一種減反射玻璃的制備方法及其鍍膜設備的制作方法

一種減反射玻璃的制備方法及其鍍膜設備的制作方法
【專利摘要】本發明公開了一種減反射玻璃的制備方法及其鍍膜設備。該設備包括儲液罐和鍍膜反應器，在儲液罐和鍍膜反應器之間由前至后串接有流量計和加壓泵；其特點為：該鍍膜反應器掛接在退火窯內的頂部，其下端距玻璃傳輸輥道的距離為20-40mm；流量計通過加壓泵與鍍膜反應器的鍍液進口相接；鍍膜反應器的鍍液出口通過排液管與儲液罐頂部的排液管端口相接，形成循環回路。其制備方法包括步驟：1）配制鍍液；放置3-5天，使其充分均化；2）將均化的鍍液放入儲液罐中，利用加壓泵產生的高壓，經霧化噴嘴霧化，噴鍍到通過的玻璃板面上，加工成減反射玻璃；其具有成本低、膜層材料與基體玻璃結合牢、耐侯性強，無廢氣產生等優勢；有益于推廣應用。
【專利說明】一種減反射玻璃的制備方法及其鍍膜設備
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種減反射玻璃的制備方法及其鍍膜設備，屬于浮法玻璃深加工【技術領域】。
【背景技術】
[0002]減反射玻璃，是在玻璃表面鍍制增透膜，降低玻璃表面的反射率，使玻璃表面具有低反射和高透視性能，也稱為低反射玻璃、防眩玻璃。普通玻璃的反射率一般在8%左右，存在著眩光刺眼和透射影像的清晰度低等問題，甚至造成環境的光污染。減反射玻璃將光的反射率由8%降低到2-3%以下，同時使得90%以上的光線可以穿透，創造了清晰透明的視覺空間，極大地減少了玻璃的反光，提高了玻璃的透視效果。減反射玻璃已廣泛用于光伏電池、電視拼接墻、平板電視、背投電視、液晶顯示器、觸摸屏、工業儀表、高級像框及需應用低反射高穿透玻璃的場合等等。
[0003]減反射的膜系材料和工藝很多，減反射玻璃膜系材料主要有:Si02、MgF2、ZnSe等單種或多種材料混合單層或多層膜。主要工藝有:磁控濺射鍍膜方法、凝膠溶膠鍍膜方法、滾涂鍍膜方法，以上工藝都是必須先將成品浮法玻璃經切裁、磨邊、清洗、再進行鍍膜處理；由于是間歇式生產，效率低，成本高，而且膜層牢固度不強，使用壽命短，嚴重阻礙了該技術的推廣應用。

【發明內容】

[0004]為了解決上述現有技術中存在的缺陷，本發明目的是提供一種可在浮法玻璃生產線上直接制備減反射玻璃的方法，同時還提供了實現該方法的專用鍍膜設備。
[0005]為了實現 上述目的，本發明采用如下技術方案:一種減反射玻璃的鍍膜設備，其位于浮法玻璃生產線上，它包括儲液罐和鍍膜反應器；其特點為:所述鍍膜反應器的頂端懸掛且固定在所述浮法玻璃生產線的退火窯內腔頂部；該鍍膜反應器為一長方體的套層結構，由內至外依次設有鍍液腔、冷卻液腔和保溫層；在保溫層兩側壁的外側各設有I個與該保溫層側壁貼設的廢氣收集倉；所述鍍液腔底板、冷卻液腔底板和保溫層底板構成所述鍍膜反應器的底板；2個所述廢氣收集倉的底板平齊均低于所述鍍膜反應器的底板且分別位于該鍍膜反應器底板的兩側，廢氣收集倉的底板與鍍膜反應器底板之間留有開口，構成所述廢氣收集倉的廢氣吸入口 ；在該鍍膜反應器的底板上設有若干由鍍液腔內向保溫層外垂直穿設的霧化噴射裝置；該霧化噴射裝置的底端距通過所述退火窯內的玻璃板面的垂直距離為 20-40mm ；
在該底板上設有若干由鍍液腔內向保溫層外垂直穿設的霧化噴射裝置；該霧化噴射裝置的底端距通過所述退火窯內的玻璃板面的垂直距離為20-40mm ；
所述儲液罐的液體出口通過一進液管路與該鍍膜反應器的鍍液進口連通，鍍膜反應器的鍍液出口通過一排液管路與該儲液罐的液體入口連通；在所述進液管路上，由儲液罐的液體出口至鍍膜反應器的鍍液進口之間依次串接有雙路流量計、流量控制閥、加壓泵和一球閥；所述進液管路和所述排液管路將所述儲液罐和所述鍍膜反應器連通構成一鍍液循環回路。
[0006]上述的霧化噴射裝置由霧化噴嘴套管和霧化噴嘴構成；該霧化噴嘴套管的頂端與鍍液腔底板的下表面固接，霧化噴嘴套管的本體穿設于冷卻液腔底板和保溫層底板且與該保溫層底板的下表面固接；在鍍液腔底板上相對于霧化噴嘴套管頂端相接處各開有直徑小于該霧化噴嘴套管內徑的通孔；由通孔向下穿設于所述霧化噴嘴套管且由其下端伸出的霧化噴嘴。
