1.一種形成氧化物量子點的方法，所述方法包括：
提供用于形成氧化物量子點的前體材料；
將所述前體材料溶解于第一液體中，其中，所述氧化物量子點的成核得到促進；
提供第二液體；
將所述第二液體和所述第一液體加在一起以形成液體復合物；并且
控制所述液體復合物中的所述氧化物量子點的生長。
2.如權利要求1所述的方法，其中，所述第一液體是水性液體。
3.如權利要求1或2所述的方法，其中，所述第二液體是有機液體。
4.如前述權利要求中任一項所述的方法，其中，所述第二液體在所述第一液體中不混溶。
5.如權利要求4所述的方法，其中，所形成的液體復合物是多相的并且包括在所述第一液體和第二液體之間的液-液界面，由此使所述氧化物量子點的生長在所述液-液界面處得到控制。
6.如前述權利要求中任一項所述的方法，所述方法還包括向所述液體復合物中添加表面活性劑。
7.如前述權利要求中任一項所述的方法，所述方法還包括向所述液體復合物中添加堿。
8.如前述權利要求中任一項所述的方法，所述方法還包括在升高的溫度下處理所述液體復合物。
9.如權利要求8所述的方法，其中，溫度被升高至約50℃至約300℃。
10.如前述權利要求中任一項所述的方法，所述方法還包括在升高的壓力下處理所述液體復合物。
11.如權利要求10所述的方法，其中，壓力被升高至約1MPa至約20MPa。
12.如權利要求8至11中任一項所述的方法，其中，將多相的液體處理約1小時至約72小時。
13.如權利要求8至12中任一項所述的方法，其中，在處理所述液體復合物之后，對所述液體復合物進行提取以便進一步加工。
14.如權利要求13所述的方法，其中，所述進一步加工包括將所述液體復合物離心以獲得所述氧化物量子點的粉末。
15.如權利要求14所述的方法，其中，所述粉末通過洗滌而進一步純化。
16.如權利要求14或15所述的方法，其中，將所述粉末分散在溶劑中以形成包含所述氧化物量子點的透明溶膠。
17.如權利要求16所述的方法，所述方法還包括向所述溶膠中添加表面活性劑。
18.如權利要求16或17所述的方法，其中，將所述溶膠沉積在基板上以形成透明導電性氧化物膜。
19.如權利要求18所述的方法，其中，在將所述溶膠沉積在所述基板上之前，對所述基板進行預處理以降低其表面能。
20.如權利要求19所述的方法，其中，所述基板通過紫外照射來預處理。
21.如權利要求18至20中任一項所述的方法，其中，將所述透明導電性氧化物膜在環境條件下干燥。
22.如權利要求18至21中任一項所述的方法，其中，所述透明導電性氧化物膜通過紫外照射來干燥。
23.如權利要求18至22中任一項所述的方法，其中，將所述溶膠進一步沉積在所述基板上以形成更厚的透明導電性氧化物膜。
24.如權利要求18至23中任一項所述的方法，其中，將所述溶膠進一步沉積在所述基板上以形成第二透明導電性氧化物膜，所述第二透明導電性氧化物膜與第一透明導電性氧化物膜是分離的。
25.如權利要求18至24中任一項所述的方法，其中，利用噴墨印刷、噴霧印刷、旋涂、狹縫式模頭涂布、刮片涂布、絲網印刷/涂布、凹版印刷/涂布、刻花輥印刷/涂布、逗號棒印刷/涂布、微輥印刷/涂布、納米壓印印刷、棒涂、浸涂、接觸式涂布、非接觸式涂布或其組合來沉積所述溶膠。
26.一種在基板上形成透明導電性氧化物膜的方法，所述方法包括：
降低所述基板的表面能；
提供透明導電性氧化物的量子點；和
將所述量子點沉積于所述基板上以形成透明導電性氧化物膜。
27.如權利要求26所述的方法，其中，所述降低所述基板的表面能的步驟包括對所述基板進行紫外照射。
28.如權利要求26或27所述的方法，其中，將所述量子點沉積在所述基板上以使得所述透明導電性氧化物膜為特定的構造、圖案或設計。
29.如權利要求26至28中任一項所述的方法，其中，將所述量子點進一步沉積于所述基板上以形成第二透明導電性氧化物膜，所述第二透明導電性氧化物膜與第一透明導電性氧化物膜是分離的。
30.如權利要求26至29中任一項所述的方法，其中，將所述量子點進一步沉積于所述基板上以形成更厚的透明導電性氧化物膜。
31.如權利要求26至30中任一項所述的方法，其中，將所述透明導電性氧化物膜在環境條件下干燥。
32.如權利要求26至31中任一項所述的方法，其中，所述透明導電性氧化物膜通過紫外照射來干燥。
33.如權利要求26至32中任一項所述的方法，其中，將所述量子點分散在溶劑中以形成包含所述量子點的透明溶膠，且其中將所述溶膠沉積于所述基板上以形成所述透明導電性氧化物膜。
34.如權利要求33所述的方法，其中，在將所述溶膠沉積于所述基板上之前，將所述溶膠進行改性以減小其表面張力。
35.如權利要求33或34所述的方法，其中，利用噴墨印刷、噴霧印刷、絲網印刷/涂布、凹版印刷/涂布、刻花輥印刷/涂布、逗號棒印刷/涂布、微輥印刷/涂布、納米壓印印刷、旋涂、狹縫式模頭涂布、刮片涂布、棒涂、浸涂、接觸式涂布、非接觸式涂布或其組合來沉積所述溶膠。
36.如權利要求26至35中任一項所述的方法，其中，所述量子點根據權利要求1至17中任一項所述的方法形成。
37.一種包含權利要求26至36中任一項所述的透明導電性氧化物膜的基板。
38.如權利要求37所述的基板，其中，所述透明導電性氧化物膜由氧化物量子點形成，所述氧化物量子點根據權利要求1至17中任一項所述的方法形成。
39.如權利要求37或38所述的基板，其中，所述基板是透明的。
40.權利要求37至39中任一項所述的基板作為防風屏、擋風板、窗或玻璃面板的應用。
41.如權利要求40所述的應用，其中，所述透明導電性氧化物膜用于加熱所述基板，從而使所述基板防霧或防霜，或對所述基板除霧或除霜。
42.如權利要求40或41所述的應用，其中，所述透明導電性氧化物膜充當電磁頻率接收器。
43.一種包含分散在溶劑中的氧化物量子點的組合物，其中，所述氧化物量子點是結晶性氧化物量子點。
44.如權利要求43所述的組合物，該組合物還包含表面活性劑。
45.一種包含透明導電性氧化物膜的基板，所述膜包含結晶性氧化物量子點。
46.如權利要求45所述的基板，其中，所述氧化物量子點在分散于溶劑中時施涂于所述基板。
47.如權利要求46所述的基板，其中，所述氧化物量子點在分散于所述溶劑中之前是結晶性氧化物量子點。
48.如權利要求45至47中任一項所述的基板，其中，所述基板包含硅、玻璃、聚合物或復合材料。
49.如權利要求45至48中任一項所述的基板，其中，所述基板是透明的。