釉等缺陷。與現有技術相比能將這些產品的坯體直接放到淋釉線中去施釉，具 有生產效率高，施釉質量好，為企業減少用工，減輕工人勞動強度等優點。
圖1為本實用新型的整體結構主視圖。 圖2為本實用新型的圖1中A-A剖視圖。 圖3為本實用新型的圖1中B-B剖視圖。 在圖1 3中，坯體(1)、坯托(2)、背面淋釉器(3)、拱形皮帶導向條(4)、輸送帶 (5)、支架(6)、正面淋釉器(7)、凹弧形皮帶導向條(8)、凸形皮帶(9)、支架(10)。
具體實施方式
[0013] 本實用新型的最佳實施例是這樣的，參照圖1 3所示，一種日用陶瓷弧形淋釉裝 置，在現有的閉環淋釉線生產線的基礎上，對淋釉器下方的輸送帶部份進行改造，使坯體l 在淋釉時改變坯體盤葉面與水平面的角度，其中，所述的背面淋釉器3下方一段輸送帶5設 置有拱形皮帶導向條4，拱形皮帶導向條4的支架6連接機架，正面淋釉器7下方一段凸形 皮帶9設置有凹弧形皮帶導向條8，凹弧形皮帶導向條8的支架IO連接機架；所述的背面 淋釉器3的釉幕正對拱形皮帶導向條4的最高點；所述的正面淋釉器7的釉幕正對凹弧形 皮帶導向條8的最低點。 工作原理淋釉時，將坯體1放在坯托2上，坯托2在輸送帶5上方傳動。當淋坯 體1的背面釉時，載有坯體1的坯托2的輸送帶5沿拱形皮帶導向條4進行上坡運動，坯 體1的前盤葉與水平面相對水平，過了最高點后，下坡運動時坯體1后盤葉與水平面相對水 平，坯體1的背面淋完釉后，將坯體1翻轉正面向上，對坯體1正面淋釉，載有坯體1的坯托 2的凸形皮帶9沿凹弧形皮帶導向條8由下坡至上坡運動，下坡時坯體1前盤葉與水平面相 對水平，過了最低點后，坯體1后盤葉又與水平面相對水平。
權利要求一種日用陶瓷弧形淋釉裝置，在現有的閉環淋釉線生產線的基礎上，對淋釉器下方的輸送帶部份進行改造，使坯體(1)在淋釉時改變坯體盤葉面與水平面的角度，其特征在于，所述的背面淋釉器(3)下方一段輸送帶(5)設置有拱形皮帶導向條(4)，拱形皮帶導向條(4)的支架(6)連接機架，正面淋釉器(7)下方一段凸形皮帶(9)設置有凹弧形皮帶導向條(8)，凹弧形皮帶導向條(8)的支架(10)連接機架。
2. 根據權利要求l所述的日用陶瓷弧形淋釉裝置，其特征在于，所述的背面淋釉器(3) 的釉幕正對拱形皮帶導向條(4)的最高點。
3. 根據權利要求l所述的日用陶瓷弧形淋釉裝置，其特征在于，所述的正面淋釉器(7) 的釉幕正對凹弧形皮帶導向條(8)的最低點。
專利摘要本實用新型涉及一種日用陶瓷弧形淋釉裝置，在現有的閉環淋釉線生產線的基礎上，對淋釉器下方的輸送帶部分進行改造，使坯體在淋釉時改變坯體盤葉面與水平面的角度，特征是所述的背面淋釉器下方一段輸送帶設置有拱形皮帶導向條，拱形皮帶導向條的支架連接機架，正面淋釉器下方一段凸形皮帶設置有凹弧形皮帶導向條，凹弧形皮帶導向條的支架連接機架。與現有技術相比能將盤類、斗碗類產品的坯體直接放到淋釉線中去施釉，具有生產效率高，施釉質量好，為企業減少用工，減輕工人勞動強度等優點。
文檔編號C04B41/86GK201485391SQ20092014121
公開日2010年5月26日 申請日期2009年8月17日 優先權日2009年8月17日
發明者凌愷, 梁康寧 申請人:凌愷;梁康寧