[0007]上述的鍍膜反應器呈長方體結構，保溫層的頂部與2個廢氣收集倉的頂部平齊，其上水平固定有一橫梁；所述鍍膜反應器通過該橫梁與所述退火窯內腔頂部的鋼板固定連接；2個廢氣收集倉的廢氣吸入口由鍍膜反應器底板距廢氣收集倉底板之間的垂直距離為10-20mm;在每個廢氣收集倉的長向兩端壁的上側分別裝有與外設的廢氣收集裝置連通的廢氣排氣管。
[0008]上述的霧化噴嘴套管沿所述鍍腔腔底板的中心線長向均布有6-12個，寬向均布有2-3排，排與排之間的通孔互為錯位；每個霧化噴嘴下端的開口處裝有噴嘴塞。
[0009]在冷卻液腔與鍍液腔上的鍍液進口同端的壁板上設有冷卻液出口和冷卻液進口 ；其中，冷卻液出口位于該端壁板的上部，冷卻液進口位于該端壁板的下部；所述冷卻液進口和冷卻液出口的外端均穿通所述保溫層且通過與其連接的管路分別與外設冷卻液泵的出入口連通。
[0010]上述的保溫層和2個廢氣收集倉的長度相同，均為6000-12000mm，構成該鍍膜反應器的長度；2個廢氣收集倉外壁之間的距離為1000-1900mm，構成該鍍膜反應器的寬度；由鍍膜反應器橫梁的頂部至廢氣收集倉底部之間的距離為730-1240mm，構成該鍍膜反應器的高度；其中，鍍液腔腔內的長度為5700-11400mm，寬度為300-500mm，高度為400-600mm ;圍設在鍍液腔外周的所述冷卻液腔，其厚度相同，均為100-200mm ;圍設在冷卻液腔外圍的所述保溫層，其厚度相同，均為50-100mm;2個所述廢氣收集倉的橫向寬度相同，均為200_400mm。
[0011]上述進氣管路中設置的雙路流量計為2個并聯相接的流量計組合而成；每路流量計的兩端均串接有鍍液流量控制用的入口球閥和出口球閥，通過入口球閥和出口球閥的開關控制流量計的流通和斷開；上述的加壓泵與上述流量控制閥連接的管路上和上述加壓泵與并接的所述入口球閥出口處連接的管路上各串接有減震金屬軟管。
[0012]上述鍍液腔的壁板由耐腐蝕鋼板焊接而成；冷卻液腔的壁板由耐高溫鋼板焊接而成；保溫層由耐熱金屬外套內充填硅酸鋁纖維氈構成；2個廢氣收集倉的壁板均由耐熱金屬板焊接而成。
[0013]相鄰2個霧化噴嘴套管之間的間距均為50_100mm ;相鄰兩排霧化噴嘴套管之間的間距為50-100mm ;每個霧化噴嘴伸出霧化噴嘴套管的距離為5_10mm ;霧化噴嘴與其鍍液腔底板通孔的固接為螺紋連接或焊接；霧化噴嘴下端與該霧化噴嘴套管底端之間的固接為螺紋連接。
[0014] 為了實現上述目的，本發明同時還提供了一種利用上述的鍍膜設備制備減反射玻璃的方法，它包括浮法玻璃生產線成型玻璃的步驟以及在所述玻璃進入且通過退火窯時，所述鍍膜反應器啟動，由所述霧化噴嘴垂直向下方行進中的玻璃板面上噴涂鍍液，在該玻璃板面上沉積形成減反射膜層的步驟；其具體操作如下:
1)配制所述鍍液；按重量份數取:硅源90~95份、氟源摻雜劑3~7份、穩定劑0.2~I份、催化劑0.1~I份和氧化劑I~3份預先混合均勻，放置3-5天，使其充分均化；
2)將步驟I)均化的鍍液放入儲液罐中，通過加壓泵打入鍍膜反應器的鍍液腔內，利用所述加壓泵加壓形成的高壓，通過所述霧化噴嘴使其鍍液霧化，噴射到通過的所述玻璃板面上，形成一層所述減反射膜層；
其中，所述鍍膜反應器掛接于所述退火窯內500-600°C的溫度區域內。
[0015]上述步驟I)中所用的硅源可選用硅酸乙酯、正硅酸丁酯或硅烷中任一種；所用的氟源摻雜劑可選用三氟乙酸或氟化鎂中任一種；所用的穩定劑可選用乙酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯或甲基異丁基酮中任一種；所用的催化劑可選用氨水或水中任一種；所用的氧化劑可選用雙氧水或次氯酸鈉中任一種。
[0016]上述步驟2)中，加壓泵的加壓壓力為5~IOMPa ；
上述步驟3)中，沉積鍍液形成的減反射膜厚度為200-500nm。
