專利名稱：浮法在線生產鍍膜玻璃的方法
技術領域：
本發明涉及浮法在線生產鍍膜玻璃的方法，具體說是利用化學汽相淀積法在浮法玻璃生產線錫槽內玻璃帶表面淀積一層含硼硅膜。
英國專利1,507,465闡述了溫度至少400℃以上的熱玻璃帶表面，在無氧狀態下利用含硅烷的氣體熱分解淀積生成硅膜的方法，此膜是比較均勻，良好的太陽光控制膜。
英國專利1,573,154同時論述了增加一種能吸附電子的烯烴的化合物即乙烯，使硅烷氣體在熱玻璃帶表面分解時釋放電子，這樣增加鍍硅膜玻璃的抗堿性。
英國專利1,507,465和1,573,154敘述的硅烷分解條件都是在溫度為620-640℃，在氮、氫保護氣作用下，常壓狀況上玻璃拉引速度為360m/h進行，此條件下生產的玻璃可見光透過率為30—40％。
本發明為在錫槽內運動的熱玻璃帶提供了一種利用化學汽相淀積鍍含硼硅膜的方法。用這種方法制備含硼硅膜具有在相同溫度下淀積速度高、膜層比較厚、透過率比較低、反射率比較高的特點。
由于多晶硅薄膜淀積在表面反應速率控制區所涉及的化學過程主要是吸附和分解，硅烷的熱分解過程涉及到熱解從襯底向化學汽相分子的轉換，當襯底溫度一定，分解率一定時，淀積率將直接與所吸附反應劑的分子有關，而硅烷SiH4分子可視為部分地具有Si+—H-離子的形式； 具有這種極性分子可以被具有正電位的表面吸附，這樣，凡是能造成襯底表面電位更正的將有助于SiH4分子的吸附，產生更多的(Si-H★)，從而提高淀積率。
根據這一原理，本發明提供如下技術方案一種浮法在線生產鍍膜玻璃的方法，它包括a、應用反應器將鍍膜混合氣體通入錫槽內，使其熱分解進行化學反應，在運動的熱玻璃帶表面淀積一層薄膜；b、在錫槽中鍍膜區域內，錫液溫度為620—640℃，玻璃帶拉引速度為160—430m/h；c、鍍膜混合氣體主要成份是硅烷、硼烷和作為稀釋氣體的氮氣。
本發明的技術方案還包括鍍膜混合氣體中的硅烷和硼烷分別以氮氣作為稀釋氣體，其硅烷濃度為10％，硼烷濃度為15％。其硼烷與硅烷的體積比為0.6∶1000至3∶1000。其硼烷與硅烷的最佳體積比為2.4∶1000。
本發明所用氣體為硅烷(SiH4)、硼烷(B2H6)和氮氣(N2)的混合氣體。由于硼的摻入，將增加空穴，它的表面吸附將有助于表面是正電性，進而將促進多晶硅的淀積，使多晶硅淀積表面激活能從1.85eU降至1.77eU。
本浮法在線生產鍍膜玻璃的方法中，由于增加硼烷后表現有如下特點1、硅烷淀積速率增加了一倍，即從0.1um/min增至0.2um/min；膜厚相對增加，可見光透過率降至15—20％以下，可見光反射率增至40—50％。
2、在可見光透過率一定的條件下，可將浮法玻璃拉引速度提高到430m/h。這樣在原來基礎上提高機組利用率和玻璃產量，防止由于反復降速對機組產生的不良影響。
3、在玻璃拉引速度一定的條件下，通過調節硼烷與硅烷的比率，在不改變硅烷濃度條件下，可達到不同的可見光透過率。
4、通過摻入硼烷，使硅烷淀積速率高，使在一定的可見光透過率范圍內，減少了硅烷氣體的使用量，降低了生產成本。
實施例在浮法玻璃生產線上，應用反應器將鍍膜混合氣體送入錫槽內；常壓、還原氣氛下；錫液溫度為620—640℃，玻璃板拉引速度為395m/h條件下；硼烷和硅烷分別以氮氣作為稀釋氣體，其濃度分別為15％和10％；改變B2H6與SiH4的配比，檢測其透過率的變化
結果表明在玻璃板面溫度和拉引速度不變條件下，隨著硼烷比率的增加，鍍膜玻璃的透過率降低。當B2H6∶SiH4＝2.4∶1000時鍍膜效果達到最佳，透過率為20.4％，繼續增加B2H6比率，透過率沒有明顯變化。
本發明利用化學汽相淀積法熱解硅烷和硼烷氣體，對于鍍膜玻璃提高淀積速率，降低可見光透過率，增加可見光反射率，適合不同玻璃拉引速度，降低材料消耗，增加膜厚都是行之有效的方法。
權利要求
1.一種浮法在線生產鍍膜玻璃的方法，它包括a、應用反應器將鍍膜混合氣體通入錫槽內，使其熱分解進行化學反應，在運動的熱玻璃帶表面淀積一層薄膜；b、在錫槽中鍍膜區域內，錫液溫度為620—640℃，玻璃帶的拉引速度為160--430m/h；c、鍍膜混合氣體主要成份是硅烷和作為稀釋氣體的氮氣；其特征是鍍膜混合氣體中加入化合物氣體硼烷。
2.根據權利要求1所述的浮法在線生產鍍膜玻璃的方法，其特征是鍍膜混合氣體中的硅烷和硼烷分別以氮氣作為稀釋氣體，其硅烷濃度為10％，硼烷濃度為15％。
3.根據權利要求2所述的浮法在線生產鍍膜玻璃的方法，其特征是鍍膜混合氣體的硼烷與硅烷的體積比為0.6∶1000至3∶1000。
4.根據權利要求2所述的浮法在線生產鍍膜玻璃的方法，其特征是鍍膜混合氣體中硼烷與硅烷的體積比最佳為2.4∶1000。
全文摘要
本發明涉及浮法在線生產鍍膜玻璃的方法。該方法是在錫液溫度620-640℃，玻璃帶拉引速度160-430m/h條件下，應用反應器將主要包括硅烷、硼烷和作為稀釋氣體的氮氣的鍍膜混合氣體于錫槽內行進的熱玻璃帶上表面形成一種含硼多晶硅膜。該方法具有高淀積速率，低可見光透過率，高可見光反射率，適應不同玻璃拉引速度特點。
文檔編號C03C17/22GK1123255SQ9411830
公開日1996年5月29日 申請日期1994年11月22日 優先權日1994年11月22日
發明者汪建勛, 孔繁華, 劉軍波, 李春華, 趙明, 周秋林, 曹涯雁, 王偉, 趙年偉 申請人:秦皇島開發區藍光玻璃新技術公司