[0017]由于采用了上述技術方案，本發明的有益效果如下:1)本發明利用浮法玻璃生產時，玻璃成型后其表面溫度高、活性強的特點，在浮法玻璃生產線的退火窯中直接制備減反射玻璃，充分利用了玻璃板熱量，將減反射膜層材料噴到行進中的玻璃表面上進行分解、沉積，在其玻璃表面形成一層增透膜的方法制備成減發射玻璃。有效降低了生產成本、膜層材料與基體玻璃結合牢、耐侯性強。2)鍍膜反應器的結構簡單，易于操作，霧化噴嘴的設置使其鍍液噴射均勻，有效保證了玻璃板面上膜層的平整度。3 )整個鍍膜設備循環設置，通過管路全封閉連接，鍍液可循環利用，生產過程中產生的廢氣隨時由廢氣吸入口吸入，并由廢氣排氣管隨時排出，不污染膜層，保證膜層的純凈度，有效提高了減反射膜的質量。4)由于鍍液中摻加了含氟的二氧化硅基膜 ，其折射率低；又由于膜層反射率與基體玻璃不同，光具有波的特性，利用了光的干涉原理，使同一波長的反射光在反射時正好產生干涉現象，使膜層反射與基體玻璃反射正好抵消，達到降低玻璃反射率的目的。5)由于有氧化劑摻入鍍液中，化學反應完全，鍍膜原料利用率高，提高了鍍膜效率。6)所用的鍍液為單一流體，均勻性好，通過噴嘴時，液滴細小，大小均勻，產生霧化效果可有效保證膜層的均勻。7)由于采用高壓鍍液直接霧化，不用霧化介質，大大降低了廢氣量產生，即減少污染，又利于玻璃板面清潔。有益于推廣應用。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1為本發明鍍膜設備的整體結構連接示意圖。
[0019]圖2為圖1A-A向剖面結構示意圖。
[0020]圖3為圖1B-B向剖面結構示意圖。
[0021]圖4為圖1C向平面結構示意圖。
【具體實施方式】
[0022]本發明公開了一種減反射玻璃的鍍膜設備，其位于浮法玻璃生產線上，它包括儲液罐和鍍膜反應器；其中，鍍膜反應器的頂端懸掛且固定在浮法玻璃生產線上的退火窯內腔頂部；該鍍膜反應器為一長方體的套層結構，由內至外依次設有鍍液腔、冷卻液腔和保溫層；在保溫層兩側壁的外側各設有I個與該保溫層側壁貼設的廢氣收集倉；所述鍍液腔底板、冷卻液腔底板和保溫層底板構成所述鍍膜反應器的底板；2個廢氣收集倉的底板平齊均低于所述鍍膜反應器的底板且分別位于該鍍膜反應器底板的兩側，廢氣收集倉的底板與鍍膜反應器底板之間留有開口，構成該廢氣收集倉的廢氣吸入口 ；在該底板上設有若干由鍍液腔內向保溫層外垂直穿設的霧化噴射裝置；該霧化噴射裝置的底端距通過所述退火窯內的玻璃板面的垂直距離為20-40mm。
[0023]在儲液罐上設有液體出口和液體入口，鍍膜反應器上設有鍍液出口和鍍液進口 ；其中，液體出口通過一進液管路與該鍍膜反應器的鍍液進口連通，鍍膜反應器的鍍液出口通過一排液管路與該儲液罐的液體入口連通；在所述進液管路上，由儲液罐的液體出口至鍍膜反應器的鍍液進口之間依次串接有雙路流量計、流量控制閥、加壓泵和一球閥；所述進液管路和所述排液管路將所述儲液罐和所述鍍膜反應器連通構成一鍍液循環回路。
[0024]在冷卻液腔與鍍液進口同端的壁板上設有冷卻液出口和冷卻液進口 ；其中，冷卻液出口位于該端壁板的上部，冷卻液進口位于該端壁板的下部；所述冷卻液進口和所述冷卻液出口的外端穿通所述保溫層且通過與其連接的管路分別與外設冷卻液泵的出入口連通。
[0025]上述鍍液腔的壁板由耐腐蝕鋼板焊接而成；冷卻液腔的壁板由耐高溫鋼板焊接而成；保溫層由耐熱金屬外套內充填硅酸鋁纖維氈構成；廢氣收集倉的壁板由耐熱金屬板焊接而成。
[0026]所用的霧化噴射裝置由霧化噴嘴套管和霧化噴嘴構成；其中，若干霧化噴嘴套管的頂端以均布形式與鍍液腔底板的下表面固接，霧化噴嘴套管的管體穿設于冷卻液腔底板和保溫層底板且與該保溫層底板的下表面固接；在鍍液腔底板上相對于若干霧化噴嘴套管頂端的相接處各開有直徑小于該霧化噴嘴套管內徑的通孔；由通孔向下穿設有通過霧化噴嘴套管且由其下端伸出的霧化噴嘴；該霧化噴嘴下端伸出霧化噴嘴套管底端的間距為5-10mmo
[0027]若干霧化噴嘴套管在鍍腔腔底板的中心線長向均布有6-12個，相鄰2個霧化噴嘴套管之間的間距為50-100mm ;寬向均布有2_3排，相鄰兩排霧化噴嘴套管之間的間距為50-100mm ;排與排之間的通孔互為錯位；霧化噴嘴與鍍液腔底板通孔的固接為螺紋連接或焊接；每個霧化噴嘴下端的開口處裝有噴嘴塞，噴嘴塞與霧化噴嘴之間的連接為螺紋連接。
[0028]上述的鍍膜反應器呈長方體結構，其中，保溫層的頂部與廢氣收集倉的頂部平齊，其上水平固定有一橫梁；鍍膜反應器通過該橫梁與退火窯內腔頂部的鋼板固定連接；2個廢氣收集倉的底板平齊且低于保溫層的底板，留出的開口構成該廢氣收集倉的廢氣吸入口 ；在每個廢氣收集倉的長向兩端壁的上側分別裝有與外設的廢氣收集裝置連通的廢氣排氣管。
[0029]保溫層和廢氣收集倉的長度相等，均為6000-12000mm，構成該鍍膜反應器的長度；2個廢氣收集倉外壁之間的距離為1000-1900mm，構成該鍍膜反應器的寬度；由橫梁頂部至廢氣收集倉底部之間的距離為730-1240mm，構成該鍍膜反應器的高度；其中，鍍液腔的長度為5700-11400mm，寬度為300-500mm，高度為400-600mm ;圍設在鍍液腔外周的冷卻液腔，其厚度相同，均為100-200_ ;圍設在冷卻液腔外圍的保溫層，其厚度相同，均為50-100_ ；2個廢氣收集倉的橫向寬度相同，均為200-400mm ;該廢氣收集倉的底板距所述保溫層底板開口的間距為10-20mm。
[0030]本發明進液管路上安裝的雙路流量計為2個并聯相接的流量計組合而成；每路流量計的兩端均串接有鍍液流量控制用的入口球閥和出口球閥，通過入口球閥和出口球閥的開關控制流量計的流通和斷開；所述加壓泵與所述流量控制閥連接的管路上和所述加壓泵與并接的所述入口球閥出口處連接的管路上各串接有減震金屬軟管。
[0031]本發明還公開的第二個技術方案是，提供一種利用上述鍍膜設備制備減反射玻璃的方法，它包括浮法玻璃生產線成型玻璃的常規步驟；待成型玻璃進入且通過退火窯時，鍍膜反應器啟動，由霧化噴嘴垂直向下方行進中的玻璃板面上噴涂鍍液，通過化學氣相沉積法在該玻璃板面上沉積形成減反射膜層的步驟；該鍍膜反應器裝在退火窯內腔500-600°C的溫度區域內，其具體操作如下:
O配制所用的鍍液；按重量份數取:硅源90~95份、氟源摻雜劑3~7份、穩定劑
0.2~I份、催化劑0.1~I份和氧化劑I~3份預先混合均勻，放置3-5天，使其充分均化；放進儲液罐中通過加壓泵打入鍍膜反應器鍍液腔，利用加壓泵產生的高壓，通過霧化噴嘴霧化，噴鍍玻璃板面，形成一層具有增透性能薄膜，使玻璃具有減反射性能。
[0032]2)將步驟I)均化的鍍液放入儲液罐中，通過加壓泵加壓至5~IOMPa打入鍍膜反應器的鍍液腔內，利用加壓后形成的高壓，通過霧化噴嘴使其鍍液霧化，再噴射到通過退火窯的玻璃板面上，形成一層厚度為200-500nm的減反射膜層。
[0033]其中，步驟I)中所用的硅源可以選用硅酸乙酯、正硅酸丁酯或硅烷中的任一種；所用的氟源摻雜劑可以選用三氟乙酸或氟化鎂中的任一種；所用的穩定劑為乙酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯或甲基異丁基酮中任一種；所用的催化劑為氨水或水中任一種；所用的氧化劑為雙氧水或次氯酸鈉中任一種。
[0034]以下結合附圖對本發明的技術方案作進一步的詳細說明。
[0035]如圖1、圖2 、圖3所示，本發明的減反射玻璃的鍍膜設備包括儲液罐1、雙路流量計、流量控制閥6、加壓泵9、鍍膜反應器13串接為一體構成回路。
[0036]具體設置有:儲液罐1，廢液排出口球閥2，入口球閥3、3’，流量計4、4’，出口球閥
5、5’，流量控制閥6、減震金屬軟管8、加壓泵9、減震金屬軟管10，進液管11、球閥12和鍍膜反應器13 ;球閥14，鍍液排液管15，鍍液腔16，冷卻液腔17，保溫層18，冷卻液出管19，冷卻液進管20，廢氣收集倉21、21’，廢氣排氣管22、22’，橫梁23，霧化噴嘴24，噴嘴塞25，玻璃板面26。
[0037]其中，儲液罐I用耐腐蝕鋼板焊接而成，在儲液罐I側壁的下部設有一液體出口，頂部設有一液體入口，在儲液罐I的底端設有一廢液排出口，通過一排液管路與外設的廢液收集器連通，該排液管路監控該廢液排出口處還串接有一控制排液流量的球閥2，所用的排液管路選用耐腐蝕鋼管。
[0038]與儲液罐I液體出口處至鍍膜反應器13鍍液進口的管路上，由前至后依次串接有一雙路流量計、流量控制閥6和加壓泵9 ;其中，雙路流量計由2個流量計4、4’并聯相接，每個流量計的前端均串接有入口球閥3、3’，后端均串接有出口球閥5、5’ ；流量控制閥6串接在雙路流量計的出口端；在正常生產運行中，雙路設置的2個流量計4、4’ 一路工作，另一路備用。均通過各自前端串接的入口端球閥和出口端球閥的開或關，控制兩路設置的流量計工作或停止。[0039]為了緩沖加壓泵9運行時的震動，在該加壓泵9的前后端均裝有減震金屬軟管8和減震金屬軟管10，前面的減震金屬軟管8與流量控制閥6連接，后減震金屬軟管10與鍍膜反應器13的鍍液進口處連接，鍍膜反應器13的鍍液出口處通過一鍍液排液管15與儲液罐I頂端開設的液體入口端連通。
[0040]鍍膜反應器13為一多層的長方體結構，其長度為6000-12000mm，寬度為1000-1900mm，高度為730_1240mm，其內腔為鍍液腔16、鍍液腔16的外圍為一冷卻液腔17、冷卻液腔17的外圍為保溫層18 ;在保溫層18的長向兩側壁外側各裝有一個長方體的廢氣收集倉21、21’。
[0041]其中，鍍液腔16的長度為5700-11400mm，寬度為300-500mm，高度為400-600mm ；鍍液腔16由耐腐蝕鋼板焊接而成，其板厚為5-8mm;圍在鍍液腔16四周的為冷卻液腔17，其四周的厚度相同，均為100-200_，冷卻液腔17由耐高溫鋼板焊接而成，該鋼板可耐600-700°C的高溫；該鋼板的厚度為5-8mm ;圍在冷卻液腔17四周的為保溫層18，其四周的厚度相同，均為50-100 mm ;該保溫層18由耐熱金屬外套內填硅酸鋁纖維氈構成，其耐熱溫度為600-700°C;保溫層18的層厚為40-90mm ;除此之外，還可以采用其它保溫效果良好的保溫材料作保溫層。
[0042]2個廢氣收集倉21、21’分別位于保溫層18長向的兩側壁外側，其截面寬度相同，均為200-400mm ;在廢氣收集倉21、21’各自的長向兩端壁的上方均裝有廢氣排氣管22、22’，廢氣收集倉21、21’的頂端與保溫層18的頂端平齊，其上固接有一平面大于2個廢氣收集倉頂部和保溫層18頂部平面的橫梁23 ;橫梁23與退火窯頂部的鋼梁固定連接，將鍍膜反應器13懸掛固接在退火窯頂板下方。
[0043]2個廢氣收集倉21、21’的底板平齊，均低于保溫層18底板，2個廢氣收集倉21、21’底板的內端與保溫層18底板之間為一開口，該開口由廢氣收集倉21、21’底板至保溫層18底板的垂直距離為10-20mm，構成廢氣收集倉21、21’的廢氣吸入口。
[0044]2個廢氣收集倉21、21’ 由耐熱金屬板焊接而成，其耐熱金屬板的厚度為8_10mm ;由廢氣吸入口吸入的廢氣通過2個廢氣收集倉各自長向兩端壁上的廢氣排氣管22、22’經與其連接的廢氣泵將廢氣抽走。
[0045]鍍膜反應器13的鍍液進口處和鍍液出口處分別與鍍液腔的內腔相通；具體為:鍍液腔16的長向一端開有鍍液進液管口，另一端開有鍍液排液管口 ；其中，鍍液進液管口連接有與后減震金屬軟管10相接的鍍液進液管11，該鍍液進液管11在臨近鍍膜反應器13 A口端的位置串接有控制鍍液進入量的球閥12 ;鍍液排液管口連通有鍍液排液管15，鍍液排液管15在臨近鍍膜反應器13出口端的位置串接有控制鍍液排出量的球閥14 ;該鍍液排液管15將鍍膜反應器13內排出的廢液返送回儲液罐I內。
[0046]在冷卻液腔17與鍍液腔16的鍍液入口端同端的端壁上部設有冷卻液出液口，該端壁下部設有冷卻液進液口 ；其中，冷卻液進液口通過一冷卻液進液管20與外設冷卻泵出口端連通；冷卻液出口通過一冷卻液出液管19與外設的冷卻液回收罐連通。
[0047]位于冷卻液腔17外圍的保溫層18，其頂板與橫梁23焊接固定；在保溫層18的兩側各焊接有與保溫層18頂部平齊且長度相同的長方體廢氣收集倉21、21’，廢氣收集倉21、21’的頂板固定焊接于橫梁23的下方，廢氣收集倉21、21’兩端的側板距其頂板30-50mm處各裝有出口與外界相通的廢氣排出管22、22’ ；廢氣收集倉21、21’底板的端口處距保溫層18底板之間的垂直距離為10-20mm;該間距構成了廢氣吸入口 ；兩個廢氣收集倉底部的吸入口分別將生產過程中的廢氣吸入各自的廢氣收集倉內，再由各自的廢氣排出管22、22’排出進入外設的廢氣處理裝置中，使廢氣的收集和排出始終處于封閉狀態，不會造成環境污染。
[0048]若干個霧化噴嘴套管27布設于鍍液腔16長向的底板上，并由鍍液腔16的底板垂直向下穿設；在霧化噴嘴套管27內各自套裝有霧化噴嘴24 ;霧化噴嘴24的上端與鍍液腔內腔相通，霧化噴嘴24穿過霧化噴嘴套管27內向下伸出，其伸出的距離為5-10mm ;在霧化噴嘴的下開口處裝有噴嘴塞25 ;霧化噴嘴套筒27的頂端與鍍液腔16底板的下表面、霧化噴嘴套筒27的底端與冷卻液腔17底板和保溫層18底板的開孔相接處為焊接。
[0049]若干個霧化噴嘴套管27沿該鍍膜反應器13的長向中心線均布，其寬度方向布置2-3排，兩排間的霧化噴嘴套管錯位排布；在本實施方式中裝有3排霧化噴嘴套管，其中間的一排位于鍍液腔16底板長向的中心線上，另2排霧化噴嘴套管以相等間距與中間排的霧化噴嘴套管平行，相鄰兩排霧化噴嘴套管間的距離相等，均為50-100mm ;每排裝有7個霧化噴嘴套管27，相鄰兩個霧化噴嘴套管27之間的距離相等，均為50-100mm ;每個霧化噴嘴套管27內套設有I個向下開口的霧化噴嘴24，霧化噴嘴24的長度長于霧化噴嘴套管27的長度，其頂端伸向鍍液腔16內，底端伸出霧化噴嘴套管27的底端，開口朝向退火窯內通過的平板玻璃上方；霧化噴嘴24與鍍液腔16底板之間的連接為螺紋連接或焊接；每個霧化噴嘴24的開口端均裝有噴嘴塞25，噴嘴塞25與霧化噴嘴24開口之間的連接為螺栓連接。
[0050]鍍液通過噴嘴霧化后噴射到下面行進經過的玻璃板面26上。
[0051]該減反射玻璃的鍍膜設備懸掛固接于浮法玻璃生產線上的退火窯500-600°C的溫度區域內，其下方經過的輥道上為玻璃板面26，玻璃板面26距霧化噴嘴的距離為20-40mm。
[0052]如圖4所示，由該鍍膜反應器的上端垂直向下看，霧化噴嘴套管沿該鍍液腔16的長向中心線均布有I排為6-12個 ，本實施方式中裝有7個；相鄰兩個霧化噴嘴套管之間的距離相等，均為50-100mm ;寬向布設有2_3排，本實施方式中裝有3排，另外2排分別位于中心線I排的兩側；相鄰兩排霧化噴嘴套管之間的間距相等，均為50-100mm ;相鄰兩排間的霧化噴嘴套管互為錯位排布；每個霧化噴嘴套管內套裝有霧化噴嘴24，每個霧化噴嘴24下端的開口處均裝有與該霧化噴嘴匹配的噴嘴塞；噴嘴塞與霧化噴嘴24端口處螺紋連接。
[0053]在鍍液腔16外圍的冷卻液腔17四周的厚度相同；冷卻液腔調7外圍的保溫層18四周的厚度相同；與鍍液腔相通的鍍液進液管口連接有鍍液進液管，該鍍液進液管在臨近鍍液進液管口的位置串接有用于控制鍍液進入量的球閥12 ;與鍍液腔相通的鍍液排液管口連接有一與儲液罐相通的鍍液排液管，該鍍液排液管在臨近鍍液排液管口的位置串接有用于控制鍍液排出量的球閥14。
[0054]鍍液在保溫層18的兩側各焊接有與保溫層18長度相同的長方體廢氣收集倉21、21’，廢氣收集倉21、21’的頂板固定焊接于橫梁23的下方，廢氣收集倉21、21’兩端的側板距其頂板30-50mm處各裝有出口與外設的廢氣處理裝置連通的廢氣排出管22、22’。
[0055]本發明上述的技術方案中，所用的流量計、流量控制閥和球閥均可選用市售的任何產品，所用的減震金屬軟管、加壓泵均為通用產品。
[0056]本實施方式中，與鍍液腔16相通的鍍液進液管11上串接的球閥12和鍍液排液管15上串接的球閥14選用的型號相同，均為市場所購產品，其型號為Q41F-100P ;與加壓泵9串接的減震金屬軟管8和減震金屬軟管10采用型號為3161，DN25-40的減震金屬軟管；所用的加壓泵，其型號為40LYFSB-80加壓泵。
[0057]本實施方式中，冷卻液腔由普通的不銹鋼材質，如方鋼密封焊接而成；該冷卻液腔內充滿有導熱循環油，導熱循環油為市購產品，其型號為100#的硅油。除此之外，冷卻液腔還可用其它不銹鋼材質加工。
[0058]所用的霧化噴嘴和噴嘴塞均可根據生產規模的需要選用市售的常規霧化噴嘴及匹配的噴嘴塞。
[0059]在本發明鍍膜設備中所用的連接管路均可選用市售的耐腐蝕不銹鋼管，其規格為3161，DN25-40不銹鋼管；管徑的大小與該設備中對接的接口口徑大小匹配。
[0060]本發明利用上述的鍍膜設備制備減反射玻璃的方法，由下述具體實例進一步說明:
實例1:經過常規浮法玻璃生產線成型的平板玻璃，進入退火窯500-600°C的溫度區域內，啟動鍍膜反應器，由霧化噴嘴垂直向下方行進中的玻璃板面上噴涂鍍液，通過化學氣相沉積法在該玻璃板面上沉積形成減反射膜層；其中鍍液的配制:
O按重量份數取:硅源選用硅酸乙酯90份、氟源摻雜劑選用三氟乙酸7份、穩定劑用乙酸乙酯0.2份、催化劑用氨水0.1份和氧化劑用雙氧水2.7份預先混合均勻,放置5天，使其充分均化。
[0061]2)將步驟I)均化的鍍液放入儲液罐中，通過加壓泵加壓至5~lOMPa，;然后打入鍍膜反應器的鍍液腔內；利用加壓泵加壓形成的高壓，通過霧化噴嘴使其鍍液霧化，再噴射到通過的所述玻璃板面上，形成一層厚度為200-500nm的減反射膜層。
[0062]實例2:基本步驟同實例1，不同處在于:鍍液的配制:硅源選用正硅酸丁酯95份、氟源摻雜劑選用氟化鎂3份、穩定劑用甲基丙烯酸甲酯0.6份、催化劑用氨水0.4份和氧化劑用次氯酸鈉I份預先混合均勻，放置3天，使其充分均化。
[0063]實例3:基本步驟同實例1，不同處在于:鍍液的配制:硅源選用硅烷92份、氟源摻雜劑選用氟化鎂3份、穩定劑用甲基丙烯酸丁酯或甲基異丁基酮I份、催化劑用氨水I份和氧化劑用雙氧水3份預先混合均勻，放置5天，使其充分均化。
[0064]上述實例中鍍液形成減反射膜層的厚度通常在200_500nm，一般根據產品需求確定。
[0065]本發明的工作原理為:在浮法玻璃退火窯500-600°C區域，利用退火窯溫度，鍍膜反應器將高壓鍍液經過霧化噴嘴擠壓，將鍍液切割成細小、大小均勻的微細霧滴，產生霧化效果，然后分解、沉積在經過退火窯的玻璃板面上，形成多孔狀摻氟二氧化硅薄膜，其折射率低，由于膜層反射率與基體玻璃不同，光具有波的特性，利用了光的干涉原理，使同一波長的反射光在反射時正好產生干涉現象，使膜層反射與基體玻璃反射正好抵消，達到降低玻璃反射率的目的。
[0066]本發明所用的方法是將鍍液直接霧化，減少鍍液在高溫環境下分解，分解沉積的氧化物穩定，膜層氣孔率高，都是有利于減低膜層折射率的優勢所在。用本發明的設備和方法得到的減反射玻璃，玻璃透過率大于95%，反射率小于2%。
【權利要求】
1.一種減反射玻璃的鍍膜設備，其位于浮法玻璃生產線上，它包括儲液罐和鍍膜反應器；其特征在于:所述鍍膜反應器的頂端懸掛且固定在所述浮法玻璃生產線的退火窯內腔頂部；該鍍膜反應器為一套層結構，由內至外依次設有鍍液腔、冷卻液腔和保溫層；在保溫層兩側壁的外側各設有I個與該保溫層側壁貼設的廢氣收集倉；所述鍍液腔底板、冷卻液腔底板和保溫層底板構成所述鍍膜反應器的底板；2個所述廢氣收集倉的底板平齊均低于所述鍍膜反應器的底板且分別位于該鍍膜反應器底板的兩側，廢氣收集倉的底板與鍍膜反應器底板之間留有開口，構成所述廢氣收集倉的廢氣吸入口 ；在該鍍膜反應器的底板上設有若干由鍍液腔內向保溫層外垂直穿設的霧化噴射裝置；該霧化噴射裝置的底端距通過所述退火窯內的玻璃板面的垂直距離為20-40mm ； 所述儲液罐的液體出口通過一進液管路與該鍍膜反應器的鍍液進口連通，鍍膜反應器的鍍液出口通過一排液管路與該儲液罐的液體入口連通；在所述進液管路上，由儲液罐的液體出口至鍍膜反應器的鍍液進口之間依次串接有雙路流量計、流量控制閥、加壓泵和一球閥；所述進液管路和所述排液管路將所述儲液罐和所述鍍膜反應器連通構成一鍍液循環回路。
2.如權利要求1所述的鍍膜設備，其特征在于:所述霧化噴射裝置由霧化噴嘴套管和霧化噴嘴構成；所述霧化噴嘴套管的頂端與所述鍍液腔底板的下表面固接，霧化噴嘴套管的管體穿設于所述冷卻液腔底板和保溫層底板且與該保溫層底板的下表面固接；在所述鍍液腔底板上相對于所述霧化噴嘴套管頂端相接處各開有直徑小于該霧化噴嘴套管內徑的通孔；所述霧化噴嘴由該通孔向下穿設于所述霧化噴嘴套管且由其下端伸出； 所述鍍膜反應器呈長方體結構，所述保溫層的頂部與所述廢氣收集倉的頂部平齊，其上水平固定有一橫梁；所述鍍膜反應器通過該橫梁與所述退火窯內腔頂部的鋼板固定連接；所述廢氣吸入口由所述鍍膜反應器底板距所述廢氣收集倉底板之間的垂直距離為10-20mm;在每個廢氣收集倉的長向兩端壁的上側分別裝有與外設的廢氣收集裝置連通的廢氣排氣管。
3.如權利要求2所述的鍍膜設備，其特征在于:所述霧化噴嘴套管沿所述鍍液腔底板的中心線長向均布有6-12個，寬向均布有2-3排，排與排之間的通孔互為錯位；每個霧化噴嘴下端的開口處裝有噴嘴塞； 在所述冷卻液腔與所述鍍液進口同端的壁板上設有冷卻液出口和冷卻液進口 ；其中，冷卻液出口位于該端壁板的上部，冷卻液進口位于該端壁板的下部；所述冷卻液進口和所述冷卻液出口的外端穿通所述保溫層且通過與其連接的管路分別與外設冷卻液泵的出入口連通。
4.如權利要求3所述的鍍膜設備，其特征在于:所述保溫層和所述廢氣收集倉的長度相等，均為6000-12000mm，構成所述鍍膜反應器的長度；2個所述廢氣收集倉外壁之間的距離為1000-1900mm，構成該鍍膜反應器的寬度；所述橫梁頂部至所述廢氣收集倉底部之間的距離為730-1240mm，構成該鍍膜反應器的高度；其中，所述鍍液腔的長度為5700-11400mm,寬度為300-500mm，高度為400-600mm ;圍設在所述鍍液腔外周的所述冷卻液腔，其厚度相同，均為100-200mm ;圍設在所述冷卻液腔外圍的所述保溫層，其厚度相同，均為50-100mm ；2個所述廢氣收集倉的橫向寬度相同,均為200_400mm。
5.如權利要求1-4任一項所述的鍍膜設備，其特征在于:所述雙路流量計為2個并聯相接的流量計組合而成；每路流量計的兩端均串接有鍍液流量控制用的入口球閥和出口球閥，通過入口球閥和出口球閥的開關控制流量計的流通和斷開；所述加壓泵與所述流量控制閥連接的管路上和所述加壓泵與并接的所述入口球閥出口處連接的管路上各串接有減震金屬軟管。
6.如權利要求5所述的鍍膜設備，其特征在于:所述鍍液腔的壁板由耐腐蝕鋼板焊接而成；所述冷卻液腔的壁板由耐高溫鋼板焊接而成；所述保溫層由耐熱金屬外套內充填硅酸鋁纖維氈構成；所述廢氣收集倉的壁板由耐熱金屬板焊接而成。
7.如權利要求6所述的鍍膜設備，其特征在于:相鄰2個所述霧化噴嘴套管之間的間距為50-100mm ;相鄰兩排所述霧化噴嘴套管之間的間距為50-100mm ;所述霧化噴嘴下端伸出所述霧化噴嘴套管底端的間距為5-10mm ;所述霧化噴嘴與所述鍍液腔底板通孔的固接為螺紋連接或焊接；所述噴嘴塞與所述霧化噴嘴之間的連接為螺紋連接。
8.一種利用權利要求1 一 7任一項所述鍍膜設備制備減反射玻璃的方法，它包括浮法玻璃生產線成型玻璃的常規步驟以及在所述玻璃進入且通過退火窯期間，所述鍍膜反應器啟動，由所述霧化噴嘴垂直向下方行進中的玻璃板面上噴涂鍍液，在該玻璃板面上沉積形成減反射膜層的步驟；其具體操作如下: 1)配制所述鍍液；按重量份數取:硅源90~95份、氟源摻雜劑3~7份、穩定劑0.2~I份、催化劑0.1~I份和氧化劑I~3份預先混合均勻，放置3-5天，使其充分均化； 2)將步驟I)均化的鍍液放入儲液罐中，通過加壓泵打入鍍膜反應器的鍍液腔內，利用所述加壓泵加壓形成的高壓，通過所述霧化噴嘴使其鍍液霧化，噴射到通過的所述玻璃板面上，形成一層所述減反射膜層； 其中，所述鍍膜反應器掛接于所述退火窯內500-600°C的溫度區域內。
9.如權利要求8所述的方法，其特征在于:步驟I)所述硅源為硅酸乙酯、正硅酸丁酯或硅烷中任一種；所述氟源摻雜劑為三氟乙酸或氟化鎂中任一種；所述穩定劑為乙酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯或甲基異丁基酮中任一種；所述催化劑為氨水或水中任一種；所述氧化劑為雙氧水或次氯酸鈉中任一種。
10.如權利要求9所述的方法，其特征在于:步驟2)所述加壓泵加壓為5~IOMPa； 步驟3)沉積鍍液形成的減反射膜厚度為200-500nm。
【文檔編號】C03C17/00GK103466955SQ201310363764
【公開日】2013年12月25日 申請日期:2013年8月20日 優先權日:2013年8月20日
【發明者】王志平, 趙恩錄, 陳福, 黃俏, 高煒, 張文玲, 李軍明, 馮建業 申請人:秦皇島玻璃工業研究設